白光干涉頻域解調(diào)顧名思義是在頻域分析解調(diào)信號(hào),，測(cè)量裝置與時(shí)域解調(diào)裝置幾乎相同,，只需把光強(qiáng)測(cè)量裝置換為CCD或者是光譜儀,，接收到的信號(hào)是光強(qiáng)隨著光波長(zhǎng)的分布。由于時(shí)域解調(diào)中接收到的信號(hào)是一定范圍內(nèi)所有波長(zhǎng)的光強(qiáng)疊加,，因此將頻譜信號(hào)中各個(gè)波長(zhǎng)的光強(qiáng)疊加,，即可得到與它對(duì)應(yīng)的時(shí)域接收信號(hào)。由此可見(jiàn),，頻域的白光干涉條紋不僅包含了時(shí)域白光干涉條紋的所有信息,，還包含了時(shí)域干涉條紋中沒(méi)有的波長(zhǎng)信息。在頻域干涉中,，當(dāng)兩束相干光的光程差遠(yuǎn)大于光源的相干長(zhǎng)度時(shí),，仍可以在光譜儀上觀察到頻域干涉條紋。這是由于光譜儀內(nèi)部的光柵具有分光作用,，能夠?qū)捵V光變成窄帶光譜,，從而增加了光譜的相干長(zhǎng)度。這一解調(diào)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)就是在整個(gè)測(cè)量系統(tǒng)中沒(méi)有使用機(jī)械掃描部件,，從而在測(cè)量的穩(wěn)定性和可靠性上得到很大的提高。常見(jiàn)的頻域解調(diào)方法有峰峰值檢測(cè)法,、傅里葉解調(diào)法以及傅里葉變換白光干涉解調(diào)法等,。總之,，白光干涉膜厚儀是一種應(yīng)用很廣的測(cè)量薄膜厚度的儀器,。納米級(jí)膜厚儀安裝操作注意事項(xiàng)

為了分析白光反射光譜的測(cè)量范圍 ，開(kāi)展了不同壁厚的靶丸殼層白光反射光譜測(cè)量實(shí)驗(yàn),。圖是不同殼層厚度靶丸的白光反射光譜測(cè)量曲線,，如圖所示，對(duì)于殼層厚度30μm的靶丸,，其白光反射光譜各譜峰非常密集,、干涉級(jí)次數(shù)值大；此外,，由于靶丸殼層的吸收,，壁厚較大的靶丸信號(hào)強(qiáng)度相對(duì)較弱。隨著靶丸殼層厚度的進(jìn)一步增加,，其白光反射光譜各譜峰將更加密集,，難以實(shí)現(xiàn)對(duì)各干涉譜峰波長(zhǎng)的測(cè)量。為實(shí)現(xiàn)較大厚度靶丸殼層厚度的白光反射光譜測(cè)量,，需采用紅外的寬譜光源和光譜探測(cè)器,。對(duì)于殼層厚度為μm的靶丸，測(cè)量的波峰相對(duì)較少,，容易實(shí)現(xiàn)靶丸殼層白光反射光譜譜峰波長(zhǎng)的準(zhǔn)確測(cè)量,；隨著靶丸殼層厚度的進(jìn)一步減小,，兩干涉信號(hào)之間的光程差差異非常小，以至于他們的光譜信號(hào)中只有一個(gè)干涉波峰,，基于峰值探測(cè)的白光反射光譜方法難以實(shí)現(xiàn)其厚度的測(cè)量,；為實(shí)現(xiàn)較小厚度靶丸殼層厚度的白光反射光譜測(cè)量，可采用紫外的寬譜光源和光譜探測(cè)器提升其探測(cè)厚度下限,。高精度膜厚儀經(jīng)銷批發(fā)白光干涉膜厚儀是用于測(cè)量薄膜厚度的一種儀器,，可用于透明薄膜和平行表面薄膜的測(cè)量。

晶圓對(duì)于半導(dǎo)體器件至關(guān)重要,，膜厚是影響晶圓物理性質(zhì)的重要參數(shù)之一,。通常對(duì)膜厚的測(cè)量有橢圓偏振法、探針?lè)?、光學(xué)法等,，橢偏法設(shè)備昂貴，探針?lè)ㄓ謺?huì)損傷晶圓表面,。利用光學(xué)原理進(jìn)行精密測(cè)試,，一直是計(jì)量和測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域中的主要方法之一，在光學(xué)測(cè)量領(lǐng)域,，基于干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)已成為物理量檢測(cè)中十分精確的系統(tǒng)之一,。光的干涉計(jì)量與測(cè)試本質(zhì)是以光波的波長(zhǎng)作為單位來(lái)進(jìn)行計(jì)量的，現(xiàn)代的干涉測(cè)試與計(jì)量技術(shù)已能達(dá)到一個(gè)波長(zhǎng)的幾百分之一的測(cè)量精度,，干涉測(cè)量的更大特點(diǎn)是它具有更高的靈敏度（或分辨率）和精度,，。而且絕大部分干涉測(cè)試都是非接觸的,，不會(huì)對(duì)被測(cè)件帶來(lái)表面損傷和附加誤差,；測(cè)量對(duì)象較廣，并不局限于金屬或非金屬,；可以檢測(cè)多參數(shù),，如：長(zhǎng)度、寬度,、直徑,、表面粗糙度、面積,、角度等,。

對(duì)同一靶丸相同位置進(jìn)行白光垂直掃描干涉 ，圖4-3是靶丸的垂直掃描干涉示意圖,，通過(guò)控制光學(xué)輪廓儀的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)干涉物鏡在垂直方向上的移動(dòng),，從而測(cè)量到光線穿過(guò)靶丸后反射到參考鏡與到達(dá)基底直接反射回參考鏡的光線之間的光程差，顯然，當(dāng)一束平行光穿過(guò)靶丸后,，偏離靶丸中心越遠(yuǎn)的光線,，測(cè)量到的有效壁厚越大，其光程差也越大,，但這并不表示靶丸殼層的厚度,，當(dāng)垂直穿過(guò)靶丸中心的光線測(cè)得的光程差才對(duì)應(yīng)靶丸的上、下殼層的厚度,。廣泛應(yīng)用于電子,、半導(dǎo)體、光學(xué),、化學(xué)等領(lǐng)域,，為研究和開(kāi)發(fā)提供了有力的手段。

白光掃描干涉法采用白光為光源,，壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)參考鏡進(jìn)行掃描,，干涉條紋掃過(guò)被測(cè)面，通過(guò)感知相干峰位置來(lái)獲得表面形貌信息,。對(duì)于薄膜的測(cè)量,，上下表面形貌、粗糙度,、厚度等信息能通過(guò)一次測(cè)量得到,，但是由于薄膜上下表面的反射，會(huì)使提取出來(lái)的白光干涉信號(hào)出現(xiàn)雙峰形式,，變得更復(fù)雜,。另外,，由于白光掃描法需要掃描過(guò)程,，因此測(cè)量時(shí)間較長(zhǎng)而且易受外界干擾?；趫D像分割技術(shù)的薄膜結(jié)構(gòu)測(cè)試方法,，實(shí)現(xiàn)了對(duì)雙峰干涉信號(hào)的自動(dòng)分離，實(shí)現(xiàn)了薄膜厚度的測(cè)量,。隨著技術(shù)的進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提高和擴(kuò)展；品牌膜厚儀推薦廠家

白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn),，標(biāo)準(zhǔn)樣品的選擇和使用至關(guān)重要,。納米級(jí)膜厚儀安裝操作注意事項(xiàng)

薄膜作為改善器件性能的重要途徑，被廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代光學(xué) ,、電子 ,、醫(yī)療、能源、建材等技術(shù)領(lǐng)域,。受薄膜制備工藝及生產(chǎn)環(huán)境影響,，成品薄膜存在厚度分布不均、表面粗糙度大等問(wèn)題,，導(dǎo)致其光學(xué)及物理性能達(dá)不到設(shè)計(jì)要求,，嚴(yán)重影響成品的性能及應(yīng)用。隨著薄膜生產(chǎn)技術(shù)的迅速發(fā)展,，準(zhǔn)確測(cè)量和科學(xué)評(píng)價(jià)薄膜特性作為研究熱點(diǎn),，也引起產(chǎn)業(yè)界的高度重視。厚度作為關(guān)鍵指標(biāo)直接影響薄膜工作特性,，合理監(jiān)控薄膜厚度對(duì)于及時(shí)調(diào)整生產(chǎn)工藝參數(shù),、降低加工成本、提高生產(chǎn)效率及企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力等具有重要作用和深遠(yuǎn)意義,。然而,，對(duì)于市場(chǎng)份額占比大的微米級(jí)工業(yè)薄膜，除要求測(cè)量系統(tǒng)不僅具有百納米級(jí)的測(cè)量精度之外,，還要求具備體積小,、穩(wěn)定性好的特點(diǎn)，以適應(yīng)工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境的在線檢測(cè)需求,。目前光學(xué)薄膜測(cè)厚方法仍無(wú)法兼顧高精度,、輕小體積，以及合理的系統(tǒng)成本,，而具備納米級(jí)測(cè)量分辨力的商用薄膜測(cè)厚儀器往往價(jià)格昂貴,、體積較大，且無(wú)法響應(yīng)工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的在線測(cè)量需求,?；谝陨戏治觯菊n題提出基于反射光譜原理的高精度工業(yè)薄膜厚度測(cè)量解決方案,，研制小型化,、低成本的薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)，并提出無(wú)需標(biāo)定樣品的高效穩(wěn)定的膜厚計(jì)算算法,。研發(fā)的系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)微米級(jí)工業(yè)薄膜的厚度測(cè)量,。納米級(jí)膜厚儀安裝操作注意事項(xiàng)