干涉法與分光光度法都是利用相干光形成等厚干涉條紋的原理來確定薄膜厚度和折射率 ,，然而與薄膜自發(fā)產(chǎn)生的等傾干涉不同，干涉法是通過設(shè)置參考光路,，形成與測量光路間的干涉條紋，因此其相位信息包含兩個部分,，分別是由參考平面和測量平面間掃描高度引起的附加相位和由透明薄膜內(nèi)部多次反射引起的膜厚相位。干涉法測量光路使用面陣CCD接收參考平面和測量平面間相干波面的干涉光強分布,，不同于以上三種點測量方式,，可一次性生成薄膜待測區(qū)域的表面形貌信息,，但同時由于存在大量軸向掃描和數(shù)據(jù)解算，完成單次測量的時間相對較長,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于光學元件制造中的薄膜厚度控制,。高精度膜厚儀制造廠家

常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理：入射的白光光束通過半反半透鏡進入到顯微干涉物鏡后，被分光鏡分成兩部分,，一個部分入射到固定的參考鏡,，一部分入射到樣品表面，當參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后,，再次匯聚產(chǎn)生干涉條紋,，干涉光通過透鏡后，利用電荷耦合器(CCD)可探測整個視場內(nèi)雙白光光束的干涉圖像,。利用Z向精密位移臺帶動干涉鏡頭或樣品臺Z向掃描,，可獲得一系列的干涉圖像。根據(jù)干涉圖像序列中對應(yīng)點的光強隨光程差變化曲線,，可得該點的Z向相對位移,；然后，由CCD圖像中每個像素點光強最大值對應(yīng)的Z向位置獲得被測樣品表面的三維形貌,。國產(chǎn)膜厚儀誠信企業(yè)推薦白光干涉膜厚測量技術(shù)可以在不同環(huán)境下進行測量；

薄膜是指分子 ,、原子或者是離子在基底表面沉積形成的一種特殊的二維材料。近幾十年來,，隨著材料科學和鍍膜工藝的不斷發(fā)展,，厚度在納米量級（幾納米到幾百納米范圍內(nèi)）薄膜的研究和應(yīng)用迅速增加,。與體材料相比,，因為納米薄膜的尺寸很小，使得表面積與體積的比值增加,，表面效應(yīng)所表現(xiàn)出的性質(zhì)非常突出,，因而在光學性質(zhì)和電學性質(zhì)上有許多獨特的表現(xiàn)。納米薄膜應(yīng)用于傳統(tǒng)光學領(lǐng)域,，在生產(chǎn)實踐中也得到了越來越廣泛的應(yīng)用,，尤其是在光通訊、光學測量,，傳感,，微電子器件,，生物與醫(yī)學工程等領(lǐng)域的應(yīng)用空間更為廣闊。

本文主要以半導體鍺和貴金屬金兩種材料為對象,，研究了白光干涉法,、表面等離子體共振法和外差干涉法實現(xiàn)納米級薄膜厚度準確測量的可行性,。由于不同材料薄膜的特性不同，所適用的測量方法也不同,。半導體鍺膜具有折射率高，在通信波段（1550nm附近）不透明的特點,，選擇采用白光干涉的測量方法,；而厚度更薄的金膜的折射率為復數(shù)，且能激發(fā)明顯的表面等離子體效應(yīng),，因而可借助基于表面等離子體共振的測量方法；為了進一步改善測量的精度,，論文還研究了外差干涉測量法，通過引入高精度的相位解調(diào)手段,，檢測P光與S光之間的相位差提升厚度測量的精度,。白光干涉膜厚儀是一種可用于測量薄膜厚度的儀器，適用于透明薄膜和平行表面薄膜的測量,。

白光干涉的相干原理早在1975年就被提出,，并在1976年實現(xiàn)了在光纖通信領(lǐng)域中的應(yīng)用,。1983年，Brian Culshaw的研究小組報道了白光干涉技術(shù)在光纖傳感領(lǐng)域中的應(yīng)用,。隨后在1984年，報道了基于白光干涉原理的完整的位移傳感系統(tǒng),。這項研究成果證明了白光干涉技術(shù)可以用于測量能夠轉(zhuǎn)換成位移的物理參量,。此后的幾年中，白光干涉技術(shù)應(yīng)用于溫度,、壓力等的研究也相繼被報道,。自上世紀90年代以來,，白光干涉技術(shù)得到了快速發(fā)展，提供了更多實現(xiàn)測量的解決方案,。近年來,，由于傳感器設(shè)計和研制的進步，信號處理的新方案提出,，以及傳感器的多路復用等技術(shù)的發(fā)展,，使白光干涉測量技術(shù)的發(fā)展更加迅***光干涉膜厚儀是用于測量薄膜厚度的一種儀器，可用于透明薄膜和平行表面薄膜的測量,。測量膜厚儀價格走勢

可測量大氣壓下薄膜厚度在1納米到1毫米之間。高精度膜厚儀制造廠家

與激光光源相比以白光的寬光譜光源由于具有短相干長度的特點使得兩光束只有在光程差極小的情況下才能發(fā)生干涉因此不會產(chǎn)生干擾條紋,。同時由于白光干涉產(chǎn)生的干涉條紋具有明顯的零光程差位置避免了干涉級次不確定的問題。本文以白光干涉原理為理論基礎(chǔ)對單層透明薄膜厚度測量尤其對厚度小于光源相干長度的薄膜厚度測量進行了研究,。首先從白光干涉測量薄膜厚度的原理出發(fā),、分別詳細闡述了白光干涉原理和薄膜測厚原理,。接著在金相顯微鏡的基礎(chǔ)上構(gòu)建了垂直型白光掃描系統(tǒng)作為實驗中測試薄膜厚度的儀器并利用白光干涉原理對的位移量進行了標定。高精度膜厚儀制造廠家