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高精度膜厚儀經(jīng)銷批發(fā)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-05-28

極值法求解過(guò)程計(jì)算簡(jiǎn)單,快速,,同時(shí)確定薄膜的多個(gè)光學(xué)常數(shù)及解決多值性問(wèn)題,,測(cè)試范圍廣,但沒(méi)有考慮薄膜均勻性和基底色散的因素,,以至于精度不夠高,。此外,,由于受曲線擬合精度的限制,該方法對(duì)膜厚的測(cè)量范圍有要求,,通常用這種方法測(cè)量的薄膜厚度應(yīng)大于200nm且小于10μm,,以確保光譜信號(hào)中的干涉波峰數(shù)恰當(dāng)。全光譜擬合法是基于客觀條件或基本常識(shí)來(lái)設(shè)置每個(gè)擬合參數(shù)上限,、下限,,并為該區(qū)域的薄膜生成一組或多組光學(xué)參數(shù)及厚度的初始值,引入適合的色散模型,,再根據(jù)麥克斯韋方程組的推導(dǎo),。這樣求得的值自然和實(shí)際的透過(guò)率和反射率(通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)直接測(cè)量的薄膜透射率或反射率)有所不同,建立評(píng)價(jià)函數(shù),,當(dāng)計(jì)算的透過(guò)率/反射率與實(shí)際值之間的偏差小時(shí),,我們就可以認(rèn)為預(yù)設(shè)的初始值就是要測(cè)量的薄膜參數(shù)。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以應(yīng)用于電子工業(yè)中的薄膜電阻率測(cè)量,;高精度膜厚儀經(jīng)銷批發(fā)

薄膜在現(xiàn)代光學(xué),、電子、醫(yī)療,、能源和建材等技術(shù)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,,可以提高器件性能。但是由于薄膜制備工藝和生產(chǎn)環(huán)境等因素的影響,,成品薄膜存在厚度分布不均和表面粗糙度大等問(wèn)題,,導(dǎo)致其光學(xué)和物理性能無(wú)法達(dá)到設(shè)計(jì)要求,嚴(yán)重影響其性能和應(yīng)用,。因此,,需要開(kāi)發(fā)出精度高、體積小,、穩(wěn)定性好的測(cè)量系統(tǒng)以滿足微米級(jí)工業(yè)薄膜的在線檢測(cè)需求,。當(dāng)前的光學(xué)薄膜測(cè)厚方法無(wú)法同時(shí)兼顧高精度、輕小體積和合理的成本,,而具有納米級(jí)測(cè)量分辨率的商用薄膜測(cè)厚儀器價(jià)格昂貴,、體積大,無(wú)法滿足工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的在線測(cè)量需求,。因此,,提出了一種基于反射光譜原理的高精度工業(yè)薄膜厚度測(cè)量解決方案,研發(fā)了小型化,、低成本的薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),,并提出了一種無(wú)需標(biāo)定樣品的高效穩(wěn)定的膜厚計(jì)算算法。該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)微米級(jí)工業(yè)薄膜的厚度測(cè)量,。國(guó)產(chǎn)膜厚儀量大從優(yōu)隨著技術(shù)的進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展,,白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提高和擴(kuò)展,。

Michelson干涉物鏡,準(zhǔn)直透鏡將白光縮束準(zhǔn)直后垂直照射到待測(cè)晶圓上,,反射光之間相互發(fā)生干涉,,經(jīng)準(zhǔn)直鏡后干涉光強(qiáng)進(jìn)入光纖耦合單元,完成干涉部分,。光纖傳輸?shù)母缮嫘盘?hào)進(jìn)入光譜儀,,計(jì)算機(jī)定時(shí)從光譜儀中采集光譜信號(hào),獲取諸如光強(qiáng),、反射率等信息,,計(jì)算機(jī)對(duì)這些信息進(jìn)行信號(hào)處理,濾除高頻噪聲信息,,然后對(duì)光譜信息進(jìn)行歸一化處理,,利用峰值對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)值,計(jì)算晶圓膜厚,。光源采用氙燈光源,,選擇氙燈作為光源具有以下優(yōu)點(diǎn):氙燈均為連續(xù)光譜,且光譜分布幾乎與燈輸入功率變化無(wú)關(guān),,在壽命期內(nèi)光譜能量分布也幾乎不變,;氙燈的光、電參數(shù)一致性好,,工作狀態(tài)受外界條件變化的影響小,;氙燈具有較高的電光轉(zhuǎn)換效率,,可以輸出高能量的平行光等。

白光掃描干涉法可以避免色光相移干涉法測(cè)量的局限性,。該方法利用白光作為光源,,由于白光是一種寬光譜的光源,相干長(zhǎng)度相對(duì)較短,,因此發(fā)生干涉的位置范圍很小,。在白光干涉時(shí),存在一個(gè)確定的零位置,,當(dāng)測(cè)量光和參考光的光程相等時(shí),,所有波長(zhǎng)的光均會(huì)發(fā)生相長(zhǎng)干涉,此時(shí)可以觀察到一個(gè)明亮的零級(jí)條紋,,同時(shí)干涉信號(hào)也達(dá)到最大值,。通過(guò)分析這個(gè)干涉信號(hào),可以得到被測(cè)物體的幾何形貌,。白光掃描干涉術(shù)是通過(guò)測(cè)量干涉條紋來(lái)完成的,,而干涉條紋的清晰度直接影響測(cè)試精度,。因此,為了提高精度,,需要更為復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng),,這使得條紋的測(cè)量變得費(fèi)力費(fèi)時(shí)。標(biāo)準(zhǔn)樣品的選擇和使用對(duì)于保持儀器準(zhǔn)確度至關(guān)重要,。

常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理:入射的白光光束通過(guò)半反半透鏡進(jìn)入到顯微干涉物鏡后,,被分光鏡分成兩部分,,一個(gè)部分入射到固定參考鏡,,一部分入射到樣品表面,,當(dāng)參考鏡表面和樣品表面的反射光通過(guò)分光鏡后,,再次匯聚發(fā)生干涉,干涉光通過(guò)透鏡后,,利用電荷耦合器(CCD)可探測(cè)整個(gè)視場(chǎng)內(nèi)雙白光光束的干涉圖像,。利用Z向精密位移臺(tái)帶動(dòng)干涉鏡頭或樣品臺(tái)Z向掃描,可獲得一系列干涉圖像,。根據(jù)干涉圖像序列中對(duì)應(yīng)點(diǎn)的光強(qiáng)隨光程差變化曲線,,可得該點(diǎn)的Z向相對(duì)位移;然后,,由CCD圖像中每個(gè)像素點(diǎn)光強(qiáng)最大值對(duì)應(yīng)的Z向位置獲得被測(cè)樣品表面的三維形貌,。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,白光干涉膜厚儀的性能和功能將得到進(jìn)一步提高,。原裝膜厚儀歡迎選購(gòu)

總結(jié),,白光干涉膜厚儀是一種應(yīng)用廣、具有高精度和可靠性的薄膜厚度測(cè)量?jī)x器,。高精度膜厚儀經(jīng)銷批發(fā)

薄膜材料的厚度在納米級(jí)薄膜的各項(xiàng)相關(guān)參數(shù)中,,是制備和設(shè)計(jì)中一個(gè)重要的參量,也是決定薄膜性質(zhì)和性能的關(guān)鍵參量之一,。然而,,由于其極小尺寸及表面效應(yīng)的影響,納米級(jí)薄膜的厚度準(zhǔn)確測(cè)量變得困難,??蒲屑夹g(shù)人員通過(guò)不斷的探索研究,提出了新的薄膜厚度測(cè)量理論和技術(shù),并將測(cè)量方法從手動(dòng)到自動(dòng),、有損到無(wú)損等不斷改進(jìn),。對(duì)于不同性質(zhì)的薄膜,其適用的厚度測(cè)量方案也不相同,。在納米級(jí)薄膜中,,采用光學(xué)原理的測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)精度高、速度快,、無(wú)損測(cè)量等優(yōu)點(diǎn),,成為主要的檢測(cè)手段。典型的測(cè)量方法包括橢圓偏振法,、干涉法,、光譜法、棱鏡耦合法等,。高精度膜厚儀經(jīng)銷批發(fā)