為了提高靶丸內(nèi)爆壓縮效率,，需要確保靶丸所有幾何參數(shù)和物性參數(shù)都符合理想的球?qū)ΨQ狀態(tài)，因此需要對(duì)靶丸殼層厚度分布進(jìn)行精密檢測(cè),。常用的測(cè)量手法有X射線顯微輻照法、激光差動(dòng)共焦法和白光干涉法等,。白光干涉法是以白光作為光源,，分成入射到參考鏡和待測(cè)樣品的兩束光,，在計(jì)算機(jī)管控下進(jìn)行掃描和干涉信號(hào)分析，得到膜的厚度信息,。該方法適用于靶丸殼層厚度的測(cè)量,，但需要已知?dú)硬牧系恼凵渎剩译y以實(shí)現(xiàn)靶丸殼層厚度分布的測(cè)量,?？傊坠飧缮婺ず駜x是一種應(yīng)用很廣的測(cè)量薄膜厚度的儀器,。薄膜膜厚儀推薦

常用白光垂直掃描干涉系統(tǒng)的原理 ：入射的白光光束通過半反半透鏡進(jìn)入到顯微干涉物鏡后,，被分光鏡分成兩部分，一個(gè)部分入射到固定的參考鏡,，一部分入射到樣品表面,，當(dāng)參考鏡表面和樣品表面的反射光通過分光鏡后，再次匯聚發(fā)生干涉,，干涉光通過透鏡后,，利用電荷耦合器(CCD)可探測(cè)整個(gè)視場(chǎng)內(nèi)雙白光光束的干涉圖像。利用Z向精密位移臺(tái)帶動(dòng)干涉鏡頭或樣品臺(tái)Z向掃描,，可獲得一系列的干涉圖像,。根據(jù)干涉圖像序列中對(duì)應(yīng)點(diǎn)的光強(qiáng)隨光程差變化曲線，可得該點(diǎn)的Z向相對(duì)位移,；然后,，由CCD圖像中每個(gè)像素點(diǎn)光強(qiáng)最大值對(duì)應(yīng)的Z向位置獲得被測(cè)樣品表面的三維形貌。國(guó)產(chǎn)膜厚儀價(jià)格走勢(shì)白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)元件制造中的薄膜厚度控制,。

干涉測(cè)量法[9-10]是基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度測(cè)量的光學(xué)方法 ,，是一種高精度的測(cè)量技術(shù)。采用光學(xué)干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)一般具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，成本低廉,，穩(wěn)定性好,，抗干擾能力強(qiáng)，使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),。對(duì)于大多數(shù)的干涉測(cè)量任務(wù),，都是通過薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律，來研究干涉裝置中待測(cè)物理量引入的光程差或者是位相差的變化,，從而達(dá)到測(cè)量目的,。光學(xué)干涉測(cè)量方法的測(cè)量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級(jí)，而利用外差干涉進(jìn)行測(cè)量,，其精度甚至可以達(dá)到10-3nm量級(jí)[11],。根據(jù)所使用光源的不同，干涉測(cè)量方法又可以分為激光干涉測(cè)量和白光干涉測(cè)量?jī)纱箢?。激光干涉測(cè)量的分辨率更高,，但是不能實(shí)現(xiàn)對(duì)靜態(tài)信號(hào)的測(cè)量，只能測(cè)量輸出信號(hào)的變化量或者是連續(xù)信號(hào)的變化，即只能實(shí)現(xiàn)相對(duì)測(cè)量。而白光干涉是通過對(duì)干涉信號(hào)中心條紋的有效識(shí)別來實(shí)現(xiàn)對(duì)物理量的測(cè)量,，是一種測(cè)量方式，在薄膜厚度的測(cè)量中得到了廣泛的應(yīng)用,。

對(duì)同一靶丸相同位置進(jìn)行白光垂直掃描干涉 ，圖4-3是靶丸的垂直掃描干涉示意圖,，通過控制光學(xué)輪廓儀的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)干涉物鏡在垂直方向上的移動(dòng),，從而測(cè)量到光線穿過靶丸后反射到參考鏡與到達(dá)基底直接反射回參考鏡的光線之間的光程差，顯然,，當(dāng)一束平行光穿過靶丸后,，偏離靶丸中心越遠(yuǎn)的光線，測(cè)量到的有效壁厚越大,，其光程差也越大,，但這并不表示靶丸殼層的厚度，當(dāng)垂直穿過靶丸中心的光線測(cè)得的光程差才對(duì)應(yīng)靶丸的上,、下殼層的厚度,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以在不同環(huán)境下進(jìn)行測(cè)量；

由于靶丸自身特殊的特點(diǎn)和極端的實(shí)驗(yàn)條件,，使得靶丸參數(shù)的測(cè)試工作變得異常復(fù)雜,。光學(xué)測(cè)量方法具有無損、非接觸,、測(cè)量效率高、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)勢(shì)，因此成為了測(cè)量靶丸參數(shù)的常用方式,。目前常用于靶丸幾何參數(shù)或光學(xué)參數(shù)測(cè)量的方法有白光干涉法,、光學(xué)顯微干涉法、激光差動(dòng)共焦法等,。然而,，靶丸殼層折射率是沖擊波分時(shí)調(diào)控實(shí)驗(yàn)研究中的重要參數(shù)，因此對(duì)其進(jìn)行精密測(cè)量具有重要意義,。 常用的折射率測(cè)量方法有橢圓偏振法,、折射率匹配法、白光光譜法,、布儒斯特角法等,。白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn)。薄膜干涉膜厚儀制造廠家

光路長(zhǎng)度越長(zhǎng),，分辨率越高,，但同時(shí)也更容易受到靜態(tài)振動(dòng)等干擾因素的影響。薄膜膜厚儀推薦

采用峰峰值法處理光譜數(shù)據(jù)時(shí) ,，被測(cè)光程差的分辨率取決于光譜儀或CCD的分辨率,。我們只需獲得相鄰的兩干涉峰值處的波長(zhǎng)信息即可得出光程差，不必關(guān)心此波長(zhǎng)處的光強(qiáng)大小,，從而降低數(shù)據(jù)處理的難度,。也可以利用多組相鄰的干涉光譜極值對(duì)應(yīng)的波長(zhǎng)來分別求出光程差，然后再求平均值作為測(cè)量光程差,，這樣可以提高該方法的測(cè)量精度,。但是，峰峰值法存在著一些缺點(diǎn)：當(dāng)使用寬帶光源作為輸入光源時(shí),，接收光譜中不可避免地疊加有與光源同分布的背景光,，從而引起峰值處波長(zhǎng)的改變，引入測(cè)量誤差,。同時(shí),，當(dāng)兩干涉信號(hào)之間的光程差很小，導(dǎo)致其干涉光譜只有一個(gè)干涉峰的時(shí)候,，此法便不再適用,。薄膜膜厚儀推薦