針對(duì)靶丸自身獨(dú)特的特點(diǎn)及極端實(shí)驗(yàn)條件需求 ,，使得靶丸參數(shù)的測(cè)試工作變得異常復(fù)雜。如何精確地測(cè)定靶丸的光學(xué)參數(shù),，一直是激光聚變研究者非常關(guān)注的課題,。由于光學(xué)測(cè)量方法具有無(wú)損、非接觸,、測(cè)量效率高,、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)越性，靶丸參數(shù)測(cè)量通常采用光學(xué)測(cè)量方式,。常用的光學(xué)參數(shù)測(cè)量手段很多,，目前，常用于測(cè)量靶丸幾何參數(shù)或光學(xué)參數(shù)的測(cè)量方法有白光干涉法,、光學(xué)顯微干涉法,、激光差動(dòng)共焦法等。靶丸殼層折射率是沖擊波分時(shí)調(diào)控實(shí)驗(yàn)研究中的重要參數(shù),，因此,，精密測(cè)量靶丸殼層折射率十分有意義。而常用的折射率測(cè)量方法[13],，如橢圓偏振法,、折射率匹配法、白光光譜法,、布儒斯特角法等,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的非接觸式測(cè)量；國(guó)產(chǎn)膜厚儀應(yīng)用案例

為限度提高靶丸內(nèi)爆壓縮效率 ,，期望靶丸所有幾何參數(shù),、物性參數(shù)均為理想球?qū)ΨQ(chēng)狀態(tài)。因此,，需要對(duì)靶丸殼層厚度分布進(jìn)行精密的檢測(cè),。靶丸殼層厚度常用的測(cè)量手法有X射線(xiàn)顯微輻照法、激光差動(dòng)共焦法,、白光干涉法等,。下面分別介紹了各個(gè)方法的特點(diǎn)與不足，以及各種測(cè)量方法的應(yīng)用領(lǐng)域,。白光干涉法[30]是以白光作為光源,，寬光譜的白光準(zhǔn)直后經(jīng)分光棱鏡分成兩束光，一束光入射到參考鏡,。一束光入射到待測(cè)樣品,。由計(jì)算機(jī)控制壓電陶瓷(PZT)沿Z軸方向進(jìn)行掃描，當(dāng)兩路之間的光程差為零時(shí),，在分光棱鏡匯聚后再次被分成兩束,，一束光通過(guò)光纖傳輸，并由光譜儀收集,，另一束則被傳遞到CCD相機(jī),，用于樣品觀(guān)測(cè)。利用光譜分析算法對(duì)干涉信號(hào)圖進(jìn)行分析得到薄膜的厚度,。該方法能應(yīng)用靶丸殼層壁厚的測(cè)量,，但是該測(cè)量方法需要已知靶丸殼層材料的折射率，同時(shí),，該方法也難以實(shí)現(xiàn)靶丸殼層厚度分布的測(cè)量,。品牌膜厚儀大概價(jià)格多少白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜的大范圍測(cè)量和分析。

白光干涉光譜分析是目前白光干涉測(cè)量的一個(gè)重要方向 ,，此項(xiàng)技術(shù)主要是利用光譜儀將對(duì)條紋的測(cè)量轉(zhuǎn)變成為對(duì)不同波長(zhǎng)光譜的測(cè)量 ,。通過(guò)分析被測(cè)物體的光譜特性，就能夠得到相應(yīng)的長(zhǎng)度信息和形貌信息,。相比于白光掃描干涉術(shù),，它不需要大量的掃描過(guò)程,，因此提高了測(cè)量效率，而且也減小了環(huán)境對(duì)它的影響,。此項(xiàng)技術(shù)能夠測(cè)量距離、位移,、塊狀材料的群折射率以及多層薄膜厚度,。白干干涉光譜法是基于頻域干涉的理論，采用白光作為寬波段光源,，經(jīng)過(guò)分光棱鏡,，被分成兩束光，這兩束光分別入射到參考面和被測(cè)物體,，反射回來(lái)后經(jīng)過(guò)分光棱鏡合成后,，由色散元件分光至探測(cè)器，記錄頻域上的干涉信號(hào),。此光譜信號(hào)包含了被測(cè)表面的信息,，如果此時(shí)被測(cè)物體是薄膜，則薄膜的厚度也包含在這光譜信號(hào)當(dāng)中,。這樣就把白光干涉的精度和光譜測(cè)量的速度結(jié)合起來(lái),，形成了一種精度高而且速度快的測(cè)量方法。

在納米量級(jí)薄膜的各項(xiàng)相關(guān)參數(shù)中 ,，薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計(jì)和制備過(guò)程中的重要參數(shù),，是決定薄膜性質(zhì)和性能的基本參量之一，它對(duì)于薄膜的光學(xué),、力學(xué)和電磁性能等都有重要的影響[3],。但是由于納米量級(jí)薄膜的極小尺寸及其突出的表面效應(yīng)，使得對(duì)其厚度的準(zhǔn)確測(cè)量變得困難,。經(jīng)過(guò)眾多科研技術(shù)人員的探索和研究,，新的薄膜厚度測(cè)量理論和測(cè)量技術(shù)不斷涌現(xiàn)，測(cè)量方法實(shí)現(xiàn)了從手動(dòng)到自動(dòng),，有損到無(wú)損測(cè)量,。由于待測(cè)薄膜材料的性質(zhì)不同，其適用的厚度測(cè)量方案也不盡相同,。對(duì)于厚度在納米量級(jí)的薄膜,，利用光學(xué)原理的測(cè)量技術(shù)應(yīng)用。相比于其他方法,，光學(xué)測(cè)量方法因?yàn)榫哂芯雀?，速度快，無(wú)損測(cè)量等優(yōu)勢(shì)而成為主要的檢測(cè)手段,。其中具有代表性的測(cè)量方法有橢圓偏振法,，干涉法，光譜法，棱鏡耦合法等,。白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn),。

白光干涉在零光程差處 ，出現(xiàn)零級(jí)干涉條紋,，隨著光程差的增加,，光源譜寬范圍內(nèi)的每條譜線(xiàn)各自形成的干涉條紋之間互有偏移，疊加的整體效果使條紋對(duì)比度下降,。測(cè)量精度高,，可以實(shí)現(xiàn)測(cè)量,采用白光干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)的抗干擾能力強(qiáng)，動(dòng)態(tài)范圍大,，具有快速檢測(cè)和結(jié)構(gòu)緊湊等優(yōu)點(diǎn),。普通的激光干涉與白光干涉之間雖然有差別，但也有很多的共同之處,?？梢哉f(shuō)，白光干涉實(shí)際上就是將白光看作一系列理想的單色光在時(shí)域上的相干疊加,，在頻域上觀(guān)察到的就是不同波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的干涉光強(qiáng)變化曲線(xiàn),。光路長(zhǎng)度越長(zhǎng)，儀器分辨率越高,，但也越容易受到干擾因素的影響,，需要采取降噪措施。品牌膜厚儀大概價(jià)格多少

白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)元件制造中的薄膜厚度管控,。國(guó)產(chǎn)膜厚儀應(yīng)用案例

在白光反射光譜探測(cè)模塊中,，入射光經(jīng)過(guò)分光鏡1分光后 ，一部分光通過(guò)物鏡聚焦到靶丸表面 ,，靶丸殼層上,、下表面的反射光經(jīng)過(guò)物鏡、分光鏡1,、聚焦透鏡,、分光鏡2后，一部分光聚焦到光纖端面并到達(dá)光譜儀探測(cè)器,，可實(shí)現(xiàn)靶丸殼層白光干涉光譜的測(cè)量,，一部分光到達(dá)CCD探測(cè)器，可獲得靶丸表面的光學(xué)圖像,。靶丸吸附轉(zhuǎn)位模塊和三維運(yùn)動(dòng)模塊分別用于靶丸的吸附定位以及靶丸特定角度轉(zhuǎn)位以及靶丸位置的輔助調(diào)整,，測(cè)量過(guò)程中，將靶丸放置于軸系吸嘴前端,，通過(guò)微型真空泵負(fù)壓吸附于吸嘴上,；然后,，移動(dòng)位移平臺(tái)，將靶丸移動(dòng)至CCD視場(chǎng)中心,，通過(guò)Z向位移臺(tái),，使靶丸表面成像清晰；利用光譜儀探測(cè)靶丸殼層的白光反射光譜,；靶丸在軸系的帶動(dòng)下,，平穩(wěn)轉(zhuǎn)位到特定角度，由于軸系的回轉(zhuǎn)誤差,，轉(zhuǎn)位后靶丸可能偏移CCD視場(chǎng)中心，此時(shí)可通過(guò)調(diào)整軸系前端的調(diào)心結(jié)構(gòu),，使靶丸定點(diǎn)位于視場(chǎng)中心并采集其白光反射光譜,；重復(fù)以上步驟，可實(shí)現(xiàn)靶丸特定位置或圓周輪廓白光反射光譜數(shù)據(jù)的測(cè)量,。為減少外界干擾和震動(dòng)而引起的測(cè)量誤差,，該裝置放置于氣浮平臺(tái)上，通過(guò)高性能的隔振效果可保證測(cè)量結(jié)果的穩(wěn)定性,。國(guó)產(chǎn)膜厚儀應(yīng)用案例