白光干涉在零光程差處 ,，出現(xiàn)零級(jí)干涉條紋,，隨著光程差的增加，光源譜寬范圍內(nèi)的每條譜線各自形成的干涉條紋之間互有偏移,，疊加的整體效果使條紋對比度下降,。測量精度高,，可以實(shí)現(xiàn)測量,采用白光干涉原理的測量系統(tǒng)的抗干擾能力強(qiáng)，動(dòng)態(tài)范圍大,，具有快速檢測和結(jié)構(gòu)緊湊等優(yōu)點(diǎn),。普通的激光干涉與白光干涉之間雖然有差別，但也有很多的共同之處,?？梢哉f，白光干涉實(shí)際上就是將白光看作一系列理想的單色光在時(shí)域上的相干疊加,，在頻域上觀察到的就是不同波長對應(yīng)的干涉光強(qiáng)變化曲線,。隨著技術(shù)的進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展，白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提升和擴(kuò)展,。小型膜厚儀行情

極值法求解過程計(jì)算簡單 ,，速度快，同時(shí)確定薄膜的多個(gè)光學(xué)常數(shù)及解決多值性問題,，測試范圍廣,，但沒有考慮薄膜均勻性和基底色散的因素，以至于精度不夠高,。此外,，由于受曲線擬合精度的限制，該方法對膜厚的測量范圍有要求,，通常用這種方法測量的薄膜厚度應(yīng)大于200nm且小于10μm,，以確保光譜信號(hào)中的干涉波峰數(shù)恰當(dāng)。全光譜擬合法是基于客觀條件或基本常識(shí)來設(shè)置每個(gè)擬合參數(shù)上限,、下限,，并為該區(qū)域的薄膜生成一組或多組光學(xué)參數(shù)及厚度的初始值，引入適合的色散模型,，再根據(jù)麥克斯韋方程組的推導(dǎo),。這樣求得的值自然和實(shí)際的透過率和反射率（通過光學(xué)系統(tǒng)直接測量的薄膜透射率或反射率）有所不同，建立評(píng)價(jià)函數(shù),，當(dāng)計(jì)算的透過率/反射率與實(shí)際值之間的偏差小時(shí),，我們就可以認(rèn)為預(yù)設(shè)的初始值就是要測量的薄膜參數(shù)。薄膜膜厚儀生產(chǎn)商白光干涉膜厚測量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對薄膜的快速測量和分析,。

目前 ,，應(yīng)用的顯微干涉方式主要有Mirau顯微干涉和Michelson顯微干涉兩張方式,。在Mirau型顯微干涉結(jié)構(gòu)，在該結(jié)構(gòu)中物鏡和被測樣品之間有兩塊平板,，一個(gè)是涂覆有高反射膜的平板作為參考鏡,，另一塊涂覆半透半反射膜的平板作為分光棱鏡，由于參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,，從而使物鏡外殼更加緊湊,，工作距離相對而言短一些，其倍率一般為10-50倍,，Mirau顯微干涉物鏡參考端使用與測量端相同顯微物鏡,，因此沒有額外的光程差。是常用的方法之一,。

微納制造技術(shù)的發(fā)展推動(dòng)著檢測技術(shù)向微納領(lǐng)域進(jìn)軍 ,，微結(jié)構(gòu)和薄膜結(jié)構(gòu)作為微納器件中的重要組成部分，在半導(dǎo)體,、航天航空,、醫(yī)學(xué)、現(xiàn)代制造等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,，由于其微小和精細(xì)的特征,，傳統(tǒng)檢測方法不能滿足要求。白光干涉法具有非接觸,、無損傷,、高精度等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用在微納檢測領(lǐng)域,，另外光譜測量具有高效率,、測量速度快的優(yōu)點(diǎn)。因此,，本文提出了白光干涉光譜測量方法并搭建了測量系統(tǒng)。和傳統(tǒng)白光掃描干涉方法相比,，其特點(diǎn)是具有較強(qiáng)的環(huán)境噪聲抵御能力,，并且測量速度較快。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以在不同環(huán)境下進(jìn)行測量,；

針對微米級(jí)工業(yè)薄膜厚度測量 ,，研究了基于寬光譜干涉的反射式法測量方法。根據(jù)薄膜干涉及光譜共聚焦原理 ,，綜合考慮成本,、穩(wěn)定性、體積等因素要求,，研制了滿足工業(yè)應(yīng)用的小型薄膜厚度測量系統(tǒng),。根據(jù)波長分辨下的薄膜反射干涉光譜模型,，結(jié)合經(jīng)典模態(tài)分解和非均勻傅里葉變換思想，提出了一種基于相位功率譜分析的膜厚解算算法,，能有效利用全光譜數(shù)據(jù)準(zhǔn)確提取相位變化,，對由環(huán)境噪聲帶來的假頻干擾，具有很好的抗干擾性,。通過對PVC標(biāo)準(zhǔn)厚度片,，PCB板芯片膜層及鍺基SiO2膜層的測量實(shí)驗(yàn)對系統(tǒng)性能進(jìn)行了驗(yàn)證，結(jié)果表明測厚系統(tǒng)具有1~75μm厚度的測量量程,，μm.的測量不確定度,。由于無需對焦，可在10ms內(nèi)完成單次測量,，滿足工業(yè)級(jí)測量高效便捷的應(yīng)用要求,。白光干涉膜厚測量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)元件制造中的薄膜厚度管控。薄膜膜厚儀生產(chǎn)商

隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將得到進(jìn)一步提高,。小型膜厚儀行情

干涉測量法[9-10]是基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)對薄膜厚度測量的光學(xué)方法 ，是一種高精度的測量技術(shù),。采用光學(xué)干涉原理的測量系統(tǒng)一般具有結(jié)構(gòu)簡單,，成本低廉，穩(wěn)定性好,，抗干擾能力強(qiáng),，使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。對于大多數(shù)的干涉測量任務(wù),，都是通過薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律,，來研究干涉裝置中待測物理量引入的光程差或者是位相差的變化，從而達(dá)到測量目的,。光學(xué)干涉測量方法的測量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級(jí),，而利用外差干涉進(jìn)行測量，其精度甚至可以達(dá)到10-3nm量級(jí)[11],。根據(jù)所使用光源的不同,，干涉測量方法又可以分為激光干涉測量和白光干涉測量兩大類。激光干涉測量的分辨率更高,，但是不能實(shí)現(xiàn)對靜態(tài)信號(hào)的測量,，只能測量輸出信號(hào)的變化量或者是連續(xù)信號(hào)的變化，即只能實(shí)現(xiàn)相對測量,。而白光干涉是通過對干涉信號(hào)中心條紋的有效識(shí)別來實(shí)現(xiàn)對物理量的測量,，是一種測量方式，在薄膜厚度的測量中得到了廣泛的應(yīng)用。小型膜厚儀行情