干涉測(cè)量法[9-10]是基于光的干涉原理實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度測(cè)量的光學(xué)方法 ，是一種高精度的測(cè)量技術(shù),。采用光學(xué)干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)一般具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,，成本低廉,，穩(wěn)定性好,，抗干擾能力強(qiáng),，使用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。對(duì)于大多數(shù)的干涉測(cè)量任務(wù),，都是通過(guò)薄膜表面和基底表面之間產(chǎn)生的干涉條紋的形狀和分布規(guī)律,，來(lái)研究干涉裝置中待測(cè)物理量引入的光程差或者是位相差的變化,，從而達(dá)到測(cè)量目的,。光學(xué)干涉測(cè)量方法的測(cè)量精度可達(dá)到甚至優(yōu)于納米量級(jí),，而利用外差干涉進(jìn)行測(cè)量,，其精度甚至可以達(dá)到10-3nm量級(jí)[11],。根據(jù)所使用光源的不同，干涉測(cè)量方法又可以分為激光干涉測(cè)量和白光干涉測(cè)量?jī)纱箢?。激光干涉測(cè)量的分辨率更高,，但是不能實(shí)現(xiàn)對(duì)靜態(tài)信號(hào)的測(cè)量,，只能測(cè)量輸出信號(hào)的變化量或者是連續(xù)信號(hào)的變化,，即只能實(shí)現(xiàn)相對(duì)測(cè)量,。而白光干涉是通過(guò)對(duì)干涉信號(hào)中心條紋的有效識(shí)別來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)物理量的測(cè)量，是一種測(cè)量方式,，在薄膜厚度的測(cè)量中得到了廣泛的應(yīng)用,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)對(duì)不同材料的薄膜進(jìn)行測(cè)量,；國(guó)內(nèi)膜厚儀的用途和特點(diǎn)

微納制造技術(shù)的發(fā)展推動(dòng)著檢測(cè)技術(shù)向微納領(lǐng)域進(jìn)軍 ,，微結(jié)構(gòu)和薄膜結(jié)構(gòu)作為微納器件中的重要組成部分,，在半導(dǎo)體,、航天航空,、醫(yī)學(xué),、現(xiàn)代制造等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，由于其微小和精細(xì)的特征,，傳統(tǒng)檢測(cè)方法不能滿足要求,。白光干涉法具有非接觸,、無(wú)損傷,、高精度等特點(diǎn),，被廣泛應(yīng)用在微納檢測(cè)領(lǐng)域,，另外光譜測(cè)量具有高效率、測(cè)量速度快的優(yōu)點(diǎn),。因此，本文提出了白光干涉光譜測(cè)量方法并搭建了測(cè)量系統(tǒng)。和傳統(tǒng)白光掃描干涉方法相比,，其特點(diǎn)是具有較強(qiáng)的環(huán)境噪聲抵御能力，并且測(cè)量速度較快,。高精度膜厚儀廠家供應(yīng)通過(guò)測(cè)量反射光的干涉來(lái)計(jì)算膜層厚度,，利用膜層與底材的反射率和相位差來(lái)實(shí)現(xiàn)測(cè)量,。

在納米量級(jí)薄膜的各項(xiàng)相關(guān)參數(shù)中 ,，薄膜材料的厚度是薄膜設(shè)計(jì)和制備過(guò)程中的重要參數(shù),，是決定薄膜性質(zhì)和性能的基本參量之一,，它對(duì)于薄膜的光學(xué)、力學(xué)和電磁性能等都有重要的影響[3],。但是由于納米量級(jí)薄膜的極小尺寸及其突出的表面效應(yīng)，使得對(duì)其厚度的準(zhǔn)確測(cè)量變得困難。經(jīng)過(guò)眾多科研技術(shù)人員的探索和研究,，新的薄膜厚度測(cè)量理論和測(cè)量技術(shù)不斷涌現(xiàn),，測(cè)量方法實(shí)現(xiàn)了從手動(dòng)到自動(dòng)，有損到無(wú)損測(cè)量,。由于待測(cè)薄膜材料的性質(zhì)不同,，其適用的厚度測(cè)量方案也不盡相同。對(duì)于厚度在納米量級(jí)的薄膜，利用光學(xué)原理的測(cè)量技術(shù)應(yīng)用,。相比于其他方法,，光學(xué)測(cè)量方法因?yàn)榫哂芯雀?，速度快,，無(wú)損測(cè)量等優(yōu)勢(shì)而成為主要的檢測(cè)手段。其中具有代表性的測(cè)量方法有橢圓偏振法,，干涉法,，光譜法,，棱鏡耦合法等。

薄膜作為重要元件 ,，通常使用金屬,、合金、化合物,、聚合物等作為其主要基材,，品類涵蓋光學(xué)膜、電隔膜,、阻隔膜,、保護(hù)膜、裝飾膜等多種功能性薄膜,，廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代光學(xué),、電子、醫(yī)療,、能源,、建材等技術(shù)領(lǐng)域。常用薄膜的厚度范圍從納米級(jí)到微米級(jí)不等,。納米和亞微米級(jí)薄膜主要是基于干涉效應(yīng)調(diào)制的光學(xué)薄膜,，包括各種增透增反膜、偏振膜,、干涉濾光片和分光膜等,。部分薄膜經(jīng)特殊工藝處理后還具有耐高溫、耐腐蝕,、耐磨損等特性,，對(duì)通訊、顯示,、存儲(chǔ)等領(lǐng)域內(nèi)光學(xué)儀器的質(zhì)量起決定性作用[1-3],，如平面顯示器使用的ITO鍍膜，太陽(yáng)能電池表面的SiO2減反射膜等,。微米級(jí)以上的薄膜以工農(nóng)業(yè)薄膜為主,，多使用聚酯材料，具有易改性,、可回收,、適用范圍廣等特點(diǎn)。例如6微米厚度以下的電容器膜,，20微米厚度以下的大部分包裝印刷用薄膜,，25~38微米厚的建筑玻璃貼膜及汽車貼膜,，以及厚度為25~65微米的防偽標(biāo)牌及拉線膠帶等。微米級(jí)薄膜利用其良好的延展,、密封,、絕緣特性，遍及食品包裝,、表面保護(hù),、磁帶基材、感光儲(chǔ)能等應(yīng)用市場(chǎng),，加工速度快,，市場(chǎng)占比高。白光干涉膜厚儀需要校準(zhǔn),。

根據(jù)以上分析可知 ,，白光干涉時(shí)域解調(diào)方案的優(yōu)點(diǎn)是：①能夠?qū)崿F(xiàn)測(cè)量；②抗干擾能力強(qiáng),，系統(tǒng)的分辨率與光源輸出功率的波動(dòng),，光源的波長(zhǎng)漂移以及外界環(huán)境對(duì)光纖的擾動(dòng)等因素?zé)o關(guān)；③測(cè)量精度與零級(jí)干涉條紋的確定精度以及反射鏡的精度有關(guān),；④結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,，成本較低。但是,，時(shí)域解調(diào)方法需要借助掃描部件移動(dòng)干涉儀一端的反射鏡來(lái)進(jìn)行相位補(bǔ)償,，所以掃描裝置的分辨率將影響系統(tǒng)的精度。采用這種解調(diào)方案的測(cè)量分辨率一般是幾個(gè)微米,，達(dá)到亞微米的分辨率,，主要受機(jī)械掃描部件的分辨率和穩(wěn)定性限制。文獻(xiàn)[46]所報(bào)道的位移掃描的分辨率可以達(dá)到0.54μm,。當(dāng)所測(cè)光程差較小時(shí),，F(xiàn)-P腔前后表面干涉峰值相距很近，難以區(qū)分,，此時(shí)時(shí)域解調(diào)方案的應(yīng)用受到限制,。白光干涉膜厚測(cè)量技術(shù)可以應(yīng)用于光學(xué)元件制造中的薄膜厚度控制。高精度膜厚儀廠家供應(yīng)

當(dāng)光路長(zhǎng)度增加,，儀器的分辨率越高,，也越容易受到靜態(tài)振動(dòng)等干擾因素的影響，需采取一些減小噪聲的措施,。國(guó)內(nèi)膜厚儀的用途和特點(diǎn)

目前 ,，應(yīng)用的顯微干涉方式主要有Mirau顯微干涉和Michelson顯微干涉兩張方式。在Mirau型顯微干涉結(jié)構(gòu),，在該結(jié)構(gòu)中物鏡和被測(cè)樣品之間有兩塊平板,，一個(gè)是涂覆有高反射膜的平板作為參考鏡,，另一塊涂覆半透半反射膜的平板作為分光棱鏡，由于參考鏡位于物鏡和被測(cè)樣品之間,，從而使物鏡外殼更加緊湊,，工作距離相對(duì)而言短一些，其倍率一般為10-50倍,，Mirau顯微干涉物鏡參考端使用與測(cè)量端相同顯微物鏡,，因此沒(méi)有額外的光程差。是常用的方法之一,。國(guó)內(nèi)膜厚儀的用途和特點(diǎn)