Polos光刻機(jī)與弗勞恩霍夫ILT的光束整形技術(shù)結(jié)合，可定制激光輪廓以優(yōu)化能量分布,，減少材料蒸發(fā)和飛濺,，提升金屬3D打印效率7。這種跨領(lǐng)域技術(shù)融合為工業(yè)級(jí)微納制造（如光學(xué)元件封裝）提供新思路,，推動(dòng)智能制造向高精度,、低能耗方向發(fā)展Polos系列broad兼容AZ、SU-8等光刻膠,，通過(guò)優(yōu)化曝光參數(shù)（如能量密度與聚焦深度）實(shí)現(xiàn)不同材料的高質(zhì)量加工,。例如，使用AZ5214E時(shí),，可調(diào)節(jié)光束強(qiáng)度以減少側(cè)壁粗糙度,，提升微結(jié)構(gòu)的功能性。這一特性使其在生物相容性器件（如仿生傳感器）中表現(xiàn)outstanding26,。納 / 微機(jī)械：亞微米級(jí)結(jié)構(gòu)加工,，微型齒輪精度達(dá) ±50nm，推動(dòng)微機(jī)電系統(tǒng)創(chuàng)新。江蘇德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

SPS POLOS μ以桌面化設(shè)計(jì)降低設(shè)備投入成本,，無(wú)需掩膜制備費(fèi)用,。其光束引擎通過(guò)壓電驅(qū)動(dòng)快速掃描,，單次寫(xiě)入?yún)^(qū)域達(dá)400 μm,，支持光刻膠如AZ5214E的高效曝光。研究案例顯示,，該設(shè)備成功制備了間距3 μm的微圖案陣列和叉指電容器,，助力納米材料與柔性電子器件的快速原型驗(yàn)證。無(wú)掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級(jí)圖案化,，無(wú)需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對(duì)于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒(méi)有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢(shì)。浙江光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)空間友好設(shè)計(jì)：占地面積小于 1.2㎡,，小型實(shí)驗(yàn)室也能部署高精度光刻系統(tǒng),。

低成本桌面化光刻：SPS POLOS μ的科研普惠,！Polos系列在微流體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)復(fù)雜3D流道結(jié)構(gòu)的快速成型,。例如，中科院理化所利用類似技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,，研究細(xì)胞浸潤(rùn)行為,，為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結(jié)構(gòu)批量生產(chǎn),，推動(dòng)醫(yī)療診斷芯片研發(fā),，如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。

某人工智能芯片公司利用 Polos 光刻機(jī)開(kāi)發(fā)了基于阻變存儲(chǔ)器（RRAM）的存算一體架構(gòu)。其激光直寫(xiě)技術(shù)在 10nm 厚度的 HfO?介質(zhì)層上實(shí)現(xiàn)了 5nm 的電極邊緣控制,，器件的電導(dǎo)均勻性提升至 95%,，計(jì)算能效比達(dá) 10TOPS/W，較傳統(tǒng) GPU 提升兩個(gè)數(shù)量級(jí),?；谠摷夹g(shù)的邊緣 AI 芯片，在圖像識(shí)別任務(wù)中能耗降低 80%,，推理速度提升 3 倍,，已應(yīng)用于智能攝像頭和無(wú)人機(jī)避障系統(tǒng)，相關(guān)芯片出貨量突破百萬(wàn)片,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。POLOS μ 光刻機(jī)：桌面級(jí)設(shè)計(jì),，2-23μm 可調(diào)分辨率，兼容 4 英寸晶圓,，微機(jī)電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm,。

SPS POLOS μ以緊湊的桌面設(shè)計(jì)降低實(shí)驗(yàn)室設(shè)備投入，光束引擎通過(guò)壓電驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)高速掃描（單次寫(xiě)入400 μm區(qū)域）,。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,，成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器，助力納米材料與柔性電子器件的快速驗(yàn)證,。其無(wú)掩模特性進(jìn)一步減少材料浪費(fèi),，為中小型實(shí)驗(yàn)室提供經(jīng)濟(jì)解決方案62。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。電子學(xué)應(yīng)用：2μm 線寬光刻能力，第三代半導(dǎo)體器件研發(fā)效率提升 3 倍,。上海光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米

實(shí)時(shí)觀測(cè)系統(tǒng)：120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡,，實(shí)現(xiàn)加工過(guò)程動(dòng)態(tài)監(jiān)控,。江蘇德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

某分析化學(xué)實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)開(kāi)發(fā)了集成電化學(xué)傳感器的微流控芯片,。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極，傳感器的檢測(cè)限達(dá) 1nM,，較傳統(tǒng)電化學(xué)工作站提升 100 倍,。通過(guò)軟件輸入不同圖案，可在 24 小時(shí)內(nèi)完成從葡萄糖檢測(cè)到重金屬離子分析的模塊切換,。該芯片被用于即時(shí)檢測(cè)（POCT）設(shè)備,，使現(xiàn)場(chǎng)水質(zhì)監(jiān)測(cè)時(shí)間從 2 小時(shí)縮短至 10 分鐘，相關(guān)設(shè)備已通過(guò)歐盟 CE 認(rèn)證,。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,，開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。江蘇德國(guó)PSP-POLOS光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米