Polos光刻機(jī)在微機(jī)械加工中表現(xiàn)outstanding,。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe系統(tǒng)）,，用戶還能擴(kuò)展至3D微納結(jié)構(gòu)打印,，為微型機(jī)器人及光學(xué)元件提供多尺度制造方案,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢,。緊湊桌面設(shè)計：Polos-BESM系統(tǒng)only占桌面空間,，適合實(shí)驗(yàn)室高效原型開發(fā)。PSP光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

柔性電子是未來可穿戴設(shè)備的core方向,，其電路圖案需適應(yīng)曲面基底,。Polos 光刻機(jī)的無掩模技術(shù)在聚酰亞胺柔性基板上實(shí)現(xiàn)了 2μm 線寬的precise曝光，解決了傳統(tǒng)掩模對準(zhǔn)偏差問題,。某柔性電子研究中心利用該設(shè)備,，開發(fā)出可貼合皮膚的健康監(jiān)測貼片，其傳感器陣列的信號噪聲比提升 60%,。相比光刻膠掩模工藝,，Polos 光刻機(jī)將打樣時間從 72 小時壓縮至 8 小時，加速了柔性電路的迭代優(yōu)化,，推動柔性電子從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)化落地,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。湖北德國PSP-POLOS光刻機(jī)MAX層厚可達(dá)到10微米POLOS μ 光刻機(jī)：微型化機(jī)身,，納米級曝光精度，微流體芯片制備周期縮短 40%,。

在構(gòu)建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡(luò)時,，某生物工程團(tuán)隊(duì)使用 Polos 光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)了跨尺度結(jié)構(gòu)制備。其無掩模技術(shù)在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接,，血管內(nèi)皮細(xì)胞貼壁率達(dá) 95%,，較傳統(tǒng)光刻提升 30%。通過輸入 CT 掃描的真實(shí)肝臟血管數(shù)據(jù),，芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,，使肝細(xì)胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天。該技術(shù)為藥物肝毒性測試提供了接近體內(nèi)環(huán)境的模型,，某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,，相關(guān)成果登上《Lab on a Chip》封面。

德國 Polos 光刻機(jī)系列的一大突出優(yōu)勢,，便是能夠輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。在科研工作中，創(chuàng)新的設(shè)計理念往往需要快速驗(yàn)證,，而 Polos 光刻機(jī)正滿足了這一需求,。科研人員無需花費(fèi)大量時間和成本制作掩模,，只需將設(shè)計圖案導(dǎo)入系統(tǒng),，就能迅速開始光刻作業(yè)。? 在生物醫(yī)學(xué)工程領(lǐng)域,，研究人員利用這一特性,，快速制作出具有特殊結(jié)構(gòu)的生物芯片，用于疾病診斷和藥物篩選,。在材料科學(xué)研究中,，可根據(jù)不同材料特性,，定制獨(dú)特的圖案結(jié)構(gòu)，探索材料的新性能,。這種靈活的圖案輸入方式,，remarkable縮短了科研周期，加速科研成果的產(chǎn)出,，讓科研人員能夠?qū)⒏嗑ν度氲絼?chuàng)新研究中,。生物界面創(chuàng)新：微納結(jié)構(gòu)可控加工，為組織工程提供新型仿生材料解決方案,。

石墨烯,、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉(zhuǎn)移，Polos 光刻機(jī)的激光直寫技術(shù)避免了傳統(tǒng)濕法轉(zhuǎn)移的污染問題,。某納米電子實(shí)驗(yàn)室在 SiO?基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列,，成功制備出石墨烯場效應(yīng)晶體管，其電子遷移率達(dá) 2×10? cm2/(V?s),，接近理論極限,。該技術(shù)支持快速構(gòu)建多種二維材料異質(zhì)結(jié)，使器件研發(fā)效率提升 5 倍,，相關(guān)成果推動二維材料在柔性電子,、量子計算領(lǐng)域的應(yīng)用研究進(jìn)入快車道。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。Polos-BESM XL：大尺寸加工空間,，保留緊湊設(shè)計，科研級精度實(shí)現(xiàn)復(fù)雜結(jié)構(gòu)一次性成型,。江蘇德國BEAM光刻機(jī)

光束引擎高速掃描：SPS POLOS μ單次寫入400 μm區(qū)域,，壓電驅(qū)動提升掃描速度。PSP光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米

細(xì)胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細(xì)胞類型設(shè)計表面微結(jié)構(gòu),，傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫,，難以滿足個性化需求。Polos 光刻機(jī)支持 STL 模型直接導(dǎo)入，某干細(xì)胞研究所在 24 小時內(nèi)完成了神經(jīng)干細(xì)胞三維培養(yǎng)支架的定制加工,。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,，適配不同分化階段的細(xì)胞黏附需求。實(shí)驗(yàn)顯示,，使用該支架的神經(jīng)細(xì)胞軸突生長速度提升 30%,，為神經(jīng)再生機(jī)制研究提供了高效工具，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給生物芯片企業(yè)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機(jī)輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。PSP光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米