柔性電子是未來可穿戴設(shè)備的core方向，其電路圖案需適應(yīng)曲面基底。Polos 光刻機的無掩模技術(shù)在聚酰亞胺柔性基板上實現(xiàn)了 2μm 線寬的precise曝光,，解決了傳統(tǒng)掩模對準偏差問題,。某柔性電子研究中心利用該設(shè)備,，開發(fā)出可貼合皮膚的健康監(jiān)測貼片,，其傳感器陣列的信號噪聲比提升 60%。相比光刻膠掩模工藝,，Polos 光刻機將打樣時間從 72 小時壓縮至 8 小時,，加速了柔性電路的迭代優(yōu)化，推動柔性電子從實驗室走向產(chǎn)業(yè)化落地,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。客戶認可：全球 500 + 客戶滿意度達 98%,，復(fù)購率 75%,，技術(shù)支持響應(yīng)時間 < 2 小時。河南德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

無掩模激光光刻技術(shù)為研究實驗室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具,，可用于創(chuàng)建亞微米級特征,，并促進電路和器件的快速原型設(shè)計。經(jīng)濟高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復(fù)雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù),。應(yīng)用范圍擴展至微機電系統(tǒng) (MEM),、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計和制造，例如以下領(lǐng)域：醫(yī)療（包括微流體）,、半導(dǎo)體,、電子、生物技術(shù)和生命科學(xué),、先進材料研究,。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計在 2022 年達到 3.3606 億美元，預(yù)計到 2028 年將增長至 5.0143 億美元,，復(fù)合年增長率為 6.90%,。由于對 5G,、AIoT、物聯(lián)網(wǎng)以及半導(dǎo)體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長,，預(yù)計未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長,。河北PSP光刻機可以自動聚焦波長成本效益：單次曝光成本低于傳統(tǒng)光刻 1/3，小批量研發(fā)更經(jīng)濟,。

德國 Polos 光刻機系列是電子學(xué)領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備,。其無掩模激光光刻技術(shù)，讓電路圖案曝光不再受限于掩模,，能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制,。在芯片研發(fā)過程中，Polos 光刻機可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu),，為芯片性能提升奠定基礎(chǔ),。? 科研團隊使用 Polos 光刻機，成功開發(fā)出更高效的集成電路,，降低芯片能耗,，提高運算速度。而且,，該光刻機可輕松輸入任意圖案,，滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計需求。無論是新型傳感器的電路制作,，還是微型處理器的研發(fā),，Polos 光刻機都能以高精度、低成本的優(yōu)勢,，為電子學(xué)領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障,，推動電子技術(shù)不斷創(chuàng)新。

在tumor轉(zhuǎn)移機制研究中,，某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構(gòu)建了仿生tumor微環(huán)境芯片,。通過無掩模激光光刻技術(shù)，在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網(wǎng)絡(luò)與間質(zhì)纖維化結(jié)構(gòu),，其中血管直徑可精確控制在 10-50μm,。實驗顯示，該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,，tumor細胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,，且化療藥物滲透效率降低 40%，與臨床數(shù)據(jù)高度吻合,。該團隊通過軟件實時調(diào)整通道曲率和細胞外基質(zhì)密度,，成功復(fù)現(xiàn)了tumor細胞上皮 - 間質(zhì)轉(zhuǎn)化（EMT）過程，相關(guān)成果發(fā)表于《Cancer Research》，并被用于新型抗轉(zhuǎn)移藥物的篩選平臺開發(fā),。光學(xué)超材料突破：光子晶體結(jié)構(gòu)precise制造,，賦能超透鏡與隱身技術(shù)研究。

Polos光刻機與德國Lab14集團,、弗勞恩霍夫研究所等機構(gòu)合作,，推動光子集成與半導(dǎo)體封裝技術(shù)發(fā)展。例如,，Quantum X align系統(tǒng)的高對準精度（100 nm）為光通信芯片提供可靠解決方案,，彰顯德國精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。POLOS μ 光刻機：微型化機身,，納米級曝光精度,，微流體芯片制備周期縮短 40%。BEAM-XL光刻機光源波長405微米

柔性電子制造：可制備叉指電容器與高頻電路,，推動5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展,。河南德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長

某半導(dǎo)體實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)氮化鎵（GaN）基高電子遷移率晶體管（HEMT）。其激光直寫技術(shù)在藍寶石襯底上實現(xiàn)了 50nm 柵極長度的precise曝光,，較傳統(tǒng)光刻工藝線寬偏差降低 60%。通過自定義多晶硅柵極圖案,，器件的電子遷移率達 2000 cm2/(V?s),，擊穿電壓提升至 1200V，遠超商用產(chǎn)品水平,。該技術(shù)還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕,，刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%，助力我國新能源汽車電控系統(tǒng)core器件的國產(chǎn)化突破,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。河南德國POLOS桌面無掩模光刻機可以自動聚焦波長