某分析化學(xué)實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了集成電化學(xué)傳感器的微流控芯片,。其多材料同步曝光技術(shù)在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極,，傳感器的檢測限達(dá) 1nM,，較傳統(tǒng)電化學(xué)工作站提升 100 倍,。通過軟件輸入不同圖案,，可在 24 小時(shí)內(nèi)完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換,。該芯片被用于即時(shí)檢測（POCT）設(shè)備,，使現(xiàn)場水質(zhì)監(jiān)測時(shí)間從 2 小時(shí)縮短至 10 分鐘,，相關(guān)設(shè)備已通過歐盟 CE 認(rèn)證,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。高頻元件驗(yàn)證：成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器,，加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破,。遼寧POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

無掩模激光光刻技術(shù)為研究實(shí)驗(yàn)室提供了一種多功能的納米/微米光刻工具，可用于創(chuàng)建亞微米級特征,，并促進(jìn)電路和器件的快速原型設(shè)計(jì),。經(jīng)濟(jì)高效的桌面配置使研究人員和行業(yè)從業(yè)者無需復(fù)雜的基礎(chǔ)設(shè)施和設(shè)備即可使用光刻技術(shù)。應(yīng)用范圍擴(kuò)展至微機(jī)電系統(tǒng) (MEM),、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計(jì)和制造,，例如以下領(lǐng)域：醫(yī)療（包括微流體）、半導(dǎo)體,、電子,、生物技術(shù)和生命科學(xué)、先進(jìn)材料研究,。全球無掩模光刻系統(tǒng)市場規(guī)模預(yù)計(jì)在 2022 年達(dá)到 3.3606 億美元,，預(yù)計(jì)到 2028 年將增長至 5.0143 億美元，復(fù)合年增長率為 6.90%,。由于對 5G,、AIoT、物聯(lián)網(wǎng)以及半導(dǎo)體電路性能和能耗優(yōu)化的需求不斷增長,，預(yù)計(jì)未來幾十年光刻市場將持續(xù)增長,。江蘇POLOSBEAM-XL光刻機(jī)光源波長405微米微型傳感器量產(chǎn)：80 μm開環(huán)諧振器加工能力，推動(dòng)工業(yè)級MEMS傳感器升級,。

細(xì)胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細(xì)胞類型設(shè)計(jì)表面微結(jié)構(gòu),，傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫，難以滿足個(gè)性化需求,。Polos 光刻機(jī)支持 STL 模型直接導(dǎo)入,，某干細(xì)胞研究所在 24 小時(shí)內(nèi)完成了神經(jīng)干細(xì)胞三維培養(yǎng)支架的定制加工。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm,，適配不同分化階段的細(xì)胞黏附需求,。實(shí)驗(yàn)顯示,，使用該支架的神經(jīng)細(xì)胞軸突生長速度提升 30%，為神經(jīng)再生機(jī)制研究提供了高效工具,，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給生物芯片企業(yè)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性。例如,，其軟件支持GDS文件直接導(dǎo)入,，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程,。研究團(tuán)隊(duì)利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件,，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。低成本科研普惠：桌面化設(shè)計(jì)減少投入,，無掩膜工藝降低中小型實(shí)驗(yàn)室門檻,。

Polos-BESM支持GDS文件直接導(dǎo)入和多層曝光疊加，簡化射頻器件（如IDC電容器）制造流程,。研究團(tuán)隊(duì)利用類似設(shè)備成功制備高頻電路元件,，驗(yàn)證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力,。其高重復(fù)性（0.1 μm）確保科研成果的可轉(zhuǎn)化性,，助力國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破技術(shù)封鎖56,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì),。亞微米級精度：0.8 μmmost小線寬，支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造,。陜西桌面無掩模光刻機(jī)

微流體領(lǐng)域：支持 1-100μm 微通道定制,，助力organ芯片血管網(wǎng)絡(luò)precise建模。遼寧POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸

在organ芯片研究中,，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結(jié)構(gòu),。德國 Polos 光刻機(jī)憑借無掩模激光光刻技術(shù)，幫助科研團(tuán)隊(duì)在 PDMS 材料上構(gòu)建出仿生血管網(wǎng)絡(luò)與組織界面,。某再生醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)室使用 Polos 光刻機(jī),，成功制備出肝芯片微通道，其內(nèi)皮細(xì)胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%,，且可通過軟件實(shí)時(shí)調(diào)整通道曲率,，precise模擬肝臟血流動(dòng)力學(xué)。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期,，為藥物肝毒性測試提供了更真實(shí)的體外模型,，相關(guān)成果入選《自然?生物技術(shù)》年度創(chuàng)新技術(shù)案例。遼寧POLOSBEAM-XL光刻機(jī)MAX基材尺寸4英寸到6英寸