SPS POLOS μ以緊湊的桌面設(shè)計降低實驗室設(shè)備投入,，光束引擎通過壓電驅(qū)動實現(xiàn)高速掃描（單次寫入400 μm區(qū)域）,。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光，成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器,，助力納米材料與柔性電子器件的快速驗證,。其無掩模特性進一步減少材料浪費,，為中小型實驗室提供經(jīng)濟解決方案62。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新：與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布,，提升制造精度,。安徽PSP光刻機分辨率1.5微米

SPS POLOS μ以桌面化設(shè)計降低設(shè)備投入成本，無需掩膜制備費用,。其光束引擎通過壓電驅(qū)動快速掃描,，單次寫入?yún)^(qū)域達400 μm，支持光刻膠如AZ5214E的高效曝光。研究案例顯示,，該設(shè)備成功制備了間距3 μm的微圖案陣列和叉指電容器,，助力納米材料與柔性電子器件的快速原型驗證。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上,，進一步提升了其優(yōu)勢。重慶德國桌面無掩模光刻機光源波長405微米空間友好設(shè)計：占地面積小于 1.2㎡,，小型實驗室也能部署高精度光刻系統(tǒng),。

在制備用于柔性顯示的納米壓印模板時，Polos 光刻機的亞微米級定位精度（±50nm）確保了圖案的均勻復(fù)制,。某光電實驗室使用該設(shè)備,，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透鏡陣列，模板的圖案保真度達 99.8%,，邊緣缺陷率低于 0.1%,。基于此模板生產(chǎn)的柔性 OLED 背光模組,，亮度均勻性提升至 98%,，厚度減至 50μm，成功應(yīng)用于下一代折疊屏手機,，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給三家面板制造商,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。

某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導(dǎo)入,，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),，載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,，該載體在肝臟靶向遞送中,，基因轉(zhuǎn)染效率達 65%，且免疫原性降低 70%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同細胞表面受體定制載體形貌,，在 CAR-T 細胞treatment中,，CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,，相關(guān)技術(shù)已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。掩模制備時間歸零,，科研人員耗時減少 60%,，項目交付周期縮短 50%。

德國Polos-BESM系列光刻機采用無掩模激光直寫技術(shù),，突破傳統(tǒng)光刻對物理掩膜的依賴,，支持用戶通過軟件直接輸入任意圖案進行快速曝光。其亞微米分辨率（most小線寬0.8 μm）和405 nm紫外光源,，可在5英寸晶圓上實現(xiàn)高精度微納結(jié)構(gòu)加工18,。系統(tǒng)體積緊湊，only占桌面空間,，搭配閉環(huán)自動對焦（1秒完成）和半自動多層對準(zhǔn)功能,，大幅提升實驗室原型開發(fā)效率，適用于微流體芯片設(shè)計,、電子元件制造等領(lǐng)域,。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩,。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用,。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢,。光刻膠broad兼容：支持AZ5214E,、SU-8等材料，優(yōu)化參數(shù)降低側(cè)壁粗糙度,。湖北桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

跨學(xué)科應(yīng)用：覆蓋微機械,、光子晶體、仿生傳感器與納米材料合成領(lǐng)域,。安徽PSP光刻機分辨率1.5微米

某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人,。其激光直寫技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu)，機器人在旋轉(zhuǎn)磁場下的推進速度達 50μm/s,，轉(zhuǎn)向精度小于 5°,。通過自定義三維運動軌跡，該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉(zhuǎn)運,，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%,。其輕量化設(shè)計（質(zhì)量 < 1μg）還支持在活細胞表面進行納米級手術(shù)，相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。安徽PSP光刻機分辨率1.5微米