單細(xì)胞分選需要復(fù)雜的流體動力學(xué)控制結(jié)構(gòu)，傳統(tǒng)光刻難以實(shí)現(xiàn)多尺度結(jié)構(gòu)集成,。Polos 光刻機(jī)的分層曝光功能,，在同一片芯片上制備出 5μm 窄縫的細(xì)胞捕獲區(qū)與 50μm 寬的廢液通道，通道高度誤差控制在 ±2% 以內(nèi),。某細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)室利用該芯片,，將單細(xì)胞分選通量提升至 1000 個 / 秒，分選純度達(dá) 98%,，較傳統(tǒng)流式細(xì)胞儀體積縮小 90%,。該技術(shù)已應(yīng)用于循環(huán)tumor細(xì)胞檢測，使稀有細(xì)胞捕獲效率提升 3 倍,，相關(guān)設(shè)備進(jìn)入臨床驗(yàn)證階段,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。德國技術(shù)基因：融合精密光學(xué)與自動化控制，確保設(shè)備高穩(wěn)定性與長壽命,。陜西POLOSBEAM-XL光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

某材料實(shí)驗(yàn)室利用 Polos 光刻機(jī)的亞微米級圖案化能力,，在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊,，使材料表面接觸角達(dá) 165°,，滾動角小于 3°。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后，防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍,。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實(shí)現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合,，被用于微流控芯片的液滴定向輸運(yùn)，液滴驅(qū)動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。遼寧光刻機(jī)基材厚度可達(dá)到0.1毫米至8毫米技術(shù)Benchmark：Polos-μPrinter 入選《半導(dǎo)體技術(shù)》年度創(chuàng)新產(chǎn)品，推動無掩模光刻技術(shù)普及,。

SPS POLOS μ以緊湊的桌面設(shè)計(jì)降低實(shí)驗(yàn)室設(shè)備投入,，光束引擎通過壓電驅(qū)動實(shí)現(xiàn)高速掃描（單次寫入400 μm區(qū)域）。支持AZ5214E等光刻膠的高效曝光,，成功制備3 μm間距微圖案陣列和叉指電容器,，助力納米材料與柔性電子器件的快速驗(yàn)證。其無掩模特性進(jìn)一步減少材料浪費(fèi),，為中小型實(shí)驗(yàn)室提供經(jīng)濟(jì)解決方案62,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。

在微流體研究領(lǐng)域，德國 Polos 光刻機(jī)系列憑借獨(dú)特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術(shù),，打破傳統(tǒng)光刻的局限,，無需掩模就能實(shí)現(xiàn)高精度圖案制作。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時,，可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求自由設(shè)計(jì),，快速完成從圖紙到實(shí)體的轉(zhuǎn)化。?以藥物傳輸研究為例,，利用 Polos 光刻機(jī),，能制造出尺寸precise、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道,，模擬人體環(huán)境,，讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動，much提升藥物傳輸效率研究的準(zhǔn)確性,。同時,，在細(xì)胞培養(yǎng)實(shí)驗(yàn)中，該光刻機(jī)制作的微流體芯片,，為細(xì)胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境,，助力細(xì)胞生物學(xué)研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機(jī),，正推動微流體研究不斷向前,。多材料兼容性：同步加工陶瓷 / PDMS / 金屬，微流控芯片集成電極與通道一步成型,。

超表面通過納米結(jié)構(gòu)調(diào)控光場,，傳統(tǒng)電子束光刻成本高昂且效率低下。Polos 光刻機(jī)的激光直寫技術(shù)在石英基底上實(shí)現(xiàn)了亞波長量級的圖案曝光,，將超表面器件制備成本降低至傳統(tǒng)方法的 1/5,。某光子學(xué)實(shí)驗(yàn)室利用該設(shè)備，研制出寬帶消色差超表面透鏡,，在 400-1000nm 波長范圍內(nèi)成像誤差小于 5μm,。其靈活的圖案編輯功能還支持實(shí)時優(yōu)化結(jié)構(gòu)參數(shù)，使器件研發(fā)周期從數(shù)周縮短至 24 小時,，推動超表面技術(shù)從理論走向集成光學(xué)應(yīng)用,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。POLOS μ 光刻機(jī)：微型化機(jī)身,，納米級曝光精度，微流體芯片制備周期縮短 40%,。安徽PSP光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

微流體領(lǐng)域：支持 1-100μm 微通道定制,，助力organ芯片血管網(wǎng)絡(luò)precise建模。陜西POLOSBEAM-XL光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模

某基因treatment團(tuán)隊(duì)采用 Polos 光刻機(jī)開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體,。通過 STL 模型直接導(dǎo)入,，在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu)，載體的 DNA 負(fù)載量達(dá) 200μg/mg,，較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍,。動物實(shí)驗(yàn)顯示，該載體在肝臟靶向遞送中,，基因轉(zhuǎn)染效率達(dá) 65%,，且免疫原性降低 70%,。其無掩模特性支持根據(jù)不同細(xì)胞表面受體定制載體形貌,，在 CAR-T 細(xì)胞treatment中，CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,，相關(guān)技術(shù)已申請國際patent,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,，為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會,。陜西POLOSBEAM-XL光刻機(jī)不需要緩慢且昂貴的光掩模