作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑,，熱壓花和納米壓印等加工流程,，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn),，同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時間,。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作,，即一步打印多級衍射光學(xué)元件,，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹８嗷叶裙饪碳夹g(shù)詳情,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。上海進(jìn)口灰度光刻微納光刻

    經(jīng)過10年的市場銷售，Nanoscribe已幫助了許多科學(xué)和工業(yè)領(lǐng)域的開拓者和創(chuàng)新的帶領(lǐng)者,，例如,，為ICT生產(chǎn)DOE，微光學(xué)以及光子引線鍵合,。他們的新IP-Visio在30個國家/地區(qū)擁有1,000多個用戶,，受到業(yè)界的強(qiáng)烈關(guān)注。2019年6月該公司推出了一款新型的機(jī)器QuantumX,，使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件,，尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,，“Beer's定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制,，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,，我們的客戶正在微加工的前沿工作。“,。 德國工業(yè)級灰度光刻3D打印更多灰度光刻知識,，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件,，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力,。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻,、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上，會產(chǎn)生場曲,。在商業(yè)生產(chǎn)中,，為了消除場曲這種光學(xué)像差，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進(jìn)行校正,，從而增加了器件復(fù)雜度和成本,。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。

    QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項(xiàng)的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）,。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn),。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)在于：這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下,，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合,，使其同時具備高速打印,，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術(shù),。

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實(shí)現(xiàn)多級衍射光學(xué)元件,，可以直接作為原型使用,，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術(shù)的運(yùn)用,。德國灰度光刻系統(tǒng)

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應(yīng)用,。上海進(jìn)口灰度光刻微納光刻

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡潔性，以及非常廣的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺和研究實(shí)驗(yàn)室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。上海進(jìn)口灰度光刻微納光刻

納糯三維科技（上海）有限公司是一家作為Nanoscribe在中國全資子公司,，納糯三維科技（上海）有限公司可進(jìn)行三維打印科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā),，技術(shù)轉(zhuǎn)讓，技術(shù)咨詢,，技術(shù)服務(wù),，三維打印設(shè)備，光電機(jī)一體化設(shè)備和相關(guān)零配件的批發(fā),，進(jìn)出口,，傭金代理，并提供相關(guān)配套服務(wù),，貿(mào)易信息咨詢,，企業(yè)管理咨詢。的公司，是一家集研發(fā),、設(shè)計(jì),、生產(chǎn)和銷售為一體的專業(yè)化公司。納糯三維深耕行業(yè)多年,，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的PPGT2，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng),，雙光子微納光刻系統(tǒng)。納糯三維始終以本分踏實(shí)的精神和必勝的信念,，影響并帶動團(tuán)隊(duì)取得成功,。納糯三維始終關(guān)注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力,，實(shí)現(xiàn)與客戶的成長共贏。