Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代,，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型,，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準同步,，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面,。該技術(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點,。從而滿足了復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您探討灰度光刻技術(shù)的用途和特點。北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等,。集成光子學可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用，可以很大程度縮小復(fù)雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權(quán)衡對準、效率和寬帶方面的種種要求,。針對這些困難,，科學家們提出了寬帶光纖耦合概念，并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設(shè)備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn),。湖南高分辨率灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)更多灰度光刻技術(shù),，歡迎您致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

    基于雙光子聚合(2PP),，一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度,。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標準?！半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學器件的超快速制造,，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?！?。

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具,。 Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解目前灰度光刻的發(fā)展,。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度,。Quantum X shape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義,。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,，可實現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學,，微流體,，材料工程學中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造,。如需了解德國Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司,。北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解微納3D打印和灰度光刻技術(shù)的區(qū)別,。北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

目前，PPGT2,，Quantum X系列,，雙光子微納激光直寫系統(tǒng)，雙光子微納光刻系統(tǒng)等產(chǎn)品的產(chǎn)量居世界前列,，實驗分析儀器等中產(chǎn)品的市場占比不斷上升,，行業(yè)技術(shù)上總體已達到的中等國際水平，少數(shù)產(chǎn)品接近或達到當前較高國際水平,。由于在重大工程,、工業(yè)裝備和質(zhì)量保證、基礎(chǔ)科研中,，儀器儀表都是必不可少的基礎(chǔ)技術(shù)和裝備重點,，除傳統(tǒng)領(lǐng)域的需求外，新興的智能制造,、離散自動化,、生命科學,、新能源、海洋工程,、軌道交通等領(lǐng)域也會產(chǎn)生巨大需求,。盡管在我國相關(guān)政策的引導(dǎo)和支持下，我國儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展,。但是從貿(mào)易整體上看,，我國的儀器儀表行業(yè)還是落后于國際水平的。重點技術(shù)缺乏,、高精尖產(chǎn)品嚴重依賴進口,、儀器儀表產(chǎn)品同質(zhì)化嚴重、生產(chǎn)工藝落后,、研發(fā)能力弱,、精度不高等問題凸顯，為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來了嚴峻的挑戰(zhàn),。儀器儀表是用以檢測,、測量、觀察,、計算各種物理量,、物質(zhì)成分、物性參數(shù)等的器具或設(shè)備,。真空檢漏儀,、壓力表、測長儀,、顯微鏡,、乘法器等均屬于儀器儀表。近年來,，得益于機械,、冶金、石化行業(yè)等儀器儀表服務(wù)領(lǐng)域經(jīng)營狀況的好轉(zhuǎn),，我國儀器儀表制造業(yè)發(fā)展一路向好,。北京超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

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