由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內的直徑只為mm。德國Nanoscribe雙光子無掩模光刻微納技術你想了解嗎,？歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。海南Nanoscribe無掩膜光刻PPGT

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,，包括導管鞘在內的直徑只為0.457mm。德國高精度無掩膜光刻3D微納加工更多有關3D雙光子無掩模光刻技術和產品咨詢 歡迎聯系Nanoscribe中國分公司 - 納糯三維科技（上海）有限公司,。

QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格,，從而實現亞體素的尺寸控制。此外,，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,，該系統(tǒng)在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制,。QuantumXshape不只是應用于生物醫(yī)學,、微光學、MEMS,、微流道,、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監(jiān)控及多用戶的使用配置，實現推動工業(yè)標準化及基于晶圓批量效率生產,。

全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產中所需手板和模具的定制化精細加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝,。全球較早雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結合起來,。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率,、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度,?？焖佟蚀_的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期,，實現了低成本的微納加工,。憑借著獨有的產品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創(chuàng)新獎。想要了解更多Nanoscribe 3D無掩膜光刻系統(tǒng)信息,，敬請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

雙光子聚合（2PP）是一種可實現比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先,，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制,，適用于納米和微米級打印,；其次制作高達50毫米的目標結構,，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現出色形狀精度和高精度制作,。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果,，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度,，并以1MHz調制速率動態(tài)調整激光功率。QuantumXshape帶有獨特的自動界面查找功能,，可以以低至30納米的精度檢測基板表面,。這種在比較高掃描速度下的納米級精度體現，再加上自校準程序,，可在特別短的時間內實現可靠和準確的打印,，為3D微納加工樹立了新榜樣。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應用于微納光學,、微流體,、材料表面工程、MEMS等其他領域中晶圓級規(guī)模生產的理想工具,。Nanoscribe中國分公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無掩膜光刻系統(tǒng)及技術的發(fā)展前景,。廣東無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

Nanoscribe一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統(tǒng)。海南Nanoscribe無掩膜光刻PPGT

3D微納加工技術應用于材料工程領域,。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調整和定制,。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案，可以實現具有特定光子,，機械,，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,，在納米級,、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版,。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案,。海南Nanoscribe無掩膜光刻PPGT

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