Nanoscribe設(shè)備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機(jī)設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中，激光固化部分液態(tài)光敏材料,，逐層固化。使用雙光子聚合,，分辨率可低至200納米或高達(dá)幾毫米,。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達(dá)100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細(xì)節(jié)的物體,，通常為160納米至毫米范圍,。此外，使用GT2,，用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,，基板，材料和自動化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機(jī)行業(yè)中微透鏡或細(xì)胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求,。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司帶您了解增材制造的工藝過程前處理。Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術(shù)的發(fā)展,，為客戶提供高質(zhì)量,、高效率的解決方案。海南科研Nanoscribe微光學(xué)

    全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細(xì)加工,。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡,、微透鏡陣列和多級衍射光學(xué)元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術(shù)結(jié)合起來,。QuantumX提供了完全的設(shè)計自由度,、高速的打印效率、以及增材制造復(fù)雜結(jié)構(gòu)超光滑表面所需的高精度,?？焖佟?zhǔn)確的增材制造工藝極大地縮短了設(shè)計迭代周期,，實現(xiàn)了低成本的微納加工,。憑借著獨有的產(chǎn)品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創(chuàng)新獎。 北京科研Nanoscribe激光直寫更多有關(guān)增材制造的咨詢,，歡迎致電納糯三維,。

拉曼光譜是針對于有機(jī)組織和生物組織的一種強(qiáng)大的分析技術(shù)，可以根據(jù)樣品的個別光譜指紋對其進(jìn)行定性,，如細(xì)菌,。拉曼散射的固有弱點可以通過金屬化的微納結(jié)構(gòu)表面得到加強(qiáng),，從而創(chuàng)造出與樣品相互作用的信號熱點。在他們的研究中,，科學(xué)家們使用雙光子聚合技術(shù)（2PP）在光纖的表面3D打印了這些微納結(jié)構(gòu),，然后添加上一層薄薄的鍍金涂層。在SERS測量中,，激光被耦合到光纖中并激發(fā)光纖探針的微納結(jié)構(gòu)表面的信號熱點,。在與分析物的相互作用中，SERS信號就可產(chǎn)生并被光纖傳感器收集,。

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案,、順滑的輪廓,、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu),。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,，以及普遍的材料-基板選擇。因此,，它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學(xué)研究項目是這項技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計和制造能力的證明,。Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人等,。

Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,，可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物,，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層。此外,，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE）,，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級,。由于需要多次光刻，刻蝕和對準(zhǔn)工藝,，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。走進(jìn)Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司學(xué)習(xí)增材制造技術(shù),。湖南實驗室Nanoscribe工藝

這項技術(shù)具有快速、精確和可定制的特點,。海南科研Nanoscribe微光學(xué)

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器,、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,，比如激光器,、電光調(diào)制器、光電探測器,、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。海南科研Nanoscribe微光學(xué)