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重慶雙光子灰度光刻激光直寫

來源: 發(fā)布時間:2024-04-14

Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領導地位,,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產品組合實現(xiàn)多樣化,,以滿足不用客戶群的需求,。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,,適用于制造微光學衍射以及折射元件。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工,。重慶雙光子灰度光刻激光直寫

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德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng),,該系統(tǒng)是first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng),可應用于折射和衍射微光學。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領域,。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求,。下面講講在衍射微光學中的應用:多級衍射光學元件雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級,。吉林工業(yè)級灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)灰度光刻技術是一種非接觸,、高精度的光刻技術,具有較高的靈活性和自由度,。

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Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,,適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,,包括仿生表面,,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等,。

   Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,,可以實現(xiàn)微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,,納米顆粒復合物,,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層,。此外,,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)(MEMS),。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設計的上限,,借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能,可以輕松實現(xiàn)球形,,非球形,,自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,并具備出色的光學質量表面和形狀精度,。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),,并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻,,刻蝕和對準工藝,衍射光學元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高,。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件,,可以直接作為原型使用,,也可以作為批量生產母版工具?;叶裙饪碳夹g還可以與其他先進技術相結合,,如直接激光寫入(Direct Laser Writing)等。

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   Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的子公司,,開發(fā)并提供用于納米,、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,,公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術,,對智能手機、手持設備和醫(yī)療技術領域至關重要的3D打印產品,。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,,他們已經為全球的大學和新興行業(yè)提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,,甚至利用他們的技術來開發(fā)創(chuàng)新的設備,,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,,“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,,提供了前所未有的設計自由度和易用性,,我們的客戶正在微加工的前沿工作?!凹{米標記系統(tǒng)基于雙光子吸收,,這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程?;叶裙饪碳夹g可降低成本和提高生產效率,。湖北雙光子灰度光刻無掩膜激光直寫

相比于傳統(tǒng)的二進制光刻技術,灰度光刻技術可以更高效地利用光刻膠,,降低成本,。重慶雙光子灰度光刻激光直寫

將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體,其中吸收的光的強度特別高,。    Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商,,2019年6月25日,南極熊從外媒獲悉,,該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX,。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件,其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,,“Beer's定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,,提供了前所未有的設計自由度和易用性,,我們的客戶正在微加工的前沿工作。重慶雙光子灰度光刻激光直寫