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北京德國(guó)灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-04-14

Nanoscribe公司Photonic Professional GT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“Commercial Micro Manufacturing magazine”(CMM),。Photonic Professional GT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案,。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,,可以通過(guò)激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。另外,,還可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施,。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司灰度光刻技術(shù)可實(shí)現(xiàn)掩膜版的自適應(yīng)優(yōu)化,。北京德國(guó)灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

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Quantum X 新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合,,使其同時(shí)具備高速打印,,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級(jí)復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求,。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具,。而且Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。上海2GL灰度光刻微納光刻N(yùn)anoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘什么是雙光子灰度光刻系統(tǒng)。

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Nanoscribe成立于2007年,,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司,。Nanoscribe憑借其過(guò)硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來(lái)要求自己以滿足客戶的需求,。Nanoscribe將在未來(lái)在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)作工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。歡迎咨詢納糯三維科技(上海)有限公司

   Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的子公司,,開(kāi)發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案,。其口號(hào)是:“我們讓小物件變得重要”,,公司創(chuàng)始人開(kāi)發(fā)出一種技術(shù),對(duì)智能手機(jī),、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品,。通過(guò)基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機(jī)投入市場(chǎng),他們已經(jīng)為全球的大學(xué)和新興行業(yè)提供了新的解決方案,,致力于3D微打印生命科學(xué)研究以及納米級(jí)3D打印光學(xué),,甚至利用他們的技術(shù)來(lái)開(kāi)發(fā)創(chuàng)新的設(shè)備,,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法,,“Beer's定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制,,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù),克服了這些限制,,提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性,,我們的客戶正在微加工的前沿工作,?;叶裙饪碳夹g(shù)將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結(jié)合。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料,。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹(shù)脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一?;叶裙饪碳夹g(shù)自動(dòng)化程度較高,,可以減少人工干預(yù),提高生產(chǎn)效率,。上?;叶裙饪涛⒓{光刻

Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您解析雙光子灰度光刻技術(shù)。北京德國(guó)灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe 的Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格,、木堆型結(jié)構(gòu),、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓,、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。Photonic Professional GT2 結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性,,以及非常廣的材料-基板選擇,。因此,它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,,適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室,。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中,超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明,。歡迎咨詢北京德國(guó)灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)