Nanoscribe設備專注于納米,，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具。在該過程中,，激光固化部分流體光敏材料,，逐層固化。使用雙光子聚合,，分辨率可低至200納米或高達幾毫米,。另一方面，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體,，通常為160納米至毫米范圍,。此外，使用GT2,，用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡,，基板，材料和自動化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求德國Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統(tǒng)- Photonic Professional GT2 (PPGT2),。浙江微納Nanoscribe中國分公司

Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設計自由度，可以在各種預先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作,。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。   四川工業(yè)級Nanoscribe無掩膜光刻Nanoscribe IP 系列光刻膠系列是用于高分辨率微納加工的聚合物打印材料,。

    傳統(tǒng)3D打印難以實現(xiàn)對于復雜設計或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層,。這會明顯增加對于平滑,、曲線或精細結(jié)構(gòu)的打印時間,。雙光子聚合技術(shù)（2PP）則可以解決這個難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）可實現(xiàn)體素調(diào)節(jié),，從而明顯減少打印層數(shù),。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實現(xiàn)的。并且,，這項技術(shù)已從原先適用于,。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®，該技術(shù)具備實現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì),，并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)整激光功率,。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整,，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟,，不產(chǎn)生形狀失真的要求下,，您將獲得具有無瑕疵光學級表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器、光衰減器,、光復用/解復用器以及光放大器等,。集成光子學可較廣地應用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應設備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應用,，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性,。

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光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似,，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器,、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器、光衰減器,、光復用/解復用器以及光放大器等,。集成光子學可較廣地應用于各種領(lǐng)域，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應設備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù)，尤其是微型光子組件應用,，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性，需要權(quán)衡對準,、效率和寬帶方面的種種要求,。

研究人員利用Nanoscribe公司的3D光刻技術(shù)將光學引線鍵合到芯片上，有效地將各種光子集成平臺連接起來,。重慶工業(yè)級Nanoscribe子公司

微納機械系統(tǒng),，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。浙江微納Nanoscribe中國分公司

Nanoscribe獨有的體素調(diào)諧技術(shù)2GL®可以在確保優(yōu)越的打印質(zhì)量的同時兼顧打印速度,，實現(xiàn)自由曲面微光學元件通過3D打印精確對準到光纖或光子芯片的光學軸線上,。NanoscribeQX平臺打印系統(tǒng)配備光纖照明單元用于光纖芯檢測，確保打印精細對準到光纖的光學軸線上,。共焦檢測模塊用于3D基板拓撲構(gòu)圖,，實現(xiàn)在芯片的表面和面上的精細打印對準。Nanoscribe灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®是市場上基于2PP原理微納加工技術(shù)中打印速度**快的,。其動態(tài)體素調(diào)整需要相對較少的打印層次,，即可實現(xiàn)具有光學級別、光滑以及納米結(jié)構(gòu)表面打印結(jié)果,。這意味著在滿足苛刻的打印質(zhì)量要求的同時,，其打印速度遠遠超過任何當前可用的2PP三維打印系統(tǒng)。2GL®作為市場上快的增材制造技術(shù),，非常適用于3D納米和微納加工,，在滿足優(yōu)越打印質(zhì)量的前提下,，其吞吐量相比任何當前雙光子光刻系統(tǒng)都高出10到60倍。浙江微納Nanoscribe中國分公司