光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器,、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,，比如激光器,、電光調制器、光電探測器,、光衰減器,、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,，例如數(shù)據通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,，尤其是微型光子組件應用,，可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。

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IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457?mm,。 

   對于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先,，他們設計了一個定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印。然后,，打印的物體必須與光纖的重點部分完全對齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構,，是對可能傾斜的基材表面的補償,。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設備的應用和光學傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)Quantum X ,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學衍射以及折射元件。 Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quantum X,，適用于制造微光學衍射以及折射元件,。 利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭 使用Nanoscribe的3D微加工技術并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠，可以打印極其復雜的3D微支架,。微納米Nanoscribe無掩膜激光直寫

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雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法,。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能：首先,，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打??；其次制作高達 50 毫米的目標結構，適用于中尺度打印,。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。Quantum X  shape具有先進的激光焦點軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以 1 MHz 調制速率動態(tài)調整激光功率

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