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四川高精度NanoscribeQX

來源: 發(fā)布時間:2024-08-23

   Nanoscribe設備專注于納米,,微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中,,激光固化部分流體光敏材料,,逐層固化,。使用雙光子聚合,,分辨率可低至200納米或高達幾毫米。另一方面,,GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體,,通常為160納米至毫米范圍。此外,,使用GT2,,用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡,基板,,材料和自動化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,用于制作單個元素,。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,,滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求德國Nanoscribe公司于2018年底推出了全新的微納3D打印系統(tǒng)- Photonic Professional GT2 (PPGT2)。四川高精度NanoscribeQX

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Nanoscribe作為一家納米,,微米和中尺度高精度結構增材制造公司,,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案,。Nanoscribe成立于 2007 年,,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案,。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求,。


重慶超高速Nanoscribe無掩膜光刻研究人員利用Nanoscribe公司的3D光刻技術將光學引線鍵合到芯片上,,有效地將各種光子集成平臺連接起來。

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由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,,微光學元件,,機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL ®)系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結構的增材制造,。   

IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,,包括仿生表面,微光學元件,,機械超材料和3D細胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,,包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457?mm,。 更多有關3D微納加工的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國分公司,。

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Nanoscribe的技術在多個領域都有廣泛應用,。在光子學領域,它可以制造光子晶體,、超穎材料,、激光分布回饋術(DFB Lasers)等。在微光學領域,,它可以制造微光學器件和整合型光學,。在微流道技術領域,它可以應用于生醫(yī)芯片系統(tǒng),、物質(zhì)研究開發(fā)與分析以及三維基礎結構等方面,。在生命科學領域,Nanoscribe的技術可以應用于細胞外數(shù)組結構,、干細胞分離術,、細胞成長研究、細胞遷移研究以及組織工程等方面,。此外,,Nanoscribe的技術還可以制造游泳microbots,用于精確高效地將藥物送至身體的目標區(qū)域,,以及制作極小的手術工具,,用于顯微外科手術,。


3D自由曲面耦合器利用全內(nèi)反射,結合Nanoscribe的3D微加工技術可直接在光子芯片上進行3D打印制作,。浙江Nanoscribe上海

Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀,。四川高精度NanoscribeQX

Nanoscribe雙光子光刻技術實現(xiàn)在光子芯表面進行打印 。光子芯片上的光學元件的精確對準,,例如作為光子封裝的光學互連,,是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓撲映射實現(xiàn)的。在nanoPrintX軟件中,,您可以將芯片布局和對準標記添加到打印作業(yè)中,,打印系統(tǒng)會檢測標記并將其與打印作業(yè)進行匹配,以確定光子芯片波導的確切位置和方向,。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實現(xiàn)微光學元件和光學互連具有比較好的光學性能的同時擁有**小耦合損耗,,通過自由空間微光學耦合(FSMOC)實現(xiàn)高效的光耦合,,成為光子封裝的強大解決方案,。四川高精度NanoscribeQX