Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作,。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),,可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,,包括仿生表面,,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等,。 更多有關3D打印的咨詢,,歡迎致電納糯三維。重慶科研Nanoscribe
Nanoscribe設備專注于納米,,微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結構塑料組件和模具。在該過程中,,激光固化部分流體光敏材料,,逐層固化。使用雙光子聚合,,分辨率可低至200納米或高達幾毫米,。另一方面,GT2現(xiàn)在可以在短時間內在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體,,通常為160納米至毫米范圍,。此外,使用GT2,,用戶可以選擇針對其應用定制的多組物鏡,,基板,材料和自動化流程,。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,,用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,,滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學中的花絲支架結構的要求,。
海南科研Nanoscribe激光直寫Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點,。
Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準雙光子光刻技術,,可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3D printing by 2GL®在實現(xiàn)優(yōu)異的打印質量同時兼顧打印速度,,適用于微光學制造和光子封裝領域,。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面,。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調整,,以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟,不產(chǎn)生形狀失真的要求下,,您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀,。
Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型,。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行,。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內調制激光功率來完成,,從而減少多層微制造所需的打印時間,。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,,可制作單個光學元件,、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,,如球面和非球面透鏡。 Nanoscribe的3D打印設備具有高度靈活性和可定制性,,能夠滿足不同行業(yè)的需求,。
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造公司,,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D 微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng),,以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。Nanoscribe成立于 2007 年,,是卡爾斯魯厄理工學院 (KIT) 的衍生公司,。在全球前列大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術和定制應用解決方案,。 Nanoscribe 憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)于主導地位,,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。
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Nanoscribe IP 系列光刻膠系列是用于高分辨率微納加工的聚合物打印材料,。重慶科研Nanoscribe
NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構,、自由設計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及普遍的材料-基板選擇,。因此,,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,,超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的證明。
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