Nanoscribe的Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,，例如用光敏聚合物,，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人,，并可以選擇添加金屬涂層,。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）,。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級,。由于需要多次光刻,，刻蝕和對準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。 通過Nanoscribe技術(shù),，我們可以實現(xiàn)微觀世界的精密控制和制造,。浙江微納NanoscribeQuantum X shape

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域,，諸如力學(xué)超材料,，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程,，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動,，并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍,。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰，結(jié)構(gòu)分類上更明確,。首頁導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息,，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫，公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄,。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求,。 湖南2GLNanoscribe微流道Nanoscribe致力于不斷推動增材制造技術(shù)的發(fā)展，為客戶提供高質(zhì)量,、高效率的解決方案,。

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”,。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面,，微光學(xué)元件,，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡 

Nanoscribe Quantum X align作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù),，可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準(zhǔn)。全新灰度光刻3D打印技術(shù)3D printing by 2GL®在實現(xiàn)優(yōu)異的打印質(zhì)量同時兼顧打印速度,，適用于微光學(xué)制造和光子封裝領(lǐng)域,。3D printing by 2GL®將Nanoscribe的灰度技術(shù)推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調(diào)制激光功率,。這使得聚合的體素得到精確尺寸調(diào)整,，以完美匹配任何3D形狀的輪廓,。在無需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下,，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)表面的任意3D打印設(shè)計的真實完美形狀,。更多有關(guān)3D微納加工的咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit,，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器,、電阻器等電子器件，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件,，比如激光器,、電光調(diào)制器、光電探測器,、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達(dá)系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用,，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接,，可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權(quán)衡對準(zhǔn),、效率和寬帶方面的種種要求,。

Nanoscribe技術(shù)是一種高精度的三維打印技術(shù),。海南工業(yè)級Nanoscribe微納機(jī)器人

科學(xué)家們使用德國Nanoscribe 的3D打印設(shè)備制造了復(fù)雜的微孔膜結(jié)構(gòu)。浙江微納NanoscribeQuantum X shape

Nanoscribe雙光子光刻技術(shù)實現(xiàn)在光子芯表面進(jìn)行打印 ,。光子芯片上的光學(xué)元件的精確對準(zhǔn),，例如作為光子封裝的光學(xué)互連，是通過共聚焦單元提供的高分辨率3D拓?fù)溆成鋵崿F(xiàn)的,。在nanoPrintX軟件中,，您可以將芯片布局和對準(zhǔn)標(biāo)記添加到打印作業(yè)中，打印系統(tǒng)會檢測標(biāo)記并將其與打印作業(yè)進(jìn)行匹配,，以確定光子芯片波導(dǎo)的確切位置和方向,。這確保了基于原理的2PP微納加工系統(tǒng)能實現(xiàn)微光學(xué)元件和光學(xué)互連具有比較好的光學(xué)性能的同時擁有**小耦合損耗,，通過自由空間微光學(xué)耦合（FSMOC）實現(xiàn)高效的光耦合，成為光子封裝的強(qiáng)大解決方案,。浙江微納NanoscribeQuantum X shape