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江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe生物工程

來源: 發(fā)布時間:2024-10-28

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,,也是 BICO集團(tuán)(前身為Cellin)的一部分,,推出了一款新型高精度3D 打印機(jī),用于制造微納米級的精細(xì)結(jié)構(gòu),。據(jù)該公司稱,,新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線,其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”,。它有望顯著提高生命科學(xué),、材料工程、微流體,、微光學(xué),、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng) (MEMS) 應(yīng)用的精度、輸出和可用性,?;陔p光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),,Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu),,在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,,該公司正在通過其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn),。“雖然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術(shù)推動了平面微光學(xué)器件的超快速制造,,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn),。”

Nanoscribe是德國高精度增材制造系統(tǒng)的先驅(qū),。江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe生物工程

江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe生物工程,Nanoscribe

3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域,。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計(jì)來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,,可以實(shí)現(xiàn)具有特定光子,機(jī)械,,生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu),。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性,、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,,在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研,、手板定制,、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,,在納米級,、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。


廣東微納光刻N(yùn)anoscribe激光直寫光固化光刻技術(shù),,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司,。

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IP樹脂作為高效的打印材料,,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,,包括仿生表面,微光學(xué)元件,,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457?mm,。  歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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Nanoscribe對準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,,一種基于場景圖概念的軟件工具,,可用于定義對準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織,用于定義何時,、何地,、以及如何進(jìn)行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征,,例如芯片邊緣和光纖表面,。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,可以識別這些特定的基板標(biāo)記,,并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配,。對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標(biāo)配。納米尺度結(jié)構(gòu)制造,,咨詢納糯三維科技(上海)有限公司,。微納Nanoscribe無掩膜激光直寫

Nanoscribe的打印設(shè)備具有高度3D設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn),而且具備人性化的操作系統(tǒng),。江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe生物工程

對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合(2PP)的一種新型專利納米微納制造技術(shù),。該技術(shù)可以將打印的結(jié)構(gòu)自動對準(zhǔn)到光纖和光子芯片上,例如用于光子封裝中的光學(xué)互連,。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準(zhǔn)點(diǎn)或拓?fù)浠滋卣?,確保對3D打印進(jìn)行高度精確的對準(zhǔn)。 Nanoscribe對準(zhǔn)雙光可光刻技術(shù)搭配nanoPrintX,,一種基于場景圖概念的軟件工具,,可用于定義對準(zhǔn)3D打印的打印項(xiàng)目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)提供了所有與打印相關(guān)的對象和操作的分層組織,,用于定義何時,、何地、以及如何進(jìn)行打印,。在nanoPrintX中可以定義單個對準(zhǔn)標(biāo)記以及基板特征,,例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元,,可以識別這些特定的基板標(biāo)記,,并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進(jìn)行匹配。對準(zhǔn)雙光子光刻技術(shù)和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標(biāo)配,。江蘇微納光刻N(yùn)anoscribe生物工程