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河北微納米雙光子聚合三維光刻

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-12-31

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®),。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格,從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外,,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào),,該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑,同時(shí)保持高精度的形狀控制,。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué),、微光學(xué)、MEMS,、微流道,、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具,同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡易工具,。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實(shí)用性,。通過系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶的使用配置,實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)Quantum X是全球基于雙光子灰度光刻技術(shù)的工業(yè)級微納加工設(shè)備(2GL@).河北微納米雙光子聚合三維光刻

河北微納米雙光子聚合三維光刻,雙光子聚合

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性,,可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人,,并可以選擇添加金屬涂層。此外,,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE),,并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級,。由于需要多次光刻,刻蝕和對準(zhǔn)工藝,,衍射光學(xué)元件(DOE)的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長且成本高,。卡爾斯魯厄雙光子聚合3D光刻雙光子聚合三維微制造系統(tǒng)是一種用于化學(xué)領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器,。

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作為納米,、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關(guān)鍵技術(shù),雙光子聚合技術(shù)(2PP)能在高速打印的同時(shí)確保高精度制作,。結(jié)合極高設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn),,2PP高精度增材制造推動(dòng)著未來技術(shù)在例如生命科學(xué)、微流體,、材料工程,、微機(jī)械 和MEMS等科研和工業(yè)領(lǐng)域應(yīng)用的發(fā)展。Nanoscribe作為2PP微納加工市場人物,,將繼續(xù)突破3D微納加工的極限,?;谕黄菩噪p光子對準(zhǔn)技術(shù)(A2PL@)的Quantum X平臺系列,可以實(shí)現(xiàn)在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學(xué)元件,,助力光子封裝領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)在所有空間方向的納米級對準(zhǔn)和定位,。此外,該系統(tǒng)具備的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL @)是制造具備比較高光學(xué)質(zhì)量的2.5D折射和衍射微光學(xué)器件的好的選擇,,

Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,,實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作,。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制,。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究儀器和多用戶設(shè)施,。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計(jì)的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,;也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。


雙光子聚合可以通過控制激光的光強(qiáng)和聚焦位置來實(shí)現(xiàn)加工的精度和形狀,,表現(xiàn)出很強(qiáng)的可控性。

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Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),,斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭,。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm,。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司帶你了解雙光子聚合技術(shù)及其應(yīng)用前景,。卡爾斯魯厄雙光子聚合3D光刻

雙光子聚合是一種光刻工藝,,主要使用超短脈沖激光來固化液體光敏材料,。河北微納米雙光子聚合三維光刻

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實(shí)現(xiàn)通過簡單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作,。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,,即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造,以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,??偠灾I(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝,,適用于晶圓級批量加工。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,,熱壓花和納米壓印等加工流程,,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。河北微納米雙光子聚合三維光刻