Nanoscribe設(shè)備專注于納米，微米和中等尺寸的增材制造,。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印機設(shè)計用于使用雙光子聚合生產(chǎn)納米和微結(jié)構(gòu)塑料組件和模具,。在該過程中，激光固化部分流體光敏材料,，逐層固化,。使用雙光子聚合，分辨率可低至200納米或高達幾毫米,。另一方面,，GT2現(xiàn)在可以在短時間內(nèi)在高達100×100mm2的打印區(qū)域上生產(chǎn)具有亞微米細節(jié)的物體，通常為160納米至毫米范圍,。此外,，使用GT2，用戶可以選擇針對其應(yīng)用定制的多組物鏡,，基板,，材料和自動化流程。該系統(tǒng)還具有用戶友好的3D打印工作流程,，用于制作單個元素。這些元件可以創(chuàng)造出比較大的形狀精度和表面光滑度,，滿足智能手機行業(yè)中微透鏡或細胞生物學(xué)中的花絲支架結(jié)構(gòu)的要求Nanoscribe技術(shù)是一種高精度的三維打印技術(shù),。四川NanoscribeQuantum X shape

光子集成電路 (Photonic Integrated Circuit，PIC) 與電子集成電路類似，但不同的是電子集成電路集成的是晶體管,、電容器、電阻器等電子器件,，而光子集成電路集成的是各種不同的光學(xué)器件或光電器件，比如激光器,、電光調(diào)制器,、光電探測器,、光衰減器,、光復(fù)用/解復(fù)用器以及光放大器等。集成光子學(xué)可較廣地應(yīng)用于各種領(lǐng)域,，例如數(shù)據(jù)通訊,，激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術(shù)和YL領(lǐng)域中的移動感應(yīng)設(shè)備等,。而光子集成電路這項關(guān)鍵技術(shù),，尤其是微型光子組件應(yīng)用，可以很大程度縮小復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)的尺寸并降低成本,。光子集成電路的關(guān)鍵技術(shù)還在于連接接口,，例如光纖到芯片的連接，可以有效提高集成度和功能性,。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,，需要權(quán)衡對準、效率和寬帶方面的種種要求,。

四川NanoscribeQuantum X shape使用Nanoscribe的3D微加工技術(shù)并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,，可以打印極其復(fù)雜的3D微支架。

對于光纖上打印的SERS探針,，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn),。首先，他們設(shè)計了一個定制的光纖支架,，可以在光纖的切面上打印,。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊,，以激發(fā)制造的拉曼熱點,。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),，是對可能傾斜的基材表面的補償,。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,，例如光纖SERS探頭,，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,，新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)

Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色，并且參與了很多3D打印的項目,，包括等離子體技術(shù),、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目,。如今,，Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團隊的項目為期三年,，名為Miliquant,，由德國聯(lián)邦教育和研究部（簡稱BMBF）提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,，將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,，并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細胞紅外顯微鏡成像之中,。研發(fā)團隊將開展多項實驗,，開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng)，這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,，還需要開發(fā)可靠的組件,，以及組裝和制造的新方法。Nanoscribe是德國高精度增材制造系統(tǒng)的先驅(qū),。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品,，QuantumXshape提升了3D微納加工能力,，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量,?？偠灾I(yè)級QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進的微制造工藝,，適用于晶圓級批量加工,。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用,。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,，同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時間。Nanoscribe的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)微米級別的精確打印,，為科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用提供了全新的可能性,。江蘇實驗室Nanoscribe微機械

Nanoscribe的2PP技術(shù)可用于構(gòu)造包含不同規(guī)模結(jié)構(gòu)的聚合物母版。四川NanoscribeQuantum X shape

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料,。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一,。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,，包括仿生表面,，微光學(xué)元件，機械超材料和3D細胞支架等,。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL ®）系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,。   四川NanoscribeQuantum X shape