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來源: 發(fā)布時間:2025-06-22

事實上,,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,,這篇文獻中還進行了另外一個更厲害的工作,這兩位教授做出了當時世界上特別小的彈簧振子,,其加工分辨率達到了120nm,,超越了衍射極限,同時還沒有使用諸如近場加工之類的不太通用的解決方案,,而是單純的利用了材料的性質(zhì),。微納3D打印和“傳統(tǒng)”3D打印的主要區(qū)別在于,微納3D打印能達到“傳統(tǒng)”3D打印無法達到的高精度,。閔行區(qū)微納3D打印哪家好

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作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),,QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,,例如注塑,,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用,。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,,同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件(如衍射和折射光學(xué)器件)的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作,。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求,。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作,,即一步打印多級衍射光學(xué)元件,,并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設(shè)計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。閔行區(qū)微納3D打印哪家好常見的3D打印技術(shù)有哪些,?歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司,。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),用于快速,,精度非常高的微納加工,,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,,光子和微流控芯片等,,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機械元件的要求,。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機械,,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的,。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作,;也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作,。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學(xué)設(shè)計的上限,,借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)的出色的性能,可以輕松實現(xiàn)球形,,非球形,,自由曲面或復(fù)雜3D微納光學(xué)元件制作,并具備出色的光學(xué)質(zhì)量表面和形狀精度,。

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,,適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件,。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡,。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上,,構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,,包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm,。微納米3D打印公司Nanoscribe,納米精度的樹脂新材料,,打印微創(chuàng)手術(shù)用的微型針頭,,微透鏡精密器件。

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Nanoscribe稱,,QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術(shù)(two-photongrayscalelithography,,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術(shù)正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型,。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),,并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè),。該軟件有程序向?qū)В稍谝婚_始就指導(dǎo)設(shè)計師和工程師完成打印作業(yè),,并能夠接受任意光學(xué)設(shè)計的灰度圖像,。例如,,可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件,,以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造,。在雙光子灰度光刻工藝中,激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位在高掃描速度下可實現(xiàn)同步進行,,以便對每個掃描平面進行全體素大小控制,。Nanoscribe稱,QuantumX在每個掃描區(qū)域內(nèi)可產(chǎn)生簡單和復(fù)雜的光學(xué)形狀,,具有可變的特征高度,。離散和精確的步驟,以及本質(zhì)上為準連續(xù)的形貌,,可以在一個步驟中完成打印,,而不需要多步光刻或多塊掩模制造。微納3D打印推薦納糯三維科技(上海)有限公司,。閔行區(qū)微納3D打印哪家好

Nanoscribe微納米3D打印全方面涉足中國市場,。閔行區(qū)微納3D打印哪家好

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,,而是在孔型支架內(nèi),。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率,。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合透鏡(如圖示),。通過色散透鏡聚焦的光因波長不同焦點位置也不盡相同,。通過組合不同折射率的透鏡可幫助降低透鏡的色差。在給出的例子中,,成像中的熒光強度和折射率高度相關(guān),,同時將打印的雙透鏡中的每個單獨透鏡可視化。閔行區(qū)微納3D打印哪家好