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合肥負(fù)性光刻膠品牌

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-16

以 15% 年研發(fā)投入為驅(qū)動(dòng),吉田半導(dǎo)體加速 EUV 光刻膠與木基材料研發(fā),,搶占行業(yè)制高點(diǎn),。布局下一代光刻技術(shù)。
面對極紫外光刻技術(shù)挑戰(zhàn),,吉田半導(dǎo)體與中科院合作開發(fā)化學(xué)放大型 EUV 光刻膠,,在感光效率(<10mJ/cm2)和耐蝕性(>80%)指標(biāo)上取得階段性進(jìn)展。同時(shí),,公司前瞻性布局木基光刻膠研發(fā),,對標(biāo)日本王子控股技術(shù),探索生物基材料在半導(dǎo)體封裝中的應(yīng)用,。這些技術(shù)儲備為 7nm 及以下制程提供支撐,,助力中國在下一代光刻技術(shù)中占據(jù)重要地位。深圳光刻膠廠家哪家好,?合肥負(fù)性光刻膠品牌

合肥負(fù)性光刻膠品牌,光刻膠

光刻膠(如液晶平板顯示器光刻膠)

  • 液晶平板顯示器制造:在液晶平板顯示器(LCD)的生產(chǎn)過程中,,光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案,包括像素電極,、公共電極,、取向?qū)訄D案等。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果,,如分辨率,、對比度、視角等,。
  • 有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)制造:OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極,、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)。OLED 顯示器具有自發(fā)光,、響應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn),,而光刻膠能保障其精細(xì)的像素結(jié)構(gòu)制作,提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 ,。


廣西阻焊油墨光刻膠感光膠吉田半導(dǎo)體:以技術(shù)革新驅(qū)動(dòng)光刻膠產(chǎn)業(yè)升級,。

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作為中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略,,通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,,成功突破多項(xiàng) “卡脖子” 技術(shù),構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力,。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造,、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域,為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐,。
吉田半導(dǎo)體依托自主研發(fā)中心產(chǎn)學(xué)研合作,,在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項(xiàng)技術(shù)突破:
  • YK-300 正性光刻膠:分辨率達(dá) 0.35μm,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,適用于 45nm 及以上制程,,良率達(dá) 98% 以上,成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,,已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證,。
  • SU-3 負(fù)性光刻膠:支持 3μm 厚膜加工,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,,成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝,,良率提升至 98.5%。
  • JT-2000 納米壓印光刻膠:突破 250℃耐高溫極限,,圖形保真度 > 95%,,性能對標(biāo)德國 MicroResist 系列,已應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,主要涵蓋厚板、負(fù)性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領(lǐng)域的需求,。

UV 納米壓印光刻膠:JT-2000 型號,,耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,耐高溫達(dá) 250°C,,長期可靠性高,,粘接強(qiáng)度高,,重量 100g,。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如半導(dǎo)體器件制造,。

其他光刻膠

  • 水油光刻膠 JT-2001:屬于水油兩用光刻膠,,具有工廠研發(fā)、可定制,、使用,、品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),,重量 1L,。
  • 水油光刻膠 SR-3308:同樣為水油兩用光刻膠,重量 5L,具備上述通用優(yōu)勢,,應(yīng)用場景,。


光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),,全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì),!

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1. 上游原材料:

? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實(shí)現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb),。

? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計(jì)形成噸級訂單,;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線,。

? 溶劑:怡達(dá)股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,,技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn),。

2. 設(shè)備與驗(yàn)證:

? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),驗(yàn)證周期較國際廠商縮短6個(gè)月,;徐州博康實(shí)現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產(chǎn)化,,適配ASML Twinscan NXT系列光刻機(jī)。

? 國內(nèi)企業(yè)通過18-24個(gè)月的晶圓廠驗(yàn)證周期(如中芯國際,、長江存儲),,一旦導(dǎo)入不易被替代。
半導(dǎo)體芯片制造,,用于精細(xì)電路圖案光刻,,決定芯片性能與集成度。廣東阻焊光刻膠生產(chǎn)廠家

厚板光刻膠 JT-3001,,抗深蝕刻,,PCB 電路板制造Preferred!合肥負(fù)性光刻膠品牌

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,,提升行業(yè)生產(chǎn)效率,,通過優(yōu)化材料配方與工藝,吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷等共性問題,,助力客戶降本增效。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題,,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%,。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),,在顯影過程中減少有機(jī)溶劑對有機(jī)半導(dǎo)體的損傷,使芯片良率提升至 99.8%。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本,,推動(dòng)行業(yè)生產(chǎn)效率提升,。合肥負(fù)性光刻膠品牌

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著先進(jìn)的發(fā)展理念,先進(jìn)的管理經(jīng)驗(yàn),,在發(fā)展過程中不斷完善自己,,要求自己,不斷創(chuàng)新,,時(shí)刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,,在廣東省等地區(qū)的電工電氣中匯聚了大量的人脈以及**,在業(yè)界也收獲了很多良好的評價(jià),,這些都源自于自身的努力和大家共同進(jìn)步的結(jié)果,,這些評價(jià)對我們而言是比較好的前進(jìn)動(dòng)力,也促使我們在以后的道路上保持奮發(fā)圖強(qiáng),、一往無前的進(jìn)取創(chuàng)新精神,,努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個(gè)新高度,在全體員工共同努力之下,,全力拼搏將共同吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來,,創(chuàng)造更有價(jià)值的產(chǎn)品,我們將以更好的狀態(tài),,更認(rèn)真的態(tài)度,,更飽滿的精力去創(chuàng)造,去拼搏,,去努力,,讓我們一起更好更快的成長!

標(biāo)簽: 光刻膠