作為東莞松山湖的企業(yè),，吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年，成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，良率達 98% 以上,，已通過中芯國際等晶圓廠驗證,；JT-2000 突破耐高溫極限,，在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性，適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,，產(chǎn)品通過 ISO9001 認證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn)，遠銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,，加速國產(chǎn)替代進程,。松山湖光刻膠廠家吉田，2000 萬級產(chǎn)能,，48小時極速交付!貴州油墨光刻膠多少錢

納米壓印光刻膠

• YK-300 正性光刻膠：分辨率達 0.35μm,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于 45nm 及以上制程,，良率達 98% 以上,，成本較進口產(chǎn)品降低 40%，已通過中芯國際量產(chǎn)驗證,。
• SU-3 負性光刻膠：支持 3μm 厚膜加工,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝,，良率提升至 98.5%,。
• JT-2000 納米壓印光刻膠：突破 250℃耐高溫極限，圖形保真度 > 95%,，性能對標(biāo)德國 MicroResist 系列,，已應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機前道工藝。

吉田半導(dǎo)體光刻膠，45nm 制程驗證,，國產(chǎn)替代方案!貴州油墨光刻膠多少錢

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,，提升行業(yè)生產(chǎn)效率，通過優(yōu)化材料配方與工藝,，吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷等共性問題，助力客戶降本增效,。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,，密集圖形側(cè)壁垂直度達標(biāo)率提升 15%,。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù)，在顯影過程中減少有機溶劑對有機半導(dǎo)體的損傷,，使芯片良率提升至 99.8%,。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本，推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升,。貴州油墨光刻膠多少錢

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著先進的發(fā)展理念,，先進的管理經(jīng)驗，在發(fā)展過程中不斷完善自己,，要求自己,，不斷創(chuàng)新，時刻準(zhǔn)備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,，在廣東省等地區(qū)的電工電氣中匯聚了大量的人脈以及**,，在業(yè)界也收獲了很多良好的評價，這些都源自于自身的努力和大家共同進步的結(jié)果,，這些評價對我們而言是比較好的前進動力,，也促使我們在以后的道路上保持奮發(fā)圖強、一往無前的進取創(chuàng)新精神,，努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個新高度,，在全體員工共同努力之下，全力拼搏將共同吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來,，創(chuàng)造更有價值的產(chǎn)品,，我們將以更好的狀態(tài)，更認真的態(tài)度,，更飽滿的精力去創(chuàng)造,，去拼搏，去努力,，讓我們一起更好更快的成長,！