廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,主要涵蓋厚板,、負(fù)性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,以滿足不同領(lǐng)域的需求,。
厚板光刻膠:JT-3001 型號,,具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,如特定電路板制造,。
負(fù)性光刻膠
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SU-3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
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負(fù)性光刻膠 JT-1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,、良好的對比度和高曝光靈敏度,,光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對光刻精度要求高的領(lǐng)域,,如半導(dǎo)體器件制造,。
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耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100:重量 1L,具備耐腐蝕特性,。適用于有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝,,如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。
吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品矩陣,。廣州3微米光刻膠供應(yīng)商
作為中國半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),,吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略,通過 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,,成功突破多項 “卡脖子” 技術(shù),,構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造,、顯示面板,、精密電子等領(lǐng)域,為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供關(guān)鍵支撐,。
吉田半導(dǎo)體依托自主研發(fā)中心與產(chǎn)學(xué)研合作,,在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項技術(shù)突破:
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YK-300 正性光刻膠:分辨率達(dá) 0.35μm,,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,適用于 45nm 及以上制程,,良率達(dá) 98% 以上,,成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,,已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證。
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SU-3 負(fù)性光刻膠:支持 3μm 厚膜加工,,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,,成功應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片封裝,,良率提升至 98.5%,。
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JT-2000 納米壓印光刻膠:突破 250℃耐高溫極限,,圖形保真度 > 95%,性能對標(biāo)德國 MicroResist 系列,,已應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,。
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吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠:歐盟 RoHS 認(rèn)證,,PCB 電路板制造
憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性,,吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料,。
吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率達(dá) 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,,適用于高密度電路板制造,。產(chǎn)品通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,采用無鹵無鉛配方,,符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率,,確保復(fù)雜線路圖形的成型,,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn),。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持,,助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率,。
公司遵循國際質(zhì)量管理標(biāo)準(zhǔn),,通過 ISO9001:2008 認(rèn)證,,并在生產(chǎn)過程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,,從原料入庫到成品出庫實(shí)現(xiàn)全流程監(jiān)控。以錫膏產(chǎn)品為例,,其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求,,同時具備低飛濺、高潤濕性等特點(diǎn),,適用于電子產(chǎn)品組裝,。此外,公司建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)驗(yàn)室,,配備先進(jìn)檢測設(shè)備,,確保產(chǎn)品性能達(dá)到國際同類水平。
憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠,、焊接材料,、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線,。在焊接材料方面,,不僅提供常規(guī)錫膏,、助焊膏,,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏,、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時,,感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,,兼具耐潮性與易操作性,廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造,。
正性光刻膠生產(chǎn)廠家,。
差異化競爭策略
在高級市場(如ArF浸沒式光刻膠),吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新,,通過優(yōu)化現(xiàn)有配方(如提高酸擴(kuò)散抑制效率)逐步縮小與國際巨頭的差距,;在中低端市場(如PCB光刻膠),,則憑借性價比優(yōu)勢(價格較進(jìn)口產(chǎn)品低20%-30%)快速搶占份額,2023年P(guān)CB光刻膠市占率突破10%,。
前沿技術(shù)儲備
公司設(shè)立納米材料研發(fā)中心,,重點(diǎn)攻關(guān)分子玻璃光刻膠和金屬有機(jī)框架(MOF)光刻膠,,目標(biāo)在5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)EUV光刻膠的實(shí)驗(yàn)室級突破,。此外,其納米壓印光刻膠已應(yīng)用于3D NAND存儲芯片的孔陣列加工,,分辨率達(dá)10nm,,為國產(chǎn)存儲廠商提供了替代方案。
自研自產(chǎn)的光刻膠廠家,。寧波制版光刻膠生產(chǎn)廠家
聚焦封裝需求,,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù)。廣州3微米光刻膠供應(yīng)商
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領(lǐng)域。
LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g,。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,,能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果。
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300:具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,重量 100g,。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,,滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。
耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100:重量 1L,,具有耐腐蝕的特性,,適用于在有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝中,比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。
廣州3微米光刻膠供應(yīng)商