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來源： 發(fā)布時間：2025-06-19

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料

YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇,。
YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝,。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性。產(chǎn)品已通過中芯國際量產(chǎn)驗證,，良率達 98% 以上,，生產(chǎn)過程執(zhí)行 ISO9001 標準，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上,。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求,，為國產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。
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廣東吉田半導體材料有限公司以光刻膠為中心,，逐步拓展至半導體全材料領(lǐng)域,，形成了 “技術(shù)驅(qū)動、全產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋” 的發(fā)展格局,。公司產(chǎn)品不僅包括芯片與 LCD 光刻膠,，還延伸至錫膏、焊片,、靶材等配套材料,，為客戶提供一站式采購服務。

市場與榮譽：
  • 產(chǎn)品遠銷全球 50 多個地區(qū),，客戶包括電子制造服務商（EMS）及半導體廠商,。
  • 獲評 “廣東省專精特新企業(yè)”“廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)”，并通過技術(shù)企業(yè)認證,。
  • 生產(chǎn)基地配備自動化設備,，年產(chǎn)能超千噸，滿足大規(guī)模訂單需求,。
未來展望：
公司計劃進一步擴大研發(fā)中心規(guī)模,，聚焦第三代半導體材料研發(fā),，如 GaN、SiC 相關(guān)光刻膠技術(shù),。同時,，深化全球化布局，在東南亞,、歐洲等地設立分支機構(gòu),，強化本地化服務能力。
沈陽光刻膠價格負性光刻膠生產(chǎn)原料,。

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依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應鏈,，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內(nèi)前段企業(yè),。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體,，實現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm,，附著力 > 3N/cm,，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,，產(chǎn)品覆蓋智能手機,、電視等顯示終端，年供貨量超 200 噸,。公司建立國產(chǎn)原材料溯源體系,，確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性，推動 LCD 面板材料國產(chǎn)化進程,。

憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式,，吉田半導體的材料遠銷全球，并與多家跨國企業(yè)建立長期合作,。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應用于光伏,、儲能等清潔能源領(lǐng)域，助力客戶實現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好,。公司通過導入國際標準認證（如 ISO14001 環(huán)境管理體系）,，進一步強化了在環(huán)保領(lǐng)域的競爭力。

未來,，廣東吉田半導體材料有限公司將繼續(xù)以技術(shù)創(chuàng)新為驅(qū)動,，深化綠色制造戰(zhàn)略，為半導體產(chǎn)業(yè)的低碳化,、可持續(xù)發(fā)展貢獻力量,。以品質(zhì)為依托，深化全球化布局，為半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展注入持續(xù)動力,。
光刻膠是有什么東西,？

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作為東莞松山湖的企業(yè)，吉田半導體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,，成功研發(fā)出 YK-300 半導體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，良率達 98% 以上，已通過中芯國際等晶圓廠驗證,；JT-2000 突破耐高溫極限,，在 250℃復雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性，適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,，產(chǎn)品通過 ISO9001 認證及歐盟 RoHS 標準，遠銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,，加速國產(chǎn)替代進程,。吉田市場定位與未來布局。貴州油墨光刻膠

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 上游原材料：

? 樹脂：彤程新材、鼎龍股份實現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,，金屬雜質(zhì)含量<5ppb（國際標準<10ppb）,。

? 光引發(fā)劑：久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑，累計形成噸級訂單,；威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線,。

? 溶劑：怡達股份電子級PM溶劑全球市占率超40%，與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,，技術(shù)指標達SEMI G5標準,。

設備與驗證：

? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機適配參數(shù)，驗證周期較國際廠商縮短6個月,；徐州博康實現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產(chǎn)化,，適配ASML Twinscan NXT系列光刻機。

? 國內(nèi)企業(yè)通過18-24個月的晶圓廠驗證周期（如中芯國際,、長江存儲）,，一旦導入不易被替代。
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