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廣東LCD光刻膠

來源: 發(fā)布時間:2025-05-06

厚板光刻膠

  • 電路板制造:在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時,,厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩(wěn)定性,比如汽車電子,、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板,能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。
  • 功率器件制造:像絕緣柵雙極晶體管(IGBT)這類功率器件,需要承受高電壓和大電流,,厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié),保障芯片內(nèi)部電路的精細布局,,提高器件的性能和可靠性,。


負(fù)性光刻膠

  • 半導(dǎo)體制造:在芯片制造過程中,用于制作一些對精度要求高,、圖形面積較大的結(jié)構(gòu),,如芯片的金屬互連層,、接觸孔等,。通過負(fù)性光刻膠的曝光和顯影工藝,能實現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移,,確保芯片各部分之間的電氣連接正常,。
  • 平板顯示制造:在液晶顯示器(LCD)和有機發(fā)光二極管顯示器(OLED)的制造中,用于制作電極,、像素等大面積圖案,。以 LCD 為例,負(fù)性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案,,控制液晶分子的排列,,從而實現(xiàn)圖像顯示。


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 上游原材料:

? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb),。

? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計形成噸級訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線,。

? 溶劑:怡達股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,技術(shù)指標(biāo)達SEMI G5標(biāo)準(zhǔn),。

設(shè)備與驗證:

? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機適配參數(shù),,驗證周期較國際廠商縮短6個月;徐州博康實現(xiàn)“單體-樹脂-成品膠”全鏈條國產(chǎn)化,,適配ASML Twinscan NXT系列光刻機,。

? 國內(nèi)企業(yè)通過18-24個月的晶圓廠驗證周期(如中芯國際、長江存儲),,一旦導(dǎo)入不易被替代,。
合肥進口光刻膠生產(chǎn)廠家水性感光膠推薦吉田 JT-1200,精細網(wǎng)點 + 易操作性,!

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 半導(dǎo)體集成電路

? 應(yīng)用場景:

? 晶圓制造:正性膠為主(如ArF/EUV膠),,實現(xiàn)20nm以下線寬,用于晶體管柵極,、接觸孔等精細結(jié)構(gòu),;

? 封裝工藝:負(fù)性膠用于凸點(Bump)制造,厚膠(5-50μm)耐電鍍?nèi)芤焊g,。

? 關(guān)鍵要求:高分辨率,、低缺陷率、耐極端工藝(如150℃以上高溫,、等離子體轟擊),。

 印刷電路板(PCB)

? 應(yīng)用場景:

? 線路成像:負(fù)性膠(如環(huán)化橡膠膠)用于雙面板/多層板外層線路,線寬≥50μm,,耐堿性蝕刻液(如氯化銅),;

? 阻焊層:厚負(fù)性膠(50-100μm)覆蓋非焊盤區(qū)域,耐260℃焊接溫度和助焊劑腐蝕,;

? 撓性PCB(FPC):正性膠用于精細線路(線寬≤20μm),,需耐彎曲應(yīng)力。

? 優(yōu)勢:工藝簡單,、成本低,,適合大面積基板(如1.2m×1.0m的PCB基板)。

 平板顯示

? 應(yīng)用場景:

? 彩色濾光片:正性膠制作黑矩陣(BM)和RGB色阻間隔層,,耐UV固化和濕法蝕刻(如HF溶液),;

? OLED像素定義:負(fù)性膠形成像素開口(孔徑5-50μm),耐有機溶劑(如OLED蒸鍍前的清洗液),;

? 觸控面板:正性膠制作透明電極(如ITO線路),,線寬≤10μm,,需透光率>90%。

? 關(guān)鍵參數(shù):高透光性,、低收縮率(避免圖案變形),。

光刻膠系列

厚板光刻膠 JT - 3001,具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能,,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,;

水油光刻膠 SR - 3308,,容量 5L;SU - 3 負(fù)性光刻膠,,分辨率優(yōu)異,,對比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g;

液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,,分辨率高,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好,;

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,,耐強酸強堿,耐高溫達 250°C,,長期可靠性高,,粘接強度高,重量 100g,;

LCD 正性光刻膠 YK - 200,,具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力,重量 100g,;

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,,具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,,重量 100g;

耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,,重量 1L,。 自研自產(chǎn)的光刻膠廠家,。

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應(yīng)用場景

 半導(dǎo)體集成電路(IC)制造:

? 邏輯芯片(CPU/GPU):在28nm以下制程中,正性DUV/EUV膠用于晶體管,、互連布線的精細圖案化(如10nm節(jié)點線寬只有100nm),。

? 存儲芯片(DRAM/NAND):3D堆疊結(jié)構(gòu)中,正性膠用于層間接觸孔(Contact)和柵極(Gate)的高深寬比圖形(深寬比>10:1),。

 平板顯示(LCD/OLED):

? 彩色濾光片(CF):制作黑矩陣(BM)和彩色層(R/G/B),,要求高透光率和邊緣銳利度(線寬5-10μm)。

? OLED電極:在柔性基板上形成微米級透明電極,,需低應(yīng)力膠膜防止基板彎曲變形,。

 印刷電路板(PCB):

? 高密度互連(HDI):用于細線路(線寬/線距≤50μm),如智能手機主板,,相比負(fù)性膠,,正性膠可實現(xiàn)更精細的線路邊緣。

 微納加工與科研:

? MEMS傳感器:制作微米級懸臂梁,、齒輪等結(jié)構(gòu),,需耐干法蝕刻的正性膠(如含硅樹脂膠)。

? 納米光刻:電子束光刻膠(正性為主)用于研發(fā)級納米圖案(分辨率<10nm),。
松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載,,提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案。合肥進口光刻膠生產(chǎn)廠家

負(fù)性光刻膠生產(chǎn)廠家,。廣東LCD光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強大,。

在光刻膠領(lǐng)域,芯片光刻膠為芯片制造中的精細光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持,,確保芯片線路的精細刻畫,;

納米壓印光刻膠適用于微納加工,助力制造超精細的微納結(jié)構(gòu),;

LCD 光刻膠則滿足液晶顯示面板生產(chǎn)過程中的光刻需求,,保障面板成像質(zhì)量。

在電子焊接方面,,半導(dǎo)體錫膏與焊片性能,,能實現(xiàn)可靠的電氣連接,廣泛應(yīng)用于各類電子設(shè)備組裝,。

靶材產(chǎn)品在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用,,通過精細控制材料沉積,為半導(dǎo)體器件制造提供高質(zhì)量的薄膜材料,。憑借出色品質(zhì),,遠銷全球,深受眾多世界 500 強企業(yè)和電子加工企業(yè)青睞 ,。 廣東LCD光刻膠

標(biāo)簽: 錫片 光刻膠