山西低溫光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

來(lái)源：發(fā)布時(shí)間：2025-05-20

作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè),，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將環(huán)保理念融入產(chǎn)品研發(fā)與生產(chǎn)全流程,。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì),，持續(xù)推出符合國(guó)際環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體材料解決方案,。

公司在錫膏、焊片等產(chǎn)品中采用無(wú)鹵無(wú)鉛配方,，嚴(yán)格遵循 RoHS 指令要求,，避免使用有害物質(zhì)。以錫膏為例,，其零鹵素配方通過(guò)第三方機(jī)構(gòu)認(rèn)證,，不僅減少了電子產(chǎn)品廢棄后的環(huán)境負(fù)擔(dān)，還提升了焊接可靠性,，適用于新能源汽車(chē),、精密電子設(shè)備等領(lǐng)域。同時(shí),，納米壓印光刻膠與 LCD 光刻膠的生產(chǎn)過(guò)程中,，公司通過(guò)優(yōu)化原料配比，減少揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）排放,，確保產(chǎn)品符合歐盟 REACH 法規(guī),。

光刻膠的顯示面板領(lǐng)域。山西低溫光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域

光刻膠是微電子制造的主要材料,，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

半導(dǎo)體制造

? 功能：在晶圓表面形成微細(xì)電路圖案,，作為蝕刻或離子注入的掩膜,。

? 分類(lèi)：

? 正性光刻膠：曝光區(qū)域溶解于顯影液，形成與掩膜版一致的圖案（主流,，分辨率高）,。

? 負(fù)性光刻膠：未曝光區(qū)域溶解，形成反向圖案（用于早期工藝,，耐蝕刻性強(qiáng)）,。

? 技術(shù)演進(jìn)：隨制程精度提升，需匹配不同曝光波長(zhǎng)（紫外UV,、深紫外DUV,、極紫外EUV），例如EUV光刻膠用于7nm以下制程,。

平板顯示（LCD/OLED）

? 彩色濾光片（CF）：在玻璃基板上制作紅/綠/藍(lán)像素單元,，光刻膠用于圖案化黑矩陣（BM）、彩色層（R/G/B）和保護(hù)層,。

? 電極圖案：制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽(yáng)極,，需高透光率和精細(xì)邊緣控制。

印刷電路板（PCB）

? 線路蝕刻：在覆銅板上涂膠,，曝光顯影后保留線路區(qū)域,，蝕刻去除未保護(hù)的銅箔，形成導(dǎo)電線路,。

? 阻焊與字符層：阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域,，防止短路；字符膠用于印刷電路板標(biāo)識(shí),。

LED與功率器件

? 芯片制造：在藍(lán)寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu),，需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠。

? Micro-LED：微米級(jí)芯片轉(zhuǎn)移和陣列化,，依賴(lài)超高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）,。

廣西PCB光刻膠國(guó)產(chǎn)廠商深圳光刻膠廠家哪家好？

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),，是一家專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料研發(fā),、生產(chǎn)與銷(xiāo)售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元,，擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn),，產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠,、LCD 光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏,、焊片及靶材等,，服務(wù)全球市場(chǎng)并與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作關(guān)系。

作為國(guó)家技術(shù)企業(yè)，吉田半導(dǎo)體以科技創(chuàng)新為驅(qū)動(dòng)力,，擁有多項(xiàng)技術(shù),，并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量體系認(rèn)證。生產(chǎn)過(guò)程嚴(yán)格遵循 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn),，原材料均采用美,、德、日等國(guó)進(jìn)口的材料,，確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠,。公司配備全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備，具備行業(yè)大型的規(guī)?；a(chǎn)能力,，致力于成為 “半導(dǎo)體材料方案提供商”。

其明星產(chǎn)品包括：適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300,，具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能,；3 微米負(fù)性光刻膠 SU-3，適用于厚膜工藝,；耐高溫達(dá) 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000,，可滿足高精度微納加工需求。所有產(chǎn)品均符合要求,，部分型號(hào)通過(guò)歐盟 ROHS 認(rèn)證,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),，注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元,。作為高新企業(yè)和廣東省專(zhuān)精特新企業(yè)，公司專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料的研發(fā),、生產(chǎn)與銷(xiāo)售,，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠,、納米壓印光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等領(lǐng)域,。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率,、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱(chēng)，廣泛應(yīng)用于芯片制造,、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn),。

公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)積累，構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系,，擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備及多項(xiàng)技術(shù),。原材料均選用美國(guó),、德國(guó)、日本進(jìn)口的材料,，并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證,，生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn)，確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性,。目前,，吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作，產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球市場(chǎng),，致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),。

感光膠的工藝和應(yīng)用。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類(lèi)別,，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號(hào),，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,，耐高溫達(dá) 250°C，長(zhǎng)期可靠性高,，粘接強(qiáng)度高,，重量 100g。適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,，如半導(dǎo)體器件制造,。

其他光刻膠

水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā),、可定制,、使用、品質(zhì)保障,、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),，重量 1L。
水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠,，重量 5L,，具備上述通用優(yōu)勢(shì)，應(yīng)用場(chǎng)景,。

厚板光刻膠 JT-3001,，抗深蝕刻，PCB 電路板制造Preferred!吉林負(fù)性光刻膠廠家

光刻膠：半導(dǎo)體之路上的挑戰(zhàn)與突破,。山西低溫光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家

? 化學(xué)反應(yīng)：

? 正性膠：曝光后光敏劑（如重氮醌DQN）分解,，生成羧酸,，在堿性顯影液中溶解；

? 負(fù)性膠：曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹(shù)脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。

5. 顯影（Development）

? 顯影液：

? 正性膠：堿性水溶液（如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH）,，溶解曝光區(qū)域,；

? 負(fù)性膠：有機(jī)溶劑（如二甲苯,、醋酸丁酯），溶解未曝光區(qū)域,。

? 方法：噴淋顯影（PCB）或沉浸式顯影（半導(dǎo)體）,，時(shí)間30秒-2分鐘，需控制顯影液濃度和溫度,。

6. 后烘（Post-Bake）

? 目的：固化膠膜,，提升耐蝕刻性和熱穩(wěn)定性。

? 條件：

? 溫度：100-150℃（半導(dǎo)體用正性膠可能更高,，如180℃）,；

? 時(shí)間：15-60分鐘（厚膠或高耐蝕需求時(shí)延長(zhǎng)）。

7. 蝕刻/離子注入（后續(xù)工藝）

? 蝕刻：以膠膜為掩膜,，通過(guò)濕法（酸堿溶液）或干法（等離子體）刻蝕基板材料（如硅,、金屬、玻璃）,；

? 離子注入：膠膜保護(hù)未曝光區(qū)域,，使雜質(zhì)離子只能注入曝光區(qū)域（半導(dǎo)體摻雜工藝）。

8. 去膠（Strip）

? 方法：

? 濕法去膠：強(qiáng)氧化劑（如硫酸+雙氧水）或有機(jī)溶劑（如N-甲基吡咯烷酮NMP）,；

? 干法去膠：氧等離子體灰化（半導(dǎo)體領(lǐng)域,，無(wú)殘留）。

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標(biāo)簽：錫片光刻膠

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