廣西阻焊光刻膠生產(chǎn)廠家

來源：發(fā)布時(shí)間：2025-05-19

憑借綠色產(chǎn)品與可持續(xù)生產(chǎn)模式，吉田半導(dǎo)體的材料遠(yuǎn)銷全球,，并與多家跨國企業(yè)建立長期合作,。其環(huán)保焊片與靶材被廣泛應(yīng)用于光伏、儲(chǔ)能等清潔能源領(lǐng)域，助力客戶實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品全生命周期的環(huán)境友好。公司通過導(dǎo)入國際標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證（如 ISO14001 環(huán)境管理體系），進(jìn)一步強(qiáng)化了在環(huán)保領(lǐng)域的競爭力,。

未來，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)以技術(shù)創(chuàng)新為驅(qū)動(dòng),，深化綠色制造戰(zhàn)略,，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的低碳化、可持續(xù)發(fā)展貢獻(xiàn)力量,。以品質(zhì)為依托,，深化全球化布局，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展注入持續(xù)動(dòng)力,。

聚焦封裝需求,，吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務(wù)。廣西阻焊光刻膠生產(chǎn)廠家

全品類覆蓋與定制化能力

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠,、LCD光刻膠等全品類，適用于半導(dǎo)體,、顯示面板,、MEMS等多個(gè)領(lǐng)域。例如,，其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求,，支持客戶定制化工藝參數(shù),，尤其在柔性顯示（OLED）和Mini/Micro LED等新興領(lǐng)域表現(xiàn)突出。

技術(shù)亮點(diǎn)：通過自主研發(fā)的樹脂配方和光敏劑體系,，實(shí)現(xiàn)了高分辨率（120nm）和高抗蝕性的平衡,，部分指標(biāo)（如線寬粗糙度LWR<3nm）接近國際主流產(chǎn)品水平。

國產(chǎn)化材料與工藝適配

公司采用進(jìn)口原材料+本地化生產(chǎn)模式,，關(guān)鍵樹脂單體,、光敏劑等主要成分通過德國默克、日本信越等供應(yīng)商采購,，同時(shí)建立了超純提純工藝（雜質(zhì)含量<1ppm）,，確保產(chǎn)品穩(wěn)定性。此外,，其光刻膠與國內(nèi)主流光刻機(jī)（如上海微電子SSA800）、勻膠顯影機(jī)（如盛美上海）的兼容性已通過驗(yàn)證,，縮短客戶工藝調(diào)試周期,。

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全品類覆蓋
吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠,、納米壓印光刻膠,、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,，覆蓋芯片制造,、顯示面板、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求,，技術(shù)布局全面性于多數(shù)國內(nèi)廠商,。
關(guān)鍵技術(shù)突破
納米壓印技術(shù)：JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃，支持納米級(jí)精度圖案復(fù)制,，適用于第三代半導(dǎo)體（GaN/SiC）及 Mini LED 等新興領(lǐng)域,，技術(shù)指標(biāo)接近國際先進(jìn)水平。
水性環(huán)保配方：JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機(jī)溶劑,，低 VOC 排放,，符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn)，環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品,。
厚膜工藝能力：JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控（達(dá)數(shù)十微米）,，滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求。

吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠：進(jìn)口品牌品質(zhì),，本地化服務(wù)支持

柯圖泰全系列感光膠依托進(jìn)口技術(shù),，提供高性價(jià)比的絲網(wǎng)印刷解決方案。
吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠（如 PLUS 6000,、Autosol 2000）,，源自美國先進(jìn)配方,，分辨率達(dá) 120 線 / 英寸，適用于玻璃,、陶瓷等多種基材,。產(chǎn)品通過 SGS 認(rèn)證，符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求,，其高感光度與耐摩擦性,，確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配,、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù),，幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程，降低材料損耗,。

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吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈：

芯片制造：YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際,、長江存儲(chǔ)，支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn),。
顯示面板：YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,，成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴,。
新能源領(lǐng)域：無鹵無鉛焊片通過 UL 認(rèn)證,，批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng)，年供貨量超 500 噸,。

研發(fā)投入：年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,，承擔(dān)國家 02 專項(xiàng)課題，獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”,。
產(chǎn)能規(guī)模：光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,，納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%。
質(zhì)量體系：通過 ISO9001,、IATF 16949 等認(rèn)證,，生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理，批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%,。

吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),，加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破，目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn),。同時(shí),，深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同，構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,，為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”,。

從突破國際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),，吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎，走出了一條中國半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路,。未來,，公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù)，助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階,。

產(chǎn)業(yè)鏈配套：原材料與設(shè)備協(xié)同發(fā)展,。江蘇進(jìn)口光刻膠

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定義與特性

正性光刻膠是一種在曝光后,，曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形。與負(fù)性光刻膠（未曝光區(qū)域溶解）相比,，其優(yōu)勢(shì)是分辨率高,、圖案邊緣清晰，是半導(dǎo)體制造（尤其是制程）的主流選擇,。

化學(xué)組成與工作原理

主要成分

? 樹脂（成膜劑）：

? 傳統(tǒng)正性膠：采用**酚醛樹脂（Novolak）與重氮萘醌（DNQ,，光敏劑）**的復(fù)合體系（PAC體系），占比約80%-90%,。

? 化學(xué)增幅型（用于DUV/EUV）：含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物，搭配光酸發(fā)生器（PAG）,，通過酸催化反應(yīng)提高感光度和分辨率,。

? 溶劑：溶解樹脂和感光劑，常用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）或乳酸乙酯,。

? 添加劑：表面活性劑（改善涂布均勻性）,、穩(wěn)定劑（防止暗反應(yīng)）、堿溶解度調(diào)節(jié)劑等,。

工作原理

? 曝光前：光敏劑（如DNQ）與樹脂結(jié)合,，形成不溶于堿性顯影液的復(fù)合物。

? 曝光時(shí)：

? 傳統(tǒng)PAC體系：DNQ在紫外光（G線436nm,、I線365nm）照射下發(fā)生光分解,，生成羧酸，使曝光區(qū)域樹脂在堿性顯影液中溶解性增強(qiáng),。

? 化學(xué)增幅型：PAG在DUV/EUV光下產(chǎn)生活性酸,，催化樹脂發(fā)生脫保護(hù)反應(yīng)，大幅提高顯影速率（靈敏度提升10倍以上）,。

? 顯影后：曝光區(qū)域溶解去除,，未曝光區(qū)域保留，形成正性圖案,。

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標(biāo)簽：錫片光刻膠

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吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠：進(jìn)口品牌品質(zhì),，本地化服務(wù)支持

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