1. 正性光刻膠（如 YK-300）
   應(yīng)用場景：用于芯片的精細圖案化,，如集成電路（IC）,、分立器件（二極管、三極管）的制造,。
   特點：高分辨率（可達亞微米級）,，適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性,。
2. 負性光刻膠（如 JT-1000）
   應(yīng)用場景：用于功率半導(dǎo)體（如 MOSFET,、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結(jié)構(gòu)成型,。
   特點：抗蝕刻能力強,，適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異,。
3. 納米壓印光刻膠（JT-2000）
   應(yīng)用場景：第三代半導(dǎo)體（GaN,、SiC）芯片、量子點器件及微流控芯片的制造,。特點：耐高溫（250℃）,、耐酸堿，支持納米級精度圖案復(fù)制,，降低芯片的制造成本,。

厚板光刻膠

• 電路板制造：在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時,，厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩(wěn)定性，比如汽車電子,、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板,，能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況,。
• 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）這類功率器件,，需要承受高電壓和大電流，厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié),，保障芯片內(nèi)部電路的精細布局,，提高器件的性能和可靠性。

負性光刻膠

• 半導(dǎo)體制造：在芯片制造過程中,，用于制作一些對精度要求高、圖形面積較大的結(jié)構(gòu),，如芯片的金屬互連層,、接觸孔等。通過負性光刻膠的曝光和顯影工藝,，能實現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移,，確保芯片各部分之間的電氣連接正常。
• 平板顯示制造：在液晶顯示器（LCD）和有機發(fā)光二極管顯示器（OLED）的制造中,，用于制作電極,、像素等大面積圖案。以 LCD 為例,，負性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案,，控制液晶分子的排列，從而實現(xiàn)圖像顯示,。

依托自主研發(fā)與國產(chǎn)供應(yīng)鏈,，吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內(nèi)前段企業(yè),。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產(chǎn)樹脂與單體,，實現(xiàn) 100% 國產(chǎn)化替代。其分辨率 0.35μm,，附著力 > 3N/cm,，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列。通過與國內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,，產(chǎn)品覆蓋智能手機,、電視等顯示終端,，年供貨量超 200 噸。公司建立國產(chǎn)原材料溯源體系,，確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,，推動 LCD 面板材料國產(chǎn)化進程。

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001,，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年；

水油光刻膠 SR - 3308,，容量 5L,；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優(yōu)異,，對比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應(yīng),，重量 100g,；

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,，分辨率高,，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,，耐強酸強堿,，耐高溫達 250°C，長期可靠性高,，粘接強度高,，重量 100g；

LCD 正性光刻膠 YK - 200,，具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,，重量 100g,；

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g；

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,，重量 1L,。 挑戰(zhàn)與未來展望的發(fā)展。中山網(wǎng)版光刻膠國產(chǎn)廠家

吉田半導(dǎo)體光刻膠,，45nm 制程驗證,，國產(chǎn)替代方案!東莞高溫光刻膠價格

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領(lǐng)域,。

LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點,，重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,，能確保 LCD 生產(chǎn)過程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和良好的涂布效果,。

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導(dǎo)體制造工藝,，滿足半導(dǎo)體器件對光刻膠在化學(xué)穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蝕的特性,，適用于在有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝中，比如一些特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。 東莞高溫光刻膠價格