四川LED光刻膠報價

來源：發(fā)布時間：2025-05-25

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為,，吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠，助力電子產(chǎn)業(yè)低碳轉(zhuǎn)型,。面對全球環(huán)保趨勢,，吉田半導(dǎo)體推出無鹵無鉛錫膏與焊片，通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,，焊接可靠性提升 30%,。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方（<50g/L），符合歐盟 REACH 法規(guī),，生產(chǎn)過程中通過多級廢氣處理與水循環(huán)系統(tǒng),，實(shí)現(xiàn)零排放。公司嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,，工業(yè)固廢循環(huán)利用率超 90%,，為新能源汽車、光伏儲能等領(lǐng)域提供綠色材料解決方案,，成為全球客戶信賴的環(huán)保材料供應(yīng)商,。光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體。四川LED光刻膠報價

吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠：半導(dǎo)體芯片制造的材料

YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,，成為 45nm 及以上制程的理想選擇,。
YK-300 正性光刻膠分辨率達(dá) 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，適用于半導(dǎo)體芯片前道工藝,。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性,。產(chǎn)品已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證,，良率達(dá) 98% 以上，生產(chǎn)過程執(zhí)行 ISO9001 標(biāo)準(zhǔn),，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上,。支持小批量試產(chǎn)與定制化需求,，為國產(chǎn)芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐。

常州UV納米光刻膠光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,，23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),，全自動化生產(chǎn)保障品質(zhì)！

LCD顯示

? 彩色濾光片（CF）：

? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素,，線寬精度±2μm,，透光率<0.1%。

? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素,，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性,。

? 陣列基板（Array）：

? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm,。

OLED顯示（柔性/剛性）

? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應(yīng)蒸鍍工藝）,。

? 觸控電極（如ITO/PET）：通過光刻膠圖形化實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電線路,，線寬≤5μm。

Mini/Micro LED

? 巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級LED陣列,，良率要求>99.99%,。

光刻膠的主要應(yīng)用領(lǐng)域

光刻膠是微電子制造的主要材料，廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域：

半導(dǎo)體制造

? 功能：在晶圓表面形成微細(xì)電路圖案,，作為蝕刻或離子注入的掩膜,。

? 分類：

? 正性光刻膠：曝光區(qū)域溶解于顯影液，形成與掩膜版一致的圖案（主流,，分辨率高）,。

? 負(fù)性光刻膠：未曝光區(qū)域溶解，形成反向圖案（用于早期工藝,，耐蝕刻性強(qiáng)）,。

? 技術(shù)演進(jìn)：隨制程精度提升，需匹配不同曝光波長（紫外UV,、深紫外DUV,、極紫外EUV），例如EUV光刻膠用于7nm以下制程,。

平板顯示（LCD/OLED）

? 彩色濾光片（CF）：在玻璃基板上制作紅/綠/藍(lán)像素單元,，光刻膠用于圖案化黑矩陣（BM）、彩色層（R/G/B）和保護(hù)層,。

? 電極圖案：制作TFT-LCD的電極線路或OLED的陰極/陽極,，需高透光率和精細(xì)邊緣控制。

印刷電路板（PCB）

? 線路蝕刻：在覆銅板上涂膠,，曝光顯影后保留線路區(qū)域,，蝕刻去除未保護(hù)的銅箔,，形成導(dǎo)電線路。

? 阻焊與字符層：阻焊膠覆蓋非線路區(qū)域,，防止短路,；字符膠用于印刷電路板標(biāo)識。

LED與功率器件

? 芯片制造：在藍(lán)寶石/硅基板上制作電極和量子阱結(jié)構(gòu),，需耐高功率環(huán)境的耐高溫光刻膠,。

? Micro-LED：微米級芯片轉(zhuǎn)移和陣列化，依賴超高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）,。

光刻膠新興及擴(kuò)展應(yīng)用,。

作為東莞松山湖的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,，成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，良率達(dá) 98% 以上,，已通過中芯國際等晶圓廠驗(yàn)證,；JT-2000 突破耐高溫極限,，在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性，適用于 EUV 光刻前道工藝,。依托進(jìn)口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,，產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn)，遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,，加速國產(chǎn)替代進(jìn)程,。松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!安徽LED光刻膠多少錢

水性感光膠推薦吉田 JT-1200,，精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)+易操作性!四川LED光刻膠報價

主要應(yīng)用場景

印刷電路板（PCB）：

? 通孔/線路加工：負(fù)性膠厚度可達(dá)20-50μm,，耐堿性蝕刻液（如氯化鐵、堿性氯化銅）,，適合制作大尺寸線路（線寬/線距≥50μm）,，如雙面板、多層板的外層電路,。

? 阻焊層：作為絕緣保護(hù)層,，覆蓋非焊盤區(qū)域，需厚膠（50-100μm）和高耐焊接溫度（260℃以上）,，負(fù)性膠因工藝簡單,、成本低而廣泛應(yīng)用。

微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）：

? 深硅蝕刻（DRIE）：負(fù)性膠作為蝕刻掩膜,，厚度可達(dá)100μm以上,，耐SF?等強(qiáng)腐蝕性氣體,，用于制作加速度計、陀螺儀的高深寬比結(jié)構(gòu)（深寬比＞20:1）,。

? 模具制造：在硅或玻璃基板上制作微流控芯片的通道模具,，利用負(fù)性膠的厚膠成型能力。

平板顯示（LCD）：

? 彩色濾光片（CF）基板預(yù)處理：在玻璃基板上制作絕緣層或緩沖層,，耐濕法蝕刻（如HF溶液）,，確保后續(xù)RGB色阻層的精確涂布。

功率半導(dǎo)體與分立器件：

? IGBT,、MOSFET的隔離區(qū)蝕刻：負(fù)性膠用于制作較寬的隔離溝槽（寬度＞10μm）,，耐高濃度酸堿蝕刻，降低工藝成本,。

四川LED光刻膠報價

標(biāo)簽：光刻膠錫膏錫片

上一篇 河南3微米光刻膠國產(chǎn)廠家

下一篇： 黑龍江正性光刻膠供應(yīng)商

四川LED光刻膠報價

吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠：半導(dǎo)體芯片制造的材料

可能感興趣的產(chǎn)品:

可能感興趣的廠家:

可能感興趣的關(guān)鍵詞: