納米壓印光刻膠
微納光學器件制造：制作衍射光學元件、微透鏡陣列等微納光學器件時,，納米壓印光刻膠可實現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復制,。通過納米壓印技術,，將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過后續(xù)處理,，可制造出具有特定光學性能的微納光學器件,，應用于光通信、光學成像等領域,。
生物芯片制造：在 DNA 芯片,、蛋白質(zhì)芯片等生物芯片的制造中，需要在芯片表面構(gòu)建高精度的微納結(jié)構(gòu),，用于生物分子的固定和檢測,。納米壓印光刻膠可幫助實現(xiàn)這些精細結(jié)構(gòu)的制作，提高生物芯片的檢測靈敏度和準確性,。
吉田半導體全流程解決方案,，賦能客戶提升生產(chǎn)效率。湖北水油光刻膠供應商
主要優(yōu)勢：細分領域技術突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同
技術積累與自主化能力
公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,，實現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,，分辨率達3μm，適用于MEMS傳感器,、光學器件等領域,，填補了國內(nèi)空白,。
技術壁壘：掌握光刻膠主要原材料（如樹脂,、光酸）的合成技術，部分原材料純度達PPT級,，金屬離子含量低于0.1ppb,，良率超99%。
產(chǎn)品多元化與技術化布局
產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠,、LCD光刻膠、半導體錫膏等,，形成“光刻膠+配套材料”的完整體系,。例如：
? LCD光刻膠：適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術,，與京東方,、TCL華星合作開發(fā)高分辨率產(chǎn)品，良率提升至98%,。
? 半導體錫膏：供應華為,、OPPO等企業(yè),，年采購量超200噸，用于5G手機主板封裝,。
技術化延伸：計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā),，目標進入中芯國際、長江存儲供應鏈,。
質(zhì)量控制與生產(chǎn)能力
通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認證,，生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美,、德,、日進口高質(zhì)量材料。擁有全自動化生產(chǎn)線,，年產(chǎn)能達2000噸（光刻膠及配套材料）,，支持大規(guī)模訂單交付。
廣東正性光刻膠廠家光刻膠的顯示面板領域,。
? 化學反應：
? 正性膠：曝光后光敏劑（如重氮醌DQN）分解,，生成羧酸，在堿性顯影液中溶解,；
? 負性膠：曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。
5. 顯影（Development）
? 顯影液：
? 正性膠：堿性水溶液（如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH），溶解曝光區(qū)域,；
? 負性膠：有機溶劑（如二甲苯,、醋酸丁酯），溶解未曝光區(qū)域,。
? 方法：噴淋顯影（PCB）或沉浸式顯影（半導體）,，時間30秒-2分鐘，需控制顯影液濃度和溫度,。
6. 后烘（Post-Bake）
? 目的：固化膠膜,，提升耐蝕刻性和熱穩(wěn)定性。
? 條件：
? 溫度：100-150℃（半導體用正性膠可能更高,，如180℃）,；
? 時間：15-60分鐘（厚膠或高耐蝕需求時延長）。
7. 蝕刻/離子注入（后續(xù)工藝）
? 蝕刻：以膠膜為掩膜,，通過濕法（酸堿溶液）或干法（等離子體）刻蝕基板材料（如硅,、金屬、玻璃）,；
? 離子注入：膠膜保護未曝光區(qū)域,，使雜質(zhì)離子只能注入曝光區(qū)域（半導體摻雜工藝）。
8. 去膠（Strip）
? 方法：
? 濕法去膠：強氧化劑（如硫酸+雙氧水）或有機溶劑（如N-甲基吡咯烷酮NMP）,；
? 干法去膠：氧等離子體灰化（半導體領域,，無殘留）,。
光刻膠系列：
厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能,，符合歐盟 ROHS 標準，保質(zhì)期 1 年,；
水油光刻膠 SR - 3308,，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠,，分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高,，光源適應,，重量 100g；
液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000,，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,，分辨率高，準確性和穩(wěn)定性好,；
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C,，長期可靠性高,，粘接強度高，重量 100g,；
LCD 正性光刻膠 YK - 200,，具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力,，重量 100g；
半導體正性光刻膠 YK - 300,，具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g；
耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,，重量 1L,。
光刻膠：半導體之路上的挑戰(zhàn)與突破。
吉田半導體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造,、顯示面板,、PCB 及微納加工等領域,，通過差異化技術（如納米壓印、厚膜工藝）和環(huán)保特性（水性配方）,，滿足從傳統(tǒng)電子到新興領域（如第三代半導體,、Mini LED）的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度,、高可靠性的制造工藝,，還通過材料創(chuàng)新推動行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展,。吉田半導體光刻膠的優(yōu)勢在于技術全面性,、環(huán)保創(chuàng)新、質(zhì)量穩(wěn)定性及本土化服務,，尤其在納米壓印,、厚膜工藝及水性膠領域形成差異化競爭力。
技術突破加速國產(chǎn)替代,，國產(chǎn)化布局贏得市場,。甘肅油性光刻膠國產(chǎn)廠家
光刻膠新興及擴展應用。湖北水油光刻膠供應商
綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟
公司采用水性光刻膠技術,，溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,，符合歐盟REACH法規(guī)和國內(nèi)環(huán)保標準。同時,，其光刻膠廢液回收項目已投產(chǎn),，通過膜分離+精餾技術實現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用，年減排VOCs（揮發(fā)性有機物）超100噸,。
低碳供應鏈管理
吉田半導體與上游供應商合作開發(fā)生物基樹脂,，部分產(chǎn)品采用可再生原料（如植物基丙烯酸酯），碳排放強度較傳統(tǒng)工藝降低30%,。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領域獲得客戶青睞,，相關訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%。
湖北水油光刻膠供應商
