廣州厚膜光刻膠

來源：發(fā)布時間：2025-05-27

技術(shù)優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

全流程自主化能力

吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化,。例如,，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，實現(xiàn)了3μm的分辨率,，適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域,。

技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂,、光酸）的合成技術(shù),，部分原材料純度達(dá)PPT級。

細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠：在納米級圖案化領(lǐng)域（如量子點顯示,、生物芯片）實現(xiàn)技術(shù)突破,，分辨率達(dá)3μm,，填補(bǔ)國內(nèi)空缺。

? LCD光刻膠：針對顯示面板行業(yè)需求,，開發(fā)出高感光度,、高對比度的光刻膠，適配AMOLED,、Micro LED等新型顯示技術(shù),。

研發(fā)投入與合作

公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠,，計劃2025年啟動半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā),。

吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品矩陣。廣州厚膜光刻膠

先進(jìn)制程瓶頸突破

KrF/ArF光刻膠的量產(chǎn)能力提升直接推動7nm及以下制程的國產(chǎn)化進(jìn)程,。例如,，恒坤新材的KrF光刻膠已批量供應(yīng)12英寸產(chǎn)線，覆蓋7nm工藝,，其工藝寬容度較日本同類型產(chǎn)品提升30%,。這使得國內(nèi)晶圓廠（如中芯國際）在DUV多重曝光技術(shù)下,，能夠以更低成本實現(xiàn)接近EUV的制程效果,，緩解了EUV光刻機(jī)禁運(yùn)的壓力,。此外,，武漢太紫微的T150A光刻膠通過120nm分辨率驗證，為28nm成熟制程的成本優(yōu)化提供了新方案,。

EUV光刻膠研發(fā)加速

盡管EUV光刻膠目前完全依賴進(jìn)口,，但國內(nèi)企業(yè)已啟動關(guān)鍵技術(shù)攻關(guān),。久日新材的光致產(chǎn)酸劑實現(xiàn)噸級訂單，科技部“十四五”專項計劃投入20億元支持EUV光刻膠研發(fā),。華中科技大學(xué)團(tuán)隊開發(fā)的“雙非離子型光酸協(xié)同增強(qiáng)響應(yīng)”技術(shù),，將EUV光刻膠的靈敏度提升至0.5mJ/cm2，較傳統(tǒng)材料降低20倍曝光劑量,。這些突破為未來3nm以下制程的技術(shù)儲備奠定基礎(chǔ),。

新型光刻技術(shù)融合

復(fù)旦大學(xué)團(tuán)隊開發(fā)的功能型光刻膠,，在全畫幅尺寸芯片上集成2700萬個有機(jī)晶體管,，實現(xiàn)特大規(guī)模集成（ULSI）水平。這種技術(shù)突破不僅拓展了光刻膠在柔性電子,、可穿戴設(shè)備等新興領(lǐng)域的應(yīng)用,，還為碳基芯片、量子計算等顛覆性技術(shù)提供了材料支撐,。

甘肅PCB光刻膠生產(chǎn)廠家吉田技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)能力,。

吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì)，構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,，發(fā)揮企業(yè)作用，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,，推動?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新,。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機(jī)制造商,、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈,。公司通過技術(shù)輸出與資源共享，幫助本地企業(yè)提升工藝水平,，促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新,。例如，與華中科技大學(xué)合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,，極限分辨率 120nm,，工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品，已實現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,，為區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展注入新動能,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借技術(shù)創(chuàng)新與質(zhì)量優(yōu)勢，在半導(dǎo)體材料行業(yè)占據(jù)重要地位,。公司聚焦光刻膠,、電子膠、錫膏等產(chǎn)品,，其中納米壓印光刻膠可耐受 250℃高溫及強(qiáng)酸強(qiáng)堿環(huán)境,，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造；LCD 光刻膠以高穩(wěn)定性和精細(xì)度成為顯示面板行業(yè)的推薦材料,。此外,，公司還提供焊片、靶材等配套材料,，滿足客戶多元化需求,。

在技術(shù)層面,，吉田半導(dǎo)體通過自主研發(fā)與國際合作結(jié)合，持續(xù)優(yōu)化生產(chǎn)工藝,，實現(xiàn)全流程自動化控制,。其生產(chǎn)基地配備先進(jìn)設(shè)備，并嚴(yán)格執(zhí)行國際標(biāo)準(zhǔn),，確保產(chǎn)品性能達(dá)到國際水平,。同時，公司注重人才培養(yǎng)與引進(jìn),，匯聚化工,、材料學(xué)等領(lǐng)域的專業(yè)團(tuán)隊，為技術(shù)創(chuàng)新提供堅實支撐,。未來,，吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以 “中國前列半導(dǎo)體材料方案提供商” 為愿景，推動行業(yè)技術(shù)升級與國產(chǎn)化進(jìn)程,。

政策支持：500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈,。

全品類覆蓋與定制化能力

吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠,、LCD光刻膠等全品類,，適用于半導(dǎo)體、顯示面板,、MEMS等多個領(lǐng)域,。例如，其LCD正性光刻膠YK-200和水油光刻膠JT-2001可滿足0.45μm及以上線寬需求,，支持客戶定制化工藝參數(shù),，尤其在柔性顯示（OLED）和Mini/Micro LED等新興領(lǐng)域表現(xiàn)突出。

技術(shù)亮點：通過自主研發(fā)的樹脂配方和光敏劑體系,，實現(xiàn)了高分辨率（120nm）和高抗蝕性的平衡,，部分指標(biāo)（如線寬粗糙度LWR<3nm）接近國際主流產(chǎn)品水平。

國產(chǎn)化材料與工藝適配

公司采用進(jìn)口原材料+本地化生產(chǎn)模式,，關(guān)鍵樹脂單體,、光敏劑等主要成分通過德國默克、日本信越等供應(yīng)商采購,，同時建立了超純提純工藝（雜質(zhì)含量<1ppm）,，確保產(chǎn)品穩(wěn)定性。此外,，其光刻膠與國內(nèi)主流光刻機(jī)（如上海微電子SSA800）,、勻膠顯影機(jī)（如盛美上海）的兼容性已通過驗證，縮短客戶工藝調(diào)試周期,。

正性光刻膠生產(chǎn)原料,。廣州光刻膠國產(chǎn)廠家

半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑,。廣州厚膜光刻膠

吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認(rèn)證，PCB 電路板制造

憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性,，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料,。
吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率達(dá) 1.5μm,，抗深蝕刻速率 > 500nm/min,，適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,，采用無鹵無鉛配方,，符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率,，確保復(fù)雜線路圖形的成型,，已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持,，助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率,。

廣州厚膜光刻膠

標(biāo)簽：錫片光刻膠

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