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江西厚膜光刻膠供應商

來源： 發(fā)布時間：2025-06-02

公司嚴格執(zhí)行 ISO9001:2008 質量管理體系與 8S 現(xiàn)場管理標準，通過工藝革新與設備升級實現(xiàn)生產過程的低污染,、低能耗,。注塑廢氣、噴涂廢氣經多級凈化處理后達標排放,，生活污水經預處理后納入市政管網,，冷卻水循環(huán)利用率達 100%,。危險廢物（如廢機油、含油抹布）均委托專業(yè)機構安全處置,，一般工業(yè)固廢（如邊角料、廢包裝材料）則通過回收或再生利用實現(xiàn)資源循環(huán),。

公司持續(xù)研發(fā)環(huán)保型材料，例如開發(fā)水性感光膠替代傳統(tǒng)油性產品，降低有機溶劑使用量,；優(yōu)化錫膏助焊劑配方，減少焊接過程中的煙霧與異味,。此外,，其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術，在提升焊接效率的同時降低能源消耗,。通過與科研機構合作,，公司還在探索生物基材料在半導體封裝中的應用，為行業(yè)低碳發(fā)展提供新路徑,。
吉田質量管控與認證壁壘,。江西厚膜光刻膠供應商

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廣東吉田半導體材料有限公司成立于松山湖經濟技術開發(fā)區(qū)，是一家專注于半導體材料研發(fā),、生產與銷售的技術企業(yè),。公司注冊資本 2000 萬元，擁有 23 年行業(yè)經驗,，產品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠,、半導體錫膏,、焊片及靶材等，服務全球市場并與多家世界 500 強企業(yè)建立長期合作關系,。
作為國家技術企業(yè),，吉田半導體以科技創(chuàng)新為驅動力，擁有多項技術,，并通過 ISO9001:2008 質量體系認證,。生產過程嚴格遵循 8S 現(xiàn)場管理標準，原材料均采用美,、德,、日等國進口的材料，確保產品質量穩(wěn)定可靠,。公司配備全自動化生產設備,，具備行業(yè)大型的規(guī)模化生產能力,，致力于成為 “半導體材料方案提供商”,。
其明星產品包括：適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300，具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能,；3 微米負性光刻膠 SU-3,，適用于厚膜工藝,；耐高溫達 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000，可滿足高精度微納加工需求,。所有產品均符合要求,，部分型號通過歐盟 ROHS 認證。
江西厚膜光刻膠供應商產業(yè)鏈配套：原材料與設備協(xié)同發(fā)展,。

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  1. 產品特點：耐溶劑型優(yōu)良,，抗潮耐水性好，耐印率高,；固含量高,，流平性好，涂布性能優(yōu)良,；經特殊乳化聚合技術處理,，網版平滑、無白點,、無沙眼,、亮度高；剝膜性好,，網版可再生使用；解像性,、高架橋性好,，易做精細網點和線條；感光度高,，曝光時間短,，曝光寬容度大，節(jié)省網版作業(yè)時間,，提高工作效率 ,。
  2. 應用范圍：適用于塑料、皮革,、標牌,、印刷電路板（PCB）、廣告宣傳,、玻璃,、陶瓷、紡織品等產品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案,，滿足皮革制品精細印刷需求，制作各類標牌保證圖案清晰,，用于 PCB 制造滿足高精度要求等,。

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,，主要涵蓋厚板、負性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求,。

厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標準,，保質期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,，如特定電路板制造,。

負性光刻膠

  • SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好,，曝光靈敏度高,，光源適應，重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工,、半導體制造等領域。


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  • LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,，重量 100g,。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，確保 LCD 生產中圖形精確轉移和良好涂布效果,。
  • 半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸,、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g,。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。
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吉田半導體水性感光膠 JT-1200：水油兼容,，鋼片加工精度 ±5μm

JT-1200 水性感光膠解決鋼片加工難題，提升汽車電子部件制造精度,。
針對汽車電子鋼片加工需求,，吉田半導體研發(fā)的 JT-1200 水性感光膠實現(xiàn)水油兼容性達 100%，加工精度 ±5μm。其高粘接強度與耐強酸強堿特性,，確保復雜結構的長期可靠性,。其涂布性能優(yōu)良，易做精細網點,，適用于安全氣囊傳感器,、車載攝像頭模組等精密部件。產品通過 IATF 16949 汽車行業(yè)認證,，生產過程嚴格控制金屬離子含量,，確保電子產品可靠性。
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技術趨勢與挑戰(zhàn)

 半導體先進制程：

? EUV光刻膠需降低缺陷率（目前每平方厘米缺陷數(shù)＜10個）,，開發(fā)低粗糙度（≤5nm）材料；

? 極紫外吸收問題：膠膜對13.5nm光吸收率高,，需厚度控制在50-100nm,，挑戰(zhàn)化學增幅體系的靈敏度。

 環(huán)保與低成本：

? 水性負性膠替代溶劑型膠（如PCB阻焊膠）,，減少VOC排放,；

? 單層膠工藝替代多層膠，簡化流程（如MEMS厚膠的一次性涂布）,。

 新興領域拓展：

? 柔性電子：開發(fā)耐彎曲（曲率半徑＜5mm）,、低模量感光膠，用于可穿戴設備電路,；

? 光子芯片：高折射率膠（n＞1.8）制作光波導,，需低傳輸損耗（＜0.1dB/cm）。

典型產品與廠商

? 半導體正性膠：

? 日本信越（Shin-Etsu）的ArF膠（分辨率22nm,，用于12nm制程）；

? 美國陶氏（Dow）的EUV膠（靈敏度10mJ/cm2,，缺陷密度＜5個/cm2）,。

? PCB負性膠：

? 中國容大感光（LP系列）：耐堿性蝕刻，厚度20-50μm,，國產化率超60%,；

? 日本東京應化（TOK）的THMR-V：全球PCB膠市占率30%，適用于高可靠性汽車板,。

? MEMS厚膠：

? 美國陶氏的SU-8：實驗室常用,，厚度5-200μm，分辨率1μm（需優(yōu)化交聯(lián)均勻性）,；

? 德國Microresist的MR膠：耐深硅蝕刻,，線寬精度±2%，用于工業(yè)級MEMS制造,。

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標簽： 光刻膠 錫膏 錫片