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重慶阻焊光刻膠廠家

來源： 發(fā)布時間：2025-06-03

? 正性光刻膠

? YK-300：適用于半導體制造，具備高分辨率（線寬≤10μm）,、耐高溫（250℃）,、耐酸堿腐蝕特性，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造,，適配UV光源（365nm/405nm）,。

? 技術優(yōu)勢：采用進口樹脂及光引發(fā)劑，絕緣阻抗高（>10^14Ω）,，滿足半導體器件對絕緣性的嚴苛要求,。

? 負性光刻膠

? JT-1000：負性膠，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能,，分辨率達3μm,，適用于功率半導體、MEMS器件制造,，可承受氫氟酸（HF）,、磷酸（H3PO4）等強腐蝕液處理。

? SU-3：經(jīng)濟型負性膠,，性價比高,，適用于分立器件及低端邏輯芯片,，光源適應性廣（248nm-436nm），曝光靈敏度≤200mJ/cm2,。

2. 顯示面板光刻膠

? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設計,，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）、良好的基板附著力,，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造,，支持8.5代線以上大規(guī)模生產(chǎn)。

? 水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產(chǎn)品,，VOC含量<50g/L,，符合歐盟RoHS標準，適用于柔性顯示基板,，可制作20μm以下精細網(wǎng)點,，主要供應京東方、TCL等面板廠商,。

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重慶阻焊光刻膠廠家,光刻膠

公司遵循國際質(zhì)量管理標準,，通過 ISO9001:2008 認證，并在生產(chǎn)過程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,，從原料入庫到成品出庫實現(xiàn)全流程監(jiān)控,。以錫膏產(chǎn)品為例，其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求,，同時具備低飛濺,、高潤濕性等特點，適用于電子產(chǎn)品組裝,。此外,，公司建立了行業(yè)標準化實驗室，配備先進檢測設備,，確保產(chǎn)品性能達到國際同類水平,。

憑借多年研發(fā)積累，公司形成了覆蓋光刻膠,、焊接材料,、電子膠等領域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,，不僅提供常規(guī)錫膏,、助焊膏，還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏,、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,，滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時，感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,，兼具耐潮性與易操作性,，廣泛應用于印刷電路板制造。
福建水油光刻膠生產(chǎn)廠家光刻膠半導體領域的應用,。

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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板、負性,、正性,、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求,。

厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標準,，保質(zhì)期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,，如特定電路板制造,。

負性光刻膠

  • SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應,，重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域,。
  • 負性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,，具有優(yōu)異的分辨率、良好的對比度和高曝光靈敏度,，光源適應,。主要應用于對光刻精度要求高的領域，如半導體器件制造,。
  • 耐腐蝕負性光刻膠 JT-NF100：重量 1L,，具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風險的光刻工藝,，如特殊環(huán)境下的半導體加工或電路板制造,。


吉田半導體突破 ArF 光刻膠技術壁壘，國產(chǎn)替代再迎新進展

自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗證,，吉田半導體填補國內(nèi)光刻膠空白,。
吉田半導體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達 90nm，適用于 14nm 及以上制程,，已通過中芯國際量產(chǎn)驗證,。該產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與自主配方，突破日本企業(yè)對 ArF 光刻膠的壟斷,。其光酸產(chǎn)率提升 30%,，蝕刻選擇比達 4:1，性能對標日本信越的 ArF 系列,。吉田半導體的技術突破加速了國產(chǎn)芯片制造材料自主化進程,，為國內(nèi)晶圓廠提供高性價比解決方案。
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市場與客戶優(yōu)勢：全球化布局與頭部客戶合作

 全球客戶網(wǎng)絡
產(chǎn)品遠銷全球,，與三星,、LG、京東方等世界500強企業(yè)建立長期合作,，在東南亞,、北美市場市占率超15%。

 區(qū)域市場深耕
依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,，與華為,、OPPO等本土企業(yè)合作，在消費電子,、汽車電子領域快速響應客戶需求,。

產(chǎn)業(yè)鏈配套優(yōu)勢：原材料與設備協(xié)同

 主要原材料自主化
公司自主生產(chǎn)光刻膠樹脂、光引發(fā)劑,，降低對進口依賴,，成本較國際競品低20%。

 設備與工藝協(xié)同
與國內(nèi)涂膠顯影設備廠商合作,，開發(fā)適配國產(chǎn)設備的光刻膠配方,，提升工藝兼容性。

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技術突破加速國產(chǎn)替代,，國產(chǎn)化布局贏得市場,。重慶阻焊光刻膠廠家

納米制造與表面工程

? 納米結(jié)構(gòu)模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列,、孔陣列）,，用于批量復制微流控芯片或柔性顯示基板。

? 表面功能化：在基底表面構(gòu)建納米級粗糙度（如仿生荷葉超疏水表面）或化學圖案（引導細胞定向生長的納米溝槽）,，用于生物醫(yī)學或能源材料（如電池電極的納米陣列結(jié)構(gòu)）,。

量子技術與精密測量

? 超導量子比特：在鈮酸鋰或硅基底上,，通過光刻膠定義納米級約瑟夫森結(jié)陣列，構(gòu)建量子電路,。

? 納米傳感器：制備納米級懸臂梁（表面鍍光刻膠圖案化的金屬電極）,，用于探測單個分子的質(zhì)量或電荷變化（分辨率達亞納米級）。
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標簽： 錫片 錫膏 光刻膠