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水油光刻膠品牌

來源: 發(fā)布時間:2025-06-12

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,主要涵蓋厚板,、負(fù)性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,,以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠:JT-3001 型號,,具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,如特定電路板制造,。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),,重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
  • 負(fù)性光刻膠 JT-1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,、良好的對比度和高曝光靈敏度,,光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對光刻精度要求高的領(lǐng)域,,如半導(dǎo)體器件制造,。
  • 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100:重量 1L,具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝,,如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。


聚焦封裝需求,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務(wù),。水油光刻膠品牌

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  1. 全品類覆蓋
    吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠,、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,,覆蓋芯片制造、顯示面板,、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求,,技術(shù)布局全面性于多數(shù)國內(nèi)廠商。
  2. 關(guān)鍵技術(shù)突破
    納米壓印技術(shù):JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃,,支持納米級精度圖案復(fù)制,,適用于第三代半導(dǎo)體(GaN/SiC)及 Mini LED 等新興領(lǐng)域,技術(shù)指標(biāo)接近國際先進(jìn)水平,。
    水性環(huán)保配方:JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機(jī)溶劑,,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn),,環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品,。
    厚膜工藝能力:JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控(達(dá)數(shù)十微米),滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求,。
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 半導(dǎo)體集成電路

? 應(yīng)用場景:

? 晶圓制造:正性膠為主(如ArF/EUV膠),實現(xiàn)20nm以下線寬,,用于晶體管柵極,、接觸孔等精細(xì)結(jié)構(gòu);

? 封裝工藝:負(fù)性膠用于凸點(Bump)制造,,厚膠(5-50μm)耐電鍍?nèi)芤焊g,。

? 關(guān)鍵要求:高分辨率、低缺陷率,、耐極端工藝(如150℃以上高溫,、等離子體轟擊)。

 印刷電路板(PCB)

? 應(yīng)用場景:

? 線路成像:負(fù)性膠(如環(huán)化橡膠膠)用于雙面板/多層板外層線路,,線寬≥50μm,,耐堿性蝕刻液(如氯化銅);

? 阻焊層:厚負(fù)性膠(50-100μm)覆蓋非焊盤區(qū)域,,耐260℃焊接溫度和助焊劑腐蝕,;

? 撓性PCB(FPC):正性膠用于精細(xì)線路(線寬≤20μm),,需耐彎曲應(yīng)力,。

? 優(yōu)勢:工藝簡單,、成本低,適合大面積基板(如1.2m×1.0m的PCB基板),。

 平板顯示

? 應(yīng)用場景:

? 彩色濾光片:正性膠制作黑矩陣(BM)和RGB色阻間隔層,,耐UV固化和濕法蝕刻(如HF溶液);

? OLED像素定義:負(fù)性膠形成像素開口(孔徑5-50μm),,耐有機(jī)溶劑(如OLED蒸鍍前的清洗液),;

? 觸控面板:正性膠制作透明電極(如ITO線路),線寬≤10μm,,需透光率>90%,。

? 關(guān)鍵參數(shù):高透光性、低收縮率(避免圖案變形),。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年,,總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),注冊資本 2000 萬元,。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè),,公司專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售,,產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠,、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏,、焊片及靶材等領(lǐng)域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率,、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱,,廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn),。

公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗積累,,構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系,擁有全自動化生產(chǎn)設(shè)備及多項技術(shù),。原材料均選用美國,、德國、日本進(jìn)口的材料,,并通過 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證,,生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理標(biāo)準(zhǔn),確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性,。目前,,吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作,,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球市場,致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),。
吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展,,推動產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。

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制版光刻膠應(yīng)用場景:印刷電路板(FPC),、觸摸屏(TP)的掩膜版制作,,以及光學(xué)元件(如衍射光柵)的微納加工。特點:高分辨率與耐化學(xué)性,,確保模板的長期使用壽命,。

水性光刻膠(JT-1200)應(yīng)用場景:環(huán)保要求高的電子元件(如醫(yī)療設(shè)備、汽車電子)的制造,,以及柔性電路的生產(chǎn),。特點:以水為溶劑,低 VOC 排放,,符合 RoHS 和 REACH 環(huán)保標(biāo)準(zhǔn),。

水油兩用光刻膠(JT-2001/SR-3308)適用于混合工藝場景(如部分環(huán)節(jié)需水性顯影,部分需溶劑顯影),,提升生產(chǎn)靈活性,。 光刻膠新興及擴(kuò)展應(yīng)用。山西網(wǎng)版光刻膠生產(chǎn)廠家

負(fù)性光刻膠的工藝和應(yīng)用場景,。水油光刻膠品牌

客戶認(rèn)證:從實驗室到產(chǎn)線的漫長“闖關(guān)”

 驗證周期與試錯成本
半導(dǎo)體光刻膠需經(jīng)歷PRS(性能測試),、STR(小試)、MSTR(中批量驗證)等階段,,周期長達(dá)2-3年,。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動驗證,直至2025年才通過客戶50nm閃存平臺認(rèn)證,。試錯成本極高,,單次晶圓測試費用超百萬元,且客戶為維持產(chǎn)線穩(wěn)定,,通常不愿更換供應(yīng)商,。

 設(shè)備與工藝的協(xié)同難題
光刻膠需與光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)等設(shè)備高度匹配,。國內(nèi)企業(yè)因缺乏ASML EUV光刻機(jī)測試資源,,只能依賴二手設(shè)備或與晶圓廠合作驗證,導(dǎo)致研發(fā)效率低下,。例如,,華中科技大學(xué)團(tuán)隊開發(fā)的EUV光刻膠因無法接入ASML原型機(jī)測試,性能參數(shù)難以對標(biāo)國際,。
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標(biāo)簽: 錫片 錫膏 光刻膠