1. 產(chǎn)品特點：耐溶劑型優(yōu)良,，抗潮耐水性好,，耐印率高；固含量高,，流平性好,，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,，網(wǎng)版平滑,、無白點、無沙眼,、亮度高,；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用,；解像性,、高架橋性好，易做精細網(wǎng)點和線條,；感光度高,，曝光時間短，曝光寬容度大,，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間,，提高工作效率 。
2. 應(yīng)用范圍：適用于塑料,、皮革,、標(biāo)牌、印刷電路板（PCB）,、廣告宣傳,、玻璃、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿足皮革制品精細印刷需求,，制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,，用于 PCB 制造滿足高精度要求等。

厚板光刻膠

• 電路板制造：在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時,，厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩(wěn)定性，比如汽車電子,、工業(yè)控制等領(lǐng)域的電路板,，能承受復(fù)雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況,。
• 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）這類功率器件,，需要承受高電壓和大電流，厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié),，保障芯片內(nèi)部電路的精細布局,，提高器件的性能和可靠性。

負性光刻膠

• 半導(dǎo)體制造：在芯片制造過程中,，用于制作一些對精度要求高,、圖形面積較大的結(jié)構(gòu)，如芯片的金屬互連層,、接觸孔等,。通過負性光刻膠的曝光和顯影工藝，能實現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移,，確保芯片各部分之間的電氣連接正常,。
• 平板顯示制造：在液晶顯示器（LCD）和有機發(fā)光二極管顯示器（OLED）的制造中，用于制作電極,、像素等大面積圖案,。以 LCD 為例，負性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案,，控制液晶分子的排列,，從而實現(xiàn)圖像顯示。

吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟,，構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,，發(fā)揮企業(yè)作用，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,，推動?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新,。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員，吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機制造商,、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈,。公司通過技術(shù)輸出與資源共享,，幫助本地企業(yè)提升工藝水平，促進產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新,。例如,，與華中科技大學(xué)合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠，極限分辨率 120nm,，工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品,，已實現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞，為區(qū)域經(jīng)濟發(fā)展注入新動能,。半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)領(lǐng)域取得里程碑,。

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題，提升行業(yè)生產(chǎn)效率,，通過優(yōu)化材料配方與工藝,，吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題,，助力客戶降本增效,。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題,，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,，密集圖形側(cè)壁垂直度達標(biāo)率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),，在顯影過程中減少有機溶劑對有機半導(dǎo)體的損傷,，使芯片良率提升至 99.8%。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本,，推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升,。吉田半導(dǎo)體公司基本概況。云南阻焊光刻膠國產(chǎn)廠家

挑戰(zhàn)與未來展望的發(fā)展,。貴州PCB光刻膠工廠