光刻膠系列：
厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能,，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年,；
水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L,；SU - 3 負(fù)性光刻膠,，分辨率優(yōu)異，對比度良好,，曝光靈敏度高,，光源適應(yīng)，重量 100g,；
液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000,，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高,，準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好,；
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,，耐高溫達(dá) 250°C,，長期可靠性高，粘接強(qiáng)度高,，重量 100g,；
LCD 正性光刻膠 YK - 200,，具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力，重量 100g,；
半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,，具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g；
耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT - NF100,，重量 1L,。
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體，23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),，全自動化生產(chǎn)保障品質(zhì),！湖北PCB光刻膠耗材
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā),、生產(chǎn)與銷售的技術(shù)企業(yè),。公司注冊資本 2000 萬元，擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn),，產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏,、焊片及靶材等，服務(wù)全球市場并與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)建立長期合作關(guān)系,。
作為國家技術(shù)企業(yè),，吉田半導(dǎo)體以科技創(chuàng)新為驅(qū)動力，擁有多項(xiàng)技術(shù),，并通過 ISO9001:2008 質(zhì)量體系認(rèn)證,。生產(chǎn)過程嚴(yán)格遵循 8S 現(xiàn)場管理標(biāo)準(zhǔn)，原材料均采用美,、德,、日等國進(jìn)口的材料，確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠,。公司配備全自動化生產(chǎn)設(shè)備,，具備行業(yè)大型的規(guī)模化生產(chǎn)能力,，致力于成為 “半導(dǎo)體材料方案提供商”,。
其明星產(chǎn)品包括：適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300,，具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能；3 微米負(fù)性光刻膠 SU-3,，適用于厚膜工藝,；耐高溫達(dá) 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000，可滿足高精度微納加工需求,。所有產(chǎn)品均符合要求,，部分型號通過歐盟 ROHS 認(rèn)證。
河北LED光刻膠品牌吉田半導(dǎo)體：以技術(shù)革新驅(qū)動光刻膠產(chǎn)業(yè)升級,。
吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,，提升行業(yè)生產(chǎn)效率，通過優(yōu)化材料配方與工藝,，吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷等共性問題，助力客戶降本增效,。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,，密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%,。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù)，在顯影過程中減少有機(jī)溶劑對有機(jī)半導(dǎo)體的損傷,，使芯片良率提升至 99.8%,。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本，推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升,。
主要原材料“卡脖子”：從樹脂到光酸的依賴
樹脂與光酸的技術(shù)斷層
光刻膠成本中50%-60%來自樹脂,，而國內(nèi)KrF/ArF光刻膠樹脂的單體國產(chǎn)化率不足10%。例如,，日本信越化學(xué)的KrF樹脂純度達(dá)99.999%,，金屬雜質(zhì)含量低于1ppb，而國內(nèi)企業(yè)的同類產(chǎn)品仍存在批次穩(wěn)定性問題,。光酸作為光刻膠的“心臟”,，其合成需要超純試劑和復(fù)雜純化工藝，國內(nèi)企業(yè)在純度控制（如金屬離子含量）上與日本關(guān)東化學(xué)等國際巨頭存在代差,。
原材料供應(yīng)鏈的脆弱性
光刻膠所需的酚醛樹脂,、環(huán)烯烴共聚物（COC）等關(guān)鍵原料幾乎全部依賴進(jìn)口。日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后,，國內(nèi)部分晶圓廠采購量從100kg/期驟降至10-20kg/期,。更嚴(yán)峻的是，光敏劑原料焦性沒食子酸雖由中國提取,，但需出口至日本加工成光刻膠光敏劑后再高價返銷,，形成“原料出口-技術(shù)溢價-高價進(jìn)口”的惡性循環(huán),。
告別顯影殘留！化學(xué)增幅型光刻膠助力封裝,。
技術(shù)優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破
全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,，適用于MEMS傳感器,、光學(xué)器件等領(lǐng)域。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂,、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級,。
細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)
? 納米壓印光刻膠：在納米級圖案化領(lǐng)域（如量子點(diǎn)顯示,、生物芯片）實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破，分辨率達(dá)3μm,，填補(bǔ)國內(nèi)空缺,。
? LCD光刻膠：針對顯示面板行業(yè)需求，開發(fā)出高感光度,、高對比度的光刻膠,，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù),。
研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠，計劃2025年啟動半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā),。
聚焦封裝需求,，吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一姑式服務(wù)。寧波負(fù)性光刻膠生產(chǎn)廠家
松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!湖北PCB光刻膠耗材
技術(shù)挑戰(zhàn)
光刻膠作為半導(dǎo)體,、顯示面板等高級制造的材料，其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化,、制程精度匹配,、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面
湖北PCB光刻膠耗材
? 高分辨率：隨著半導(dǎo)體制程向3nm、2nm推進(jìn),，需開發(fā)更高精度的EUV光刻膠,，解決光斑擴(kuò)散、線寬控制等問題,。
? 靈敏度與穩(wěn)定性：平衡感光速度和圖案抗蝕能力,，適應(yīng)極紫外光（13.5nm）的低能量曝光,。
? 國產(chǎn)化替代：目前光刻膠（如EUV、ArF浸沒式）長期被日本,、美國企業(yè)壟斷,，國內(nèi)正加速研發(fā)突破。
光刻膠的性能直接影響芯片制造的良率和精度,，是支撐微電子產(chǎn)業(yè)的“卡脖子”材料之一,。
