定義與特性
負(fù)性光刻膠是一種在曝光后,未曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,,形成與掩膜版(Mask)圖案相反的圖形,。與正性光刻膠相比,,其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng)、工藝簡(jiǎn)單,、成本低,,但分辨率較低(通常≥1μm),,主要應(yīng)用于對(duì)精度要求相對(duì)較低,、需要厚膠或高耐腐蝕性的場(chǎng)景。
化學(xué)組成與工作原理
主要成分
基體樹脂:
? 早期以聚異戊二烯橡膠(天然或合成)為主,,目前常用環(huán)化橡膠(Cyclized Rubber)或聚乙烯醇肉桂酸酯,,提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性。
光敏劑:
? 主要為雙疊氮化合物(如雙疊氮芪)或重氮醌類衍生物,,占比約5%-10%,,吸收紫外光后引發(fā)交聯(lián)反應(yīng)。
交聯(lián)劑:
? 如六亞甲基四胺(烏洛托品),,在曝光后與樹脂發(fā)生交聯(lián),,形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
溶劑:
? 多為有機(jī)溶劑(如二甲苯,、環(huán)己酮),,溶解樹脂和光敏劑,涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜,。
工作原理
曝光前:光敏劑和交聯(lián)劑均勻分散在樹脂中,,膠膜可溶于顯影液(有機(jī)溶劑)。
曝光時(shí):
? 光敏劑吸收紫外光(G線436nm為主)后產(chǎn)生活性自由基,,引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂分子間的共價(jià)鍵交聯(lián),,使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
顯影后:
? 未曝光區(qū)域的樹脂因未交聯(lián),,被顯影液溶解去除,,曝光區(qū)域保留,形成負(fù)性圖案(與掩膜版相反),。
無鹵無鉛錫膏廠家吉田,,RoHS 認(rèn)證,,為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!江蘇阻焊光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家
在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借 23 年技術(shù)沉淀,,已成為國(guó)內(nèi)光刻膠行業(yè)的企業(yè)。公司產(chǎn)品線覆蓋正性,、負(fù)性,、厚膜、納米壓印等多類型光刻膠,,廣泛應(yīng)用于芯片制造,、LCD 顯示、PCB 電路板等領(lǐng)域,。
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技術(shù):自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品具備高分辨率(如 JT-3001 厚板光刻膠),、高感光度(如 JT-1000 負(fù)性光刻膠)及抗深蝕刻性能,部分指標(biāo)達(dá)到水平,。
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嚴(yán)苛品控:生產(chǎn)過程嚴(yán)格遵循 ISO9001 體系,,材料進(jìn)口率 100%,并通過 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理確保制程穩(wěn)定性,。
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定制化服務(wù):支持客戶需求定制,,例如為特殊工藝開發(fā)光刻膠,滿足多樣化場(chǎng)景需求,。
公司位于松山湖開發(fā)區(qū),,依托產(chǎn)業(yè)園區(qū)資源,持續(xù)加大研發(fā),,與科研機(jī)構(gòu)合作推動(dòng)技術(shù)升級(jí),。目前,吉田半導(dǎo)體已服務(wù)全球數(shù)千家客戶,,以 “匠心品質(zhì),、售后無憂” 的理念贏得市場(chǎng)口碑。
山東水性光刻膠感光膠松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn),!
光伏電池(半導(dǎo)體級(jí)延伸)
? HJT/TOPCon電池:在硅片表面圖形化金屬電極,使用高靈敏度光刻膠(曝光能量≤50mJ/cm2),,線寬≤20μm,,降低遮光損失。
? 鈣鈦礦電池:用于電極圖案化和層間隔離,,需耐有機(jī)溶劑(適應(yīng)溶液涂布工藝),。
納米壓印技術(shù)(下一代光刻)
? 納米壓印光刻膠:通過模具壓印實(shí)現(xiàn)10nm級(jí)分辨率,用于3D NAND存儲(chǔ)孔陣列(直徑≤20nm),、量子點(diǎn)顯示陣列等,。
微流控與生物醫(yī)療
? 微流控芯片:制造微米級(jí)流道(寬度10-100μm),材料需生物相容性(如PDMS基材適配),。
? 生物檢測(cè)芯片:通過光刻膠圖案化抗體/抗原固定位點(diǎn),,精度≤5μm。
吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì),,構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,,推動(dòng)?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新,。
作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機(jī)制造商,、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈,。公司通過技術(shù)輸出與資源共享,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新,。例如,與華中科技大學(xué)合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠,,極限分辨率 120nm,,工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產(chǎn)品,已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并出口東南亞,,為區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展注入新動(dòng)能,。吉田半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐,。
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域,。
厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年,,適用于對(duì)光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場(chǎng)景,如一些特殊的電路板制造,。
SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對(duì)比度良好,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),。重量為 100g,常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,,具有優(yōu)異的分辨率,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好,。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,,能滿足其對(duì)光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。
JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠:耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿,,耐高溫達(dá) 250°C,,長(zhǎng)期可靠性高,粘接強(qiáng)度高,。重量 100g,,適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進(jìn)行納米壓印光刻的工藝,如一些半導(dǎo)體器件的制造,。
吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠,。中山LED光刻膠國(guó)產(chǎn)廠商
聚焦封裝需求,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),。江蘇阻焊光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家
不同光刻膠類型的適用場(chǎng)景對(duì)比
類型 波長(zhǎng)范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品
G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB,、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列
KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制備 吉田半導(dǎo)體YK-300系列
ArF光刻膠 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片,、OLED電極圖案化 國(guó)際主流:JSR ARF系列
EUV光刻膠 13.5nm ≤7nm 7nm以下先進(jìn)制程,、3D NAND堆疊 研發(fā)中(吉田半導(dǎo)體合作攻關(guān))
水性光刻膠 全波長(zhǎng)適配 5-50μm 柔性顯示、環(huán)保PCB阻焊層 吉田半導(dǎo)體WT-200系列
總結(jié):多領(lǐng)域滲透的“工業(yè)維生素”
光刻膠的應(yīng)用深度綁定電子信息產(chǎn)業(yè),,從半導(dǎo)體芯片的“納米級(jí)雕刻”到PCB的“毫米級(jí)線路”,,再到顯示面板的“色彩精細(xì)控制”,其技術(shù)參數(shù)(分辨率,、耐蝕刻性,、靈敏度)需根據(jù)場(chǎng)景設(shè)計(jì)。隨著**新能源(車規(guī)芯片,、光伏),、新型顯示(Micro LED)、先進(jìn)制造(納米壓?。?*等領(lǐng)域的發(fā)展,,光刻膠的應(yīng)用邊界將持續(xù)擴(kuò)展,成為支撐制造的關(guān)鍵材料,。
江蘇阻焊光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家