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吉林紫外光刻膠工廠(chǎng)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-06-15

吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "專(zhuān)精特新" 企業(yè),,行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),,以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為,吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專(zhuān)精特新企業(yè)" 稱(chēng)號(hào),,樹(shù)立行業(yè),。
憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn),,吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "廣東省專(zhuān)精特新企業(yè)"" ",承擔(dān)多項(xiàng)國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)課題,。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹(shù)脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),,推動(dòng)國(guó)產(chǎn)材料標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程。未來(lái),,吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國(guó)半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景,,深化技術(shù)研發(fā)與市場(chǎng)拓展,為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻(xiàn)" 中國(guó)力量 ",。吉田半導(dǎo)體光刻膠,,45nm 制程驗(yàn)證,國(guó)產(chǎn)替代方案!吉林紫外光刻膠工廠(chǎng)

吉林紫外光刻膠工廠(chǎng),光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年,,總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),,注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元。作為高新企業(yè)和廣東省專(zhuān)精特新企業(yè),,公司專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料的研發(fā),、生產(chǎn)與銷(xiāo)售,產(chǎn)品線(xiàn)覆蓋芯片光刻膠,、LCD 光刻膠,、納米壓印光刻膠、半導(dǎo)體錫膏,、焊片及靶材等領(lǐng)域,。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱(chēng),,廣泛應(yīng)用于芯片制造,、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。

公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)積累,,構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系,,擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備及多項(xiàng)技術(shù),。原材料均選用美國(guó)、德國(guó),、日本進(jìn)口的材料,,并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證,生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn),,確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性,。目前,吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作,,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球市場(chǎng),,致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)。
浙江厚膜光刻膠供應(yīng)商LCD 光刻膠供應(yīng)商哪家好,?吉田半導(dǎo)體高分辨率 + 低 VOC 配方,!

吉林紫外光刻膠工廠(chǎng),光刻膠

關(guān)鍵工藝流程

 涂布與前烘:

? 旋涂或噴涂負(fù)性膠,厚度可達(dá)1-100μm(遠(yuǎn)厚于正性膠),,前烘溫度60-90℃,,去除溶劑并增強(qiáng)附著力。

 曝光:

? 光源以**汞燈G線(xiàn)(436nm)**為主,,適用于≥1μm線(xiàn)寬,,曝光能量較高(約200-500mJ/cm2),,需注意掩膜版與膠膜的貼合精度,。

 顯影:

? 使用有機(jī)溶劑顯影液(如二甲苯、醋酸丁酯),,未曝光的未交聯(lián)膠膜溶解,,曝光的交聯(lián)膠膜保留。

 后處理:

? 后烘(Post-Bake):加熱(100-150℃)進(jìn)一步固化交聯(lián)結(jié)構(gòu),,提升耐干法蝕刻或濕法腐蝕的能力,。

 感光機(jī)制

? 重氮型(雙液型):需混合光敏劑(如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉),曝光后通過(guò)交聯(lián)反應(yīng)固化,,適用于精細(xì)圖案(如PCB電路線(xiàn)寬≤0.15mm),。

? SBQ型(單液型):預(yù)混光敏劑,無(wú)需調(diào)配,,感光度高(曝光時(shí)間縮短30%),,適合快速制版(如服裝印花)。

? 環(huán)保型:采用無(wú)鉻配方(如CN10243143A),,通過(guò)多元固化體系(熱固化+光固化)實(shí)現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光,,分辨率達(dá)2μm,符合歐盟REACH標(biāo)準(zhǔn),。

 功能細(xì)分

? 耐溶劑型:如日本村上AD20,,耐酒精,、甲苯等溶劑,適用于電子油墨印刷,。

? 耐水型:如瑞士科特1711,,抗水性強(qiáng),適合紡織品水性漿料,。

? 厚版型:如德國(guó)K?ppen厚版膠,,單次涂布可達(dá)50μm,用于立體印刷,。


典型應(yīng)用場(chǎng)景:

? PCB制造:使用360目尼龍網(wǎng)+重氮感光膠,,配合LED曝光(405nm波長(zhǎng)),實(shí)現(xiàn)0.15mm線(xiàn)寬,,耐酸性蝕刻液,。

? 紡織印花:圓網(wǎng)制版采用9806A型感光膠,涂布厚度20μm,,耐堿性染料色漿,,耐印率超10萬(wàn)次。

? 包裝印刷:柔版制版選用杜邦賽麗® Lightning LFH版材,,UV-LED曝光+無(wú)溶劑工藝,,碳排放降低40%。
挑戰(zhàn)與未來(lái)展望的發(fā)展,。

吉林紫外光刻膠工廠(chǎng),光刻膠

? 化學(xué)反應(yīng):

? 正性膠:曝光后光敏劑(如重氮醌DQN)分解,,生成羧酸,在堿性顯影液中溶解,;

? 負(fù)性膠:曝光后光敏劑引發(fā)交聯(lián)劑與樹(shù)脂形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。

5. 顯影(Development)

? 顯影液:

? 正性膠:堿性水溶液(如0.26N四甲基氫氧化銨TMAH),溶解曝光區(qū)域,;

? 負(fù)性膠:有機(jī)溶劑(如二甲苯,、醋酸丁酯),溶解未曝光區(qū)域,。

? 方法:噴淋顯影(PCB)或沉浸式顯影(半導(dǎo)體),,時(shí)間30秒-2分鐘,需控制顯影液濃度和溫度,。

6. 后烘(Post-Bake)

? 目的:固化膠膜,,提升耐蝕刻性和熱穩(wěn)定性。

? 條件:

? 溫度:100-150℃(半導(dǎo)體用正性膠可能更高,,如180℃),;

? 時(shí)間:15-60分鐘(厚膠或高耐蝕需求時(shí)延長(zhǎng))。

7. 蝕刻/離子注入(后續(xù)工藝)

? 蝕刻:以膠膜為掩膜,,通過(guò)濕法(酸堿溶液)或干法(等離子體)刻蝕基板材料(如硅,、金屬,、玻璃);

? 離子注入:膠膜保護(hù)未曝光區(qū)域,,使雜質(zhì)離子只能注入曝光區(qū)域(半導(dǎo)體摻雜工藝),。

8. 去膠(Strip)

? 方法:

? 濕法去膠:強(qiáng)氧化劑(如硫酸+雙氧水)或有機(jī)溶劑(如N-甲基吡咯烷酮NMP);

? 干法去膠:氧等離子體灰化(半導(dǎo)體領(lǐng)域,,無(wú)殘留),。

告別顯影殘留!化學(xué)增幅型光刻膠助力封裝,。水性光刻膠工廠(chǎng)

松山湖半導(dǎo)體材料廠(chǎng)家吉田,,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!吉林紫外光刻膠工廠(chǎng)

依托自主研發(fā)與國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈,,吉田半導(dǎo)體 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,,躋身國(guó)內(nèi)前段企業(yè)。吉田半導(dǎo)體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂與單體,,實(shí)現(xiàn) 100% 國(guó)產(chǎn)化替代,。其分辨率 0.35μm,附著力 > 3N/cm,,性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列,。通過(guò)與國(guó)內(nèi)多家大型企業(yè)的深度合作,產(chǎn)品覆蓋智能手機(jī),、電視等顯示終端,,年供貨量超 200 噸。公司建立國(guó)產(chǎn)原材料溯源體系,,確保每批次產(chǎn)品穩(wěn)定性,,推動(dòng) LCD 面板材料國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程。

吉林紫外光刻膠工廠(chǎng)

標(biāo)簽: 光刻膠 錫膏 錫片