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廣東光刻膠工廠

來(lái)源： 發(fā)布時(shí)間：2025-06-15

光刻膠的工作原理：
1. 涂覆與曝光：在基底（如硅片、玻璃,、聚合物）表面均勻涂覆光刻膠,，通過(guò)掩膜（或直接電子束掃描）對(duì)特定區(qū)域曝光。

2. 化學(xué)變化：曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)（正性膠曝光后溶解,，負(fù)性膠曝光后交聯(lián)不溶）。

3. 顯影與刻蝕：溶解未反應(yīng)的部分,，留下圖案化的膠層,，作為后續(xù)刻蝕或沉積的掩模，將圖案轉(zhuǎn)移到基底上,。

在納米技術(shù)中,，關(guān)鍵挑戰(zhàn)是突破光的衍射極限（λ/2），因此需依賴高能束曝光技術(shù)（如電子束光刻,、極紫外EUV光刻）和高性能光刻膠（高分辨率,、低缺陷）。

吉田半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐,。廣東光刻膠工廠

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作為深耕半導(dǎo)體材料領(lǐng)域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終將技術(shù)創(chuàng)新與產(chǎn)品質(zhì)量視為重要發(fā)展動(dòng)力。公司位于東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群,，依托區(qū)域產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì),，持續(xù)為全球客戶提供多元化的半導(dǎo)體材料解決方案。

公司產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠,、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體錫膏,、焊片及靶材等,，原材料均嚴(yán)格選用美國(guó)、德國(guó),、日本等國(guó)的質(zhì)量進(jìn)口材料,。通過(guò)全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備與精細(xì)化工藝控制，確保每批次產(chǎn)品的穩(wěn)定性與一致性,。例如,，納米壓印光刻膠采用特殊配方，可耐受 250℃高溫及復(fù)雜化學(xué)環(huán)境,，適用于高精度納米結(jié)構(gòu)制造,；LCD 光刻膠以高分辨率和穩(wěn)定性，成為顯示面板行業(yè)的推薦材料,。


中山LED光刻膠國(guó)產(chǎn)廠商吉田半導(dǎo)體全流程解決方案,，賦能客戶提升生產(chǎn)效率。

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技術(shù)優(yōu)勢(shì)：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹脂合成,、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化,。例如，其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開發(fā)的樹脂體系,，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率,，適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域,。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗(yàn),，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術(shù),，部分原材料純度達(dá)PPT級(jí),。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn)

? 納米壓印光刻膠：在納米級(jí)圖案化領(lǐng)域（如量子點(diǎn)顯示、生物芯片）實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破,，分辨率達(dá)3μm,，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空缺。

? LCD光刻膠：針對(duì)顯示面板行業(yè)需求,，開發(fā)出高感光度,、高對(duì)比度的光刻膠,，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù),。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證,，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠，計(jì)劃2025年啟動(dòng)半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā),。

吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘,，國(guó)產(chǎn)替代再迎新進(jìn)展

自主研發(fā) ArF 光刻膠通過(guò)中芯國(guó)際驗(yàn)證,，吉田半導(dǎo)體填補(bǔ)國(guó)內(nèi)光刻膠空白,。
吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達(dá) 90nm,，適用于 14nm 及以上制程,，已通過(guò)中芯國(guó)際量產(chǎn)驗(yàn)證。該產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與自主配方,，突破日本企業(yè)對(duì) ArF 光刻膠的壟斷,。其光酸產(chǎn)率提升 30%，蝕刻選擇比達(dá) 4:1,，性能對(duì)標(biāo)日本信越的 ArF 系列,。吉田半導(dǎo)體的技術(shù)突破加速了國(guó)產(chǎn)芯片制造材料自主化進(jìn)程，為國(guó)內(nèi)晶圓廠提供高性價(jià)比解決方案,。
吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā),，布局下一代光刻技術(shù)。

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  1. 產(chǎn)品特點(diǎn)：耐溶劑型優(yōu)良,，抗潮耐水性好,，耐印率高；固含量高,，流平性好,，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,，網(wǎng)版平滑,、無(wú)白點(diǎn)、無(wú)沙眼,、亮度高,；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用,；解像性,、高架橋性好，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條,；感光度高,，曝光時(shí)間短,，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,，提高工作效率 ,。
  2. 應(yīng)用范圍：適用于塑料、皮革,、標(biāo)牌,、印刷電路板（PCB）、廣告宣傳,、玻璃,、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案,，滿足皮革制品精細(xì)印刷需求，制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,，用于 PCB 制造滿足高精度要求等,。
感光膠的工藝和應(yīng)用。無(wú)錫納米壓印光刻膠多少錢

政策支持：500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈,。廣東光刻膠工廠

客戶認(rèn)證：從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)線的漫長(zhǎng)“闖關(guān)”

 驗(yàn)證周期與試錯(cuò)成本
半導(dǎo)體光刻膠需經(jīng)歷PRS（性能測(cè)試）,、STR（小試）、MSTR（中批量驗(yàn)證）等階段,，周期長(zhǎng)達(dá)2-3年,。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動(dòng)驗(yàn)證，直至2025年才通過(guò)客戶50nm閃存平臺(tái)認(rèn)證,。試錯(cuò)成本極高,，單次晶圓測(cè)試費(fèi)用超百萬(wàn)元，且客戶為維持產(chǎn)線穩(wěn)定,，通常不愿更換供應(yīng)商,。

 設(shè)備與工藝的協(xié)同難題
光刻膠需與光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)等設(shè)備高度匹配,。國(guó)內(nèi)企業(yè)因缺乏ASML EUV光刻機(jī)測(cè)試資源,，只能依賴二手設(shè)備或與晶圓廠合作驗(yàn)證，導(dǎo)致研發(fā)效率低下,。例如,，華中科技大學(xué)團(tuán)隊(duì)開發(fā)的EUV光刻膠因無(wú)法接入ASML原型機(jī)測(cè)試，性能參數(shù)難以對(duì)標(biāo)國(guó)際,。
廣東光刻膠工廠

標(biāo)簽： 錫膏 光刻膠 錫片