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河北負性光刻膠國產(chǎn)廠商

來源: 發(fā)布時間:2025-06-16

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,,適用于不同領(lǐng)域,。

厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,,抗深蝕刻性能良好,。符合歐盟 ROHS 標準,保質(zhì)期 1 年,,適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,,如一些特殊的電路板制造。

SU - 3 負性光刻膠:分辨率優(yōu)異,,對比度良好,,曝光靈敏度高,光源適應(yīng),。重量為 100g,,常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,,具有優(yōu)異的分辨率,準確性和穩(wěn)定性好,。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,,能滿足其對光刻膠高精度和穩(wěn)定性的需求。

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠:耐強酸強堿,,耐高溫達 250°C,,長期可靠性高,粘接強度高,。重量 100g,,適用于需要在特殊化學(xué)和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝,如一些半導(dǎo)體器件的制造,。 半導(dǎo)體材料選吉田,,歐盟認證,,支持定制化解決方案!河北負性光刻膠國產(chǎn)廠商

河北負性光刻膠國產(chǎn)廠商,光刻膠

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),,是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā),、生產(chǎn)與銷售的技術(shù)企業(yè)。公司注冊資本 2000 萬元,,擁有 23 年行業(yè)經(jīng)驗,,產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠,、LCD 光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等,,服務(wù)全球市場并與多家世界 500 強企業(yè)建立長期合作關(guān)系,。
作為國家技術(shù)企業(yè),吉田半導(dǎo)體以科技創(chuàng)新為驅(qū)動力,,擁有多項技術(shù),,并通過 ISO9001:2008 質(zhì)量體系認證。生產(chǎn)過程嚴格遵循 8S 現(xiàn)場管理標準,,原材料均采用美,、德、日等國進口的材料,,確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠,。公司配備全自動化生產(chǎn)設(shè)備,具備行業(yè)大型的規(guī)?;a(chǎn)能力,,致力于成為 “半導(dǎo)體材料方案提供商”。
其明星產(chǎn)品包括:適用于 LCD 制造的正性光刻膠 YK-200/YK-300,,具備高分辨率與優(yōu)異涂布性能,;3 微米負性光刻膠 SU-3,適用于厚膜工藝,;耐高溫達 250℃的納米壓印光刻膠 JT-2000,,可滿足高精度微納加工需求。所有產(chǎn)品均符合要求,,部分型號通過歐盟 ROHS 認證,。
河南低溫光刻膠國產(chǎn)廠商光刻膠的關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域。

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納米電子器件制造

? 半導(dǎo)體芯片:在22nm以下制程中,,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極,、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管),。

? 二維材料器件:在石墨烯,、二硫化鉬等二維材料表面,,通過電子束光刻膠定義納米電極陣列,構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器,。

 納米光子學(xué)與超材料

? 光子晶體與波導(dǎo):利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)(如光子晶體光纖,、納米級波導(dǎo)彎頭),調(diào)控光的傳播路徑,,用于集成光路或量子光學(xué)器件,。

? 超材料設(shè)計:在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級“魚網(wǎng)狀”“蝴蝶結(jié)”等圖案(如太赫茲超材料),實現(xiàn)對電磁波的超常調(diào)控(吸收,、偏振轉(zhuǎn)換),。

吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈:

  • 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國際、長江存儲,,支持國產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn),。
  • 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達 15%,成為京東方,、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴,。
  • 新能源領(lǐng)域:無鹵無鉛焊片通過 UL 認證,批量應(yīng)用于寧德時代儲能系統(tǒng),,年供貨量超 500 噸,。
  • 研發(fā)投入:年研發(fā)費用占比超 15%,,承擔國家 02 專項課題,,獲 “國家技術(shù)發(fā)明二等獎”。
  • 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,,納米壓印光刻膠占全球市場份額 15%,。
  • 質(zhì)量體系:通過 ISO9001、IATF 16949 等認證,,生產(chǎn)過程執(zhí)行 8S 管理,,批次穩(wěn)定性達 99.5%。
吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),,加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,,目標在 2027 年前實現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時,,深化國產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,,構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻 “吉田力量”,。
從突破國際壟斷到行業(yè)標準,,吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎,走出了一條中國半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路,。未來,,公司將以更具競爭力的產(chǎn)品與技術(shù),,助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階。
深圳光刻膠廠家哪家好,?

河北負性光刻膠國產(chǎn)廠商,光刻膠

  1. 正性光刻膠(如 YK-300)
    應(yīng)用場景:用于芯片的精細圖案化,,如集成電路(IC)、分立器件(二極管,、三極管)的制造,。
    特點:高分辨率(可達亞微米級),適用于多層光刻工藝,,確保芯片電路的高精度與可靠性,。
  2. 負性光刻膠(如 JT-1000)
    應(yīng)用場景:用于功率半導(dǎo)體(如 MOSFET、IGBT)的制造,,以及傳感器(如 MEMS)的微結(jié)構(gòu)成型,。
    特點:抗蝕刻能力強,適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移,,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異,。
  3. 納米壓印光刻膠(JT-2000)
    應(yīng)用場景:第三代半導(dǎo)體(GaN、SiC)芯片,、量子點器件及微流控芯片的制造,。特點:耐高溫(250℃)、耐酸堿,,支持納米級精度圖案復(fù)制,,降低芯片的制造成本。
吉田公司以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠,。廣東阻焊油墨光刻膠

松山湖光刻膠廠家吉田,,2000 萬級產(chǎn)能,48 小時極速交付,!河北負性光刻膠國產(chǎn)廠商

聚焦先進封裝需求,,吉田半導(dǎo)體提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),助力高性能芯片制造,。
在 5G 芯片與 AI 處理器封裝領(lǐng)域,,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 SU-3 負性光刻膠支持 3μm 厚膜加工,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,,為高密度金屬互連提供可靠支撐,。其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術(shù)(180℃),焊接空洞率 < 5%,;針筒錫膏適用于 01005 超微型元件,,印刷精度達 ±5μm。通過標準化實驗室與快速響應(yīng)團隊,公司為客戶提供工藝優(yōu)化建議,,幫助降低生產(chǎn)成本,,增強市場競爭力。河北負性光刻膠國產(chǎn)廠商

標簽: 光刻膠 錫膏 錫片