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珠海UV納米光刻膠國產(chǎn)廠商

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-06-16

以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為,吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠,助力電子產(chǎn)業(yè)低碳轉(zhuǎn)型,。面對全球環(huán)保趨勢,吉田半導(dǎo)體推出無鹵無鉛錫膏與焊片,,通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,焊接可靠性提升 30%,。其 LCD 光刻膠采用低 VOC 配方(<50g/L),,符合歐盟 REACH 法規(guī),生產(chǎn)過程中通過多級廢氣處理與水循環(huán)系統(tǒng),,實(shí)現(xiàn)零排放,。公司嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,工業(yè)固廢循環(huán)利用率超 90%,,為新能源汽車,、光伏儲能等領(lǐng)域提供綠色材料解決方案,,成為全球客戶信賴的環(huán)保材料供應(yīng)商,。納米壓印光刻膠哪家強(qiáng)?吉田半導(dǎo)體附著力提升 30%!珠海UV納米光刻膠國產(chǎn)廠商

珠海UV納米光刻膠國產(chǎn)廠商,光刻膠

憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠,、焊接材料,、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,,不僅提供常規(guī)錫膏,、助焊膏,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏,、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時(shí),,感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,,兼具耐潮性與易操作性,廣泛應(yīng)用于印刷電路板制造,。

公司產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,,并與多家跨國企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作關(guān)系。通過在重點(diǎn)區(qū)域設(shè)立辦事處,,提供快速響應(yīng)的技術(shù)支持與售后服務(wù),。依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)資源,,公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短交付周期,,為客戶提供高效解決方案,。

未來,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司將繼續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新,,拓展產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域,,以可靠的產(chǎn)品與專業(yè)的服務(wù),持續(xù)鞏固其在半導(dǎo)體材料行業(yè)的重要地位,。

黑龍江油性光刻膠品牌嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì),,吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢。

珠海UV納米光刻膠國產(chǎn)廠商,光刻膠

光刻膠(Photoresist)是一種對光敏感的高分子材料,,主要用于光刻工藝中,,通過光化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,是半導(dǎo)體,、集成電路(IC),、印刷電路板(PCB)、液晶顯示(LCD)等制造領(lǐng)域的材料之一,。

光刻膠特性與組成

? 光敏性:在特定波長(如紫外光,、極紫外光EUV等)照射下,會發(fā)生化學(xué)結(jié)構(gòu)變化(如交聯(lián)或分解),,從而改變在顯影液中的溶解性,。

? 主要成分:

? 樹脂(成膜劑):形成基礎(chǔ)膜層,決定光刻膠的機(jī)械和化學(xué)性能,。

? 光敏劑:吸收光能并引發(fā)化學(xué)反應(yīng)(如光分解,、光交聯(lián))。

? 溶劑:調(diào)節(jié)粘度,,便于涂覆成膜,。

? 添加劑:改善性能(如感光度、分辨率,、對比度等),。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,主要涵蓋厚板,、負(fù)性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,,以滿足不同領(lǐng)域的需求,。

厚板光刻膠:JT-3001 型號,具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),,保質(zhì)期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,,如特定電路板制造,。

負(fù)性光刻膠

  • SU-3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,對比度良好,,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工,、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。
  • 負(fù)性光刻膠 JT-1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,,具有優(yōu)異的分辨率,、良好的對比度和高曝光靈敏度,光源適應(yīng),。主要應(yīng)用于對光刻精度要求高的領(lǐng)域,,如半導(dǎo)體器件制造。
  • 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100:重量 1L,,具備耐腐蝕特性,。適用于有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝,如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造,。


光刻膠的技術(shù)挑戰(zhàn)現(xiàn)在就是需要突破難關(guān),!

珠海UV納米光刻膠國產(chǎn)廠商,光刻膠

定義與特性

正性光刻膠是一種在曝光后,曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料,,形成與掩膜版(Mask)圖案一致的圖形,。與負(fù)性光刻膠(未曝光區(qū)域溶解)相比,其優(yōu)勢是分辨率高,、圖案邊緣清晰,是半導(dǎo)體制造(尤其是制程)的主流選擇,。

化學(xué)組成與工作原理

 主要成分

? 樹脂(成膜劑):

? 傳統(tǒng)正性膠:采用**酚醛樹脂(Novolak)與重氮萘醌(DNQ,,光敏劑)**的復(fù)合體系(PAC體系),占比約80%-90%,。

? 化學(xué)增幅型(用于DUV/EUV):含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物,,搭配光酸發(fā)生器(PAG),通過酸催化反應(yīng)提高感光度和分辨率,。

? 溶劑:溶解樹脂和感光劑,,常用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)或乳酸乙酯。

? 添加劑:表面活性劑(改善涂布均勻性),、穩(wěn)定劑(防止暗反應(yīng)),、堿溶解度調(diào)節(jié)劑等,。

 工作原理

? 曝光前:光敏劑(如DNQ)與樹脂結(jié)合,形成不溶于堿性顯影液的復(fù)合物,。

? 曝光時(shí):

? 傳統(tǒng)PAC體系:DNQ在紫外光(G線436nm,、I線365nm)照射下發(fā)生光分解,生成羧酸,,使曝光區(qū)域樹脂在堿性顯影液中溶解性增強(qiáng),。

? 化學(xué)增幅型:PAG在DUV/EUV光下產(chǎn)生活性酸,催化樹脂發(fā)生脫保護(hù)反應(yīng),,大幅提高顯影速率(靈敏度提升10倍以上),。

? 顯影后:曝光區(qū)域溶解去除,未曝光區(qū)域保留,,形成正性圖案,。
吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā),布局下一代光刻技術(shù),。杭州UV納米光刻膠供應(yīng)商

吉田半導(dǎo)體材料的綠色環(huán)保與可持續(xù)發(fā)展,。珠海UV納米光刻膠國產(chǎn)廠商

作為東莞松山湖的企業(yè),吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠,。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,,良率達(dá) 98% 以上,,已通過中芯國際等晶圓廠驗(yàn)證;JT-2000 突破耐高溫極限,,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,,適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進(jìn)口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,,產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),,遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,加速國產(chǎn)替代進(jìn)程,。珠海UV納米光刻膠國產(chǎn)廠商

標(biāo)簽: 錫膏 錫片 光刻膠