真空鍍膜的方法：濺射鍍膜：濺射鍍膜有很多種方式。按電極結(jié)構(gòu),、電極相對(duì)位置以及濺射的過(guò)程,可以分為二極濺射,、三極或四極濺射、磁控濺射,、對(duì)向靶濺射,、和ECR濺射。除此之外還根據(jù)制作各種薄膜的要求改進(jìn)的濺射鍍膜技術(shù),。比較常用的有:在Ar中混入反應(yīng)氣體如O2,、N2、CH4,、C2H2等,則可制得鈦的氧化物,、氮化物、碳化物等化合物薄膜的反應(yīng)濺射,。在成膜的基板上施加直到500V的負(fù)電壓,使離子轟擊膜層的同時(shí)成膜,由此改善膜層致密性的偏壓濺射,。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):可以通過(guò)涂料處理形成彩色膜,，其裝潢效果是鋁箔所不及的。湛江真空鍍膜儀

磁控濺射一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,，電漿中的陽(yáng)離子會(huì)加速?zèng)_向作為被濺鍍材的負(fù)電極表面,，這個(gè)沖擊將使靶材的物質(zhì)飛出而沉積在基板上形成薄膜。磁控濺射主要利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜,。濺鍍薄膜的性質(zhì),、均勻度都比蒸鍍薄膜來(lái)的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢比較多。新型的濺鍍?cè)O(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率,。湛江真空鍍膜儀真空鍍膜中離子鍍的鍍層無(wú)小孔,。

磁控濺射是物理沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,。一般的濺射法可被用于制備金屬,、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,，且具有設(shè)備簡(jiǎn)單,、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),，而上世紀(jì) 70 年代發(fā)展起來(lái)的磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速,、低溫、低損傷,。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),，利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率,，可以在樣品表面蒸鍍致密的薄膜。

真空鍍膜的方法：離子鍍：在機(jī)加工刀具方面,鍍制的TiN,、TiC以其硬度高,、耐磨性好,不粘刀等特性,使得刀具的使用壽命可提高3~10倍,生產(chǎn)效率也提高。在固體潤(rùn)滑膜方面,Z新研制的多相納米復(fù)合膜TiN-MoS2/Ti及TiN-MoS2/WSe2,這類薄膜具有摩擦系數(shù)低,摩擦噪聲小,抗潮濕氧化能力較高,高低溫性能好,抗粉塵磨損能力較強(qiáng)及磨損壽命較長(zhǎng)等特點(diǎn),被普遍運(yùn)用于車輛零部件上,。與此同時(shí),離子鍍鈦也在航空航天,光學(xué)器件等領(lǐng)域應(yīng)用普遍,收效顯著,。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。真空鍍膜技術(shù)有真空束流沉積鍍膜,。

真空鍍膜：在真空中制備膜層,，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體,、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜,。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜,。真空鍍膜有三種形式,，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍,。真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代,，四五十年代開(kāi)始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開(kāi)始于20世紀(jì)80年代,，在電子,、宇航、包裝,、裝潢,、燙金印刷等工業(yè)中取得普遍的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下,，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料）,，屬于物理的氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱真空金屬化,。真空蒸發(fā)鍍膜是真空室中，加熱蒸發(fā)容器待形成薄膜的原材料,，使其原子或者分子從表面氣化逸出,，形成蒸汽流。湛江真空鍍膜儀

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,。湛江真空鍍膜儀

真空鍍膜：真空涂層技術(shù)發(fā)展到了現(xiàn)在還出現(xiàn)了PCVD（物理化學(xué)氣相沉積）,、MT-CVD（中溫化學(xué)氣相沉積）等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備,、各種涂層工藝層出不窮,。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,，容易操作,。多弧鍍的不足之處是,，在用傳統(tǒng)的DC電源做低溫涂層條件下,，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0。3um時(shí),，沉積率與反射率接近,，成膜變得非常困難。而且,，薄膜表面開(kāi)始變朦,。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā),，因此沉積顆粒較大,，致密度低,，耐磨性比磁控濺射法成膜差?？梢?jiàn),，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優(yōu)劣，為了盡可能地發(fā)揮它們各自的優(yōu)越性,，實(shí)現(xiàn)互補(bǔ),，將多弧技術(shù)與磁控技術(shù)合而為一的涂層機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在工藝上出現(xiàn)了多弧鍍打底,，然后利用磁控濺射法增厚涂層,，較后再利用多弧鍍達(dá)到較終穩(wěn)定的表面涂層顏色的新方法。湛江真空鍍膜儀